随着生产的进行，亚磷酸盐浓度会越来越高，于是反应速度受生成物浓度的长高而压制，所以镍缸寿命末期与初期的沉积速度相差1/3则为正常现象。但此先天不足可采用调整反应物浓度方式予以弥补，开缸初期Ni浓度控制在4.60g/L，随着MTO的增加Ni浓度控制值随之提高，直至5.0g/L停止。以维持析出速度及磷含量的稳定，以确保镀层品质。影响镍缸活性重要的因素是稳定剂的含量，常用的稳定剂是Pb(CH3COO)2或硫脲，也有两种同时使用的。稳定剂的作用是控制化学镍金的选择性，适量的稳定剂可以使活化后的铜面发生良好的镍沉积，而基材或绿油部分则不产生化学沉积。清洗印制电路板的传统方法是用有机溶剂清洗。显影液供求信息
循环过滤泵﹑加热及打气装置：循环过滤泵，为保持槽液有一定的循环效果，除油﹑微蚀﹑活化﹑沉镍﹑沉金各缸都需要加装循环泵，除镍缸之外以上各缸还需加装过滤器，通过5μm滤芯来过滤槽液。对于镍缸其循环不但要求均匀，有利于PCB药液扩散和温度扩散，而且不能流速太快而影响化学镍金的沉积，通常其循环量6-7turn over为佳。同时镍缸还需过滤，以除去槽液中杂物。由于棉芯容易上镍，所以应首先考虑布袋式过滤系统。关于镍缸的溢流问题，由主缸流入副缸，更有利于药水扩散和温度平衡。杭州超粗化微蚀液PME-6008PCB/FPC药液是在PCB/FPC板厂生产制程中，需要用到的各种化学药液、药剂。
化学镀镍PCB药液溶液是一个热力学不稳定体系，常常在镀件表面以外的地方发生还原反应，当镀液中产生一些有催化效应的活性微粒——催化关键时，镀液容易产生激烈的自催化反应，即自分解反应而产生大量镍-磷黑色粉末，导致镀液寿命终止，造成经济损失。在镀液中加入一定量的吸附性强的无机或有机化合物，它们能优先吸附在微粒表面压制催化反应从而稳定镀液，使镍离子的还原只发生在被镀表面上。但必须注意的是，稳定剂是一种化学镀镍毒化剂，即负催化剂，稳定剂不能使用过量，过量后轻则降低镀速，重则不再起镀，因此使用必须慎重。
电镀镍金是PCB表面处理工艺的鼻祖，自从PCB出现它就出现，慢慢演化出其它工艺。电镀镍金就是在PCB表面导体先电镀上一层镍之后再电镀上一层金，镀镍主要是防止金和铜之间的扩散。电镀镍金有两类：镀软金(纯金，金表面看起来不亮)和镀硬金(表面平滑坚硬，耐磨，含有钴等其它元素，表面看起来较光亮)。软金主要用于芯片封装时打金线;硬金主要用在非焊接处的电性互连(如金手指)。正常情况下，焊接会导致电镀金变脆，这将缩短使用寿命，因而要避免在电镀金上进行焊接;而化学镀镍/浸金由于金很薄且一致，变脆现象很少发生。化学镀钯的过程与化学镀镍的过程相近似。主要过程是通过还原剂(如次磷酸二氢钠)使钯离子在催化的表面还原成钯，新生的钯可称为推动反应的催化剂，因而可得到任意厚度的镀钯层。化学镀钯的优点为良好的焊接可靠性、热稳定性、表面平整性。缺点为钯是一种较为稀少的贵金属，因而成本会增加。化学镀镍药液可在材料表面镀上均一的镍磷合金，应用范围普遍。
作为化学沉积的金属镍，其本身也具备催化能力。由于其催化能力劣于钯晶体，所以反应初期主要是钯的催化作用在进行。当镍的沉积将钯晶体完全覆盖时，如果镍缸活性不足，化学沉积就会停止，于是漏镀问题就产生了。这种渗镀与镍缸活性严重不足所产生的漏镀不同，前者因已沉积大约20μ"的薄镍，因而漏镀Pad位在沉金后呈现白色粗糙金面，而后者根本无化学镍的沉积，外观至发黑的铜色。从化学镍沉积的反应看出，在金属沉积的同时，伴随着单质磷的析出。而且随着PH值的升高，镍的沉积速度加快的同时，磷的析出速度减慢，结果则是镍磷合金的P含量降低。真空镀膜主要包含：真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种典范。光刻胶除胶剂报价
电镀因为有外加的电流，所以镀速要比化学镀快得多，同等厚度的镀层电镀要比化学镀提前完成。显影液供求信息
当稳定剂含量偏低时，化学镍金的选择性变差，PCB表面稍有活性的部分都发生镍沉积，于是渗镀问题就发生了。当稳定剂含量偏高时，化学沉积的选择性太强，PCB漏铜面只有活化效果很好的铜位才发生镍沉积，于是部分Pad位出现漏镀的现象。镀覆PCB的装载量(以裸铜面积计)应适中，以0.2~0.5dm/L为宜。负载太大会导致镍缸活性逐渐升高，甚至导致反应失控﹔负载太低会导致镍缸活性逐渐降低，造成漏镀问题。在批量生产过程中，负载应尽可能保持一致，避免空缸或负载波动太大的现象。显影液供求信息
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