Chiguard 353 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353与紫外线吸收剂Chiguard 5530,Chiguard 5228,Chiguard 5582或Chiguard 5400配合使用,会使涂料的耐候性有明显的提高.协同作用会使涂料更好地发挥作用,对于失光、开裂、起泡、脱落和变色均有很好的抑制作用. 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353光稳定剂可加于清漆,中涂和实色漆中。根据我们的经验,光稳定剂加于较上一层涂层中可发挥其较大的保护作用。 基本特性: 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353是被 广用于改善各种聚合物耐候性的一种液体光稳定剂。 化学名称: 双(1,2,2,6,6-五甲基- 4 –哌啶基)葵二酸酯 CAS:41556-26-7和82919-37-7 涂料用液体受阻胺紫外光稳定剂Chiguard 353是高效液体稳定剂,适用于多种聚合物和多种用途,包括聚氨酯、密封胶、粘合剂、弹性体、不饱和聚酯、丙烯酸类、乙烯基聚合物(PVB、PVC)、苯乙烯均聚和共聚物、聚烯烃、液体颜色浓缩物和其它有机物基体。分子量分布非常窄的光稳定剂。低碱性光稳定剂Uvinul 5050H

Chiguard 202 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202是高分子量的受阻胺光稳定剂(HALS)。它在聚合物中表现出优异的相容性和抗萃取性。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202的特点之一是分子量分布非常窄,这使得在加工和使用中表现出一致的效果。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202综合了各种高分子量HALS的优点。它为聚合物提供较高的光/热稳定性,同时改善其辅助性质,如增强颜料的色度。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202:嵌段齐聚的受阻胺光稳定剂 基本特性: 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202的特点之一是分子量分布非常窄,这使得在加工和使用中表现出一致的效果。 产品性状: 透明、淡黄色药片状颗粒 融 程:120 - 150℃ 闪点:未测试 比重(20℃):1.01 g/cm3 蒸气压(20℃):7E-10 Pa (外推)代理光稳定剂Chiguard 202适合于卤素阻燃或过氧化物聚烯烃体系的紫外光稳定剂。

Chiguard 1108 紫外光稳定剂Chiguard 1108 是一种受阻苯甲酸酯类光稳定剂、抗紫外线自由基捕获剂,抗气熏褪色,低碱性。挥发性低、着色性小、化学稳定性好、可耐酸和碱。低化学活性使其适合于需加入卤素阻燃剂或过氧化物聚烯烃体系 Chiguard 1108应用: 1、PE:膜、扁丝、注塑和滚塑制品 2、PP:膜、扁丝、注塑制品、阻燃制品、TPO 3、PET、PBT、PC、软质PVC,香精香料、蜡烛 Chiguard 1108添加量: 在推荐的用途内,根据基体树脂和加工条件的不同,添加量依具体用途而定,一般为0.08%--0.6%之间。 使用建议: 本品可单独使用,也可与二苯甲酮类紫外线吸收剂(如UV-531等)或亚磷酸酯抗氧剂并用,具有很好的协同效果。 包装:25公斤/包装。
三嗪类长效性紫外光稳定剂Chiguard 106 : N, N' -双(2,2,6,6-四甲基-4-呱啶基)-1,6-己二胺和2,4-二氯-6-(4-吗啉基)-1,3,5-三嗪的聚合产物 CAS:82451-48-7 性能指标: 热失重温度343℃,10% 熔点:75-90℃, 黄色颗粒状。 三嗪类长效性紫外光稳定剂Chiguard 106优势用途: 1) 本品为聚合型高分子量受阻胺光稳定剂,除含有受阻胺的母体以外,分子结构中还有光稳定剂基团三嗪。 2) 与聚烯烃相容性很好、色污低。 3) 对聚烯烃(PP、PE/EVA)具有长效稳定性优点。 三嗪类长效性紫外光稳定剂Chiguard 106使用范围: PE: 膜、扁丝、注塑和滚塑制品、片材、茂金属。PP: 膜、扁丝、纤维、注塑制品、TPO。聚缩醛、尼龙、PET、PBT、ASA、ABS、HIPS、PMMA和PUR。嵌段齐聚的受阻胺光稳定剂。

紫外光稳定剂Chiguard 101 CAS:129757-67-1 产品特性:产品具有较低的碱性,能较大程度地避免和涂料中的酸性成分反应 物理特性: 外观: 清澈,淡黄色液体. 黏度(20℃时动力学) 3000mPa.s 20℃密度: 0.97g/cm3 20℃溶解度(g/100g溶剂):Chiguard 101能与大多数涂料用溶剂以大于50%的比例混溶,在水中的溶解度小于0.01% ,但Chiguard 101很容易乳化进水性体系中。 建议用量(相对于树脂固体份): 应用: -- 汽车涂料和工业涂料 -- 装饰涂料和木器涂料 产品特性:产品具有较低的碱性,能较大程度地避免和涂料中的酸性成分反应相容性非常好,无喷霜现象光稳定剂。食品化妆品包装用光稳定剂Tinuvin 1577
聚合物中优异相容性和抗萃取性的光稳定剂。低碱性光稳定剂Uvinul 5050H
Nylostab S-EED 是一种新颖的尼龙用多功能添加剂,在单一分子里含有多种有利的性质。由于分子结构独特,Nylostab S-EED能 够耐尼龙熔体的还原环境,可作为一种熔体稳定剂,也可作为熔体加工改性剂。通过应用Nylostab S-EED,熔体压力的高度稳定性使 得尼龙注塑制件、吹塑制件及挤出产品质量很好,在纤维纺丝的应用中断丝的比例很低。 尼龙6加工时的扭矩曲线(表现为挤出机马达的电流消耗) 图表1很清楚地阐明了Nylostab S-EED对尼龙6的稳定作用。在熔体加工时如果同时加入了其他的受阻胺(HALS)稳定剂时,没有这个效 果。 从图1可以看出,Nylostab S-EED可以改善注塑件的表观质量。含有Nylostab S-EED的制品表面更平滑些,注塑螺纹无缺陷。同样也发现,Nylostab S-EED可以改善吹注应用时的可加工性。低碱性光稳定剂Uvinul 5050H
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