企业商机
抛光液基本参数
  • 产地
  • 苏州
  • 品牌
  • 豪迈瑞
  • 型号
  • 100
  • 是否定制
抛光液企业商机

市面常见抛光液  硅材料抛光液、蓝宝石抛光液、砷化镓抛光液、铌酸锂抛光液、锗抛光液、集成电路多次铜布线抛光液、集成电路阻挡层抛光液、研磨抛光液、电解抛光液、不锈钢电化学抛光液,不锈钢抛光液、石材专用纳米抛光液、氧化铝抛光液、铜化学抛光液、铝合金抛光液、镜面抛光液、铜抛光液、玻璃研磨液、蓝宝石研磨液、酸性抛光液、铝材抛光液、金刚石抛光液、钻石抛光液、单晶体钻石研磨液、抛光膏  抛光液的分类和应用  抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。本公司销售的纳米抛光液应用范围:透明陶瓷:高压钠灯灯管、EP-ROM窗口。浙江进口金刚石抛光液规格

    依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:(1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。(2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用,则表面产生高损伤层。 山东钻石抛光液品牌纳米 抛光液用 于硬质材料的超精密抛光过程,可使被抛表面粗糙度低于0.2nm。

氧化铝抛光液。α-氧化铝(刚玉)硬度高,稳定性好,纳米氧化铝适用于光学镜头、单芯光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面等方面的精密抛光,是一种使用的无机磨料。现在以高亮度Ga N基蓝光LED为的半导体照明技术对照明领域带来了很大的冲击,并成为目前全球半导体领域研究的热点。但由于Ga N很难制备,必须在其他衬底材料上外延生长薄膜,作为Ga N的衬底材料有多种,目前,蓝光和白光LED 芯片均采用蓝宝石晶片或碳化硅晶片为衬底晶片,因此,晶片的抛光也成为关注的焦点。近年来,国际上采用了一种新的工艺,即用Al2O3抛光液一次完成蓝宝石晶片研磨和抛光,提高蓝宝石和Si C晶片的抛光效率。

    据报道,早在新石器时期出土的器件中就有磨光的痕迹。大量出土的秦俑实际制作时已采用了机械磨亮的抛光技术。西汉时期的青铜镜镜面加工技术更是负有盛名,在《淮南子》中有对应的描述。以上所有这些表面整平、抛光都是先用简单的具有一定粗糙度的工具与被整平物体相互摩擦达到整平的目的,然后用较细的砂粒或柔软具有韧性的纤维物配以磨料摩擦进一步达到光亮(抛光)的目的。如宋代已有用氧化铁作为磨料的抛光技术,这种技术要比国外早数百年。这就是早使用的表面抛光技术,也是至今仍在使用的机械抛光技术的原型。随后随着人类社会的进步和科学水平的提高,人们发现将研磨材料做成圆盘形平板或将研磨材料的粒子装在圆盘或带子上使其运转,并将被整平工件的抛光表面放在上面可以得到不同程度的平整和光亮度,而且可以节省人力、提高效率。发展到,这种方法演变成为现代的各种形式的机械抛光技术。 本公司的纳米抛光液适合各种宝石研磨抛光、电子磁性材料的研磨抛光。

    镍离子:单独使用对于光泽度和透光度等基本上没什么特殊的贡献,但当与铜离子相互配合时能够提高抛光的透光性及光滑度,以合适的比例添加拋光溶液中能够得到光滑度及光泽度优异的抛光作用,添加量通常以铜的添加量为基准点,约为铜的10倍左右时其作用比较好(摩尔比以7~10倍为宜)。铵盐:对抛光的光度和光滑度等没什么特殊功效,但可提高抛光时氮氧化物的逸出,改进工作环境,铵盐能够硫酸铵、磷酸铵、硝酸铵的形式添加,要是以硝酸铵的形式添加切不可在高温下开展,先要将硝酸铵溶解于少量水或磷酸中再添加,铵盐的添加量没有一定的要求,通常以5~50g/L为宜,铵根离子浓度越高遏制氮氧化物逸出的作用越,要是以硝酸铵来补充硝酸的消耗则应借助计算添加。 本公司销售的纳米抛光液应用范围:单晶、红宝石、蓝宝石、白宝石、钇铝石榴石。四川抛光液生产工艺

本公司销售的氧化铝抛光液颗粒分散均匀,不团聚,有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺点。浙江进口金刚石抛光液规格

蓝宝石研磨液  

蓝宝石研磨液(又称为蓝宝石抛光液)是用于在蓝宝石衬底的研磨和减薄的研磨液。  蓝宝石研磨液由优质聚晶金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成。    

蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性,在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。

蓝宝石研磨液在蓝宝石衬底方面的应用:  

 1. 外延片生产前衬底的双面研磨:多用蓝宝石研磨液研磨一道或多道,根据最终蓝宝石衬底研磨要求用6um、3um、1um不等。 

 2. LED芯片背面减薄   为解决蓝宝石的散热问题,需要将蓝宝石衬底的厚度减薄,从450nm左右减至100nm左右。主要有两步:先在横向减薄机上,用50-70um的砂轮研磨磨去300um左右的厚度;再用抛光机(秀和、NTS、WEC等)针对不同的研磨盘(锡/铜盘),采用合适的蓝宝石研磨液(水/油性)对芯片背面抛光,从150nm减至100nm左右。 浙江进口金刚石抛光液规格

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