升），慢慢散布整个印迹中的抗体。应用至少2.5mL（用于MultBlot），5mL（用于Miniblot）或10mL（用于Midi印迹）抗体。抗体体积低没有抗体回收盘确保抗体中的孔，回收托盘algn恢复正确放置戴姆·贝叶'底部的针脚。'处理了两帧首先对一帧施加真空，然后再对另一帧施加真空，以确保同时在每个框架上施加足够的真空力。MultiBlot框架用于在MuHBlot框架中进行单点印迹时，放置正确汉克处理一次印迹，然后空白卡在空井。未放入空白卡空井。 规格方面底座（长x宽x上海益启生物的加速完成WB实验和IHC实验询价公司电话。普陀区可用于IHC实验加速WB实验加速器联系方式
将管道的另一端连接到真空源。使用一升的真空烧瓶作为疏水阀和一个Millex-FA。过滤器（目录号SLFA05010）可保护真空源不受污染，如下所示。注意：任何可以产生410毫巴（12inHg）和34L/min的真空源就足够了。如果是真空如果源的工作温度高于410毫巴，则SNAPi.d.2.0系统将自动调节真空度压力。如果真空源不足，则流经系统的流量可能会不一致，从而导致更长的时间。处理时间和/或抗体回收率差。 印迹大会和总议定书 1.用支撑层（蓝色边缘）握住吸墨纸托并弄湿膜层松江区Merck实验加速器WB实验加速器哪家好MerckWB实验加速器可半天完成WB实验。
下压框架并施加真空。等待5-8秒，直到框架完全是空的。9.在连续运行真空的情况下，添加30mL洗涤缓冲液（MultiBlot为15毫升）。重复洗涤步骤3次以上（总共4次洗涤）。当框架完全为空时，将TURN真空关闭。10.在印迹架的表面上涂适量的二抗（对于多印迹，为2.5mL，5毫升用于迷你印迹，或10毫升用于Midi印迹）。在室温下孵育10分钟，然后关闭真空。同样，溶液将被吸收到印迹架中，并且表面可能看起来干燥。重要提示：孵育10分钟后，再抽真空。11.向下压框架并施加真空。
行设置。●具有螺纹和迭代功能的完美安全特性泄压阀，无需外部外壳这意味着更容易组装和拆卸，而且非常清晰确认迪伊已经妥善摆弄。总体上较高的象素●膜片的选择范围更广。●经过普遍修订的用户指南，提供了更清晰的操作说明和如何与您的气源连接●更好的备件和配件支持●更安全的搅拌棒消除了损坏膜的风险。 SNAPi.d.@2.0系统的零件和功能SNAPi.d.02.0系统包含以下组成部分：部分功能SNAPi.d.o2.0基本套件（包括以下组件）SNAP2BASE基本单位（1）接受框架并进行免疫Merck同时操作4个WB实验加速上海授权代理商。
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