索尔维光稳定剂Nylostab S-EED

Nylostab S-EED 氧化热稳定性 图2 说明，添加Nylostab S-EED可以改善尼龙纤维的热稳定性。将纤维放入通气烘箱中测试其热氧稳定性，分别在180℃，190℃，200℃下放置一小时。尔后，测试纤 维的机械性能，并与初始值相比较。 图2 尼龙66纤维在通气烘箱中经过热氧化后的残留断裂强度 尼龙66纤维（100 dtex）的热氧化稳定性 处理温度 归一化断裂强度 光稳定效率Nylostab S-EED可以改善尼龙制品的光稳定性，将NylostabS-EED与UV吸收剂结合使用效果 特别好。图3是尼龙注塑样品加速老化试验结果，很显然选择适当的UV吸收剂非常重要，而Nylostab S-EED与乙酰苯胺果较好。 尼龙6的光稳定性 图3 尼龙样品的光稳定性：按照DIN 53 587-A标准测试其加速环境老化，添加剂用量：HALS 0.25% +UVA 0.5% (1mm注塑样件 / 7000小时 环境加速老化箱暴露)7000小时加速老化后黄度指数空白试验 2000小时后断裂UV吸收剂结合使用效荧光增白剂、抗静电剂、填料、着色剂以及其他助剂等配合应用光稳定剂。索尔维光稳定剂Nylostab S-EED

Chiguard 202 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202是高分子量的受阻胺光稳定剂(HALS)。它在聚合物中表现出优异的相容性和抗萃取性。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202的特点之一是分子量分布非常窄,这使得在加工和使用中表现出一致的效果。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202综合了各种高分子量HALS的优点。它为聚合物提供较高的光/热稳定性,同时改善其辅助性质,如增强颜料的色度。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202:嵌段齐聚的受阻胺光稳定剂 基本特性: 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202的特点之一是分子量分布非常窄,这使得在加工和使用中表现出一致的效果。 产品性状: 透明、淡黄色药片状颗粒 融 程:120 - 150℃ 闪点:未测试 比重(20℃):1.01 g/cm3 蒸气压(20℃):7E-10 Pa (外推)长期耐紫外线光稳定剂Tinuvin P提高摩擦静电喷涂中上粉率,减少粉末的回收量、提高粉末涂料和工件之间的附着力的光稳定剂。

YASORB UV-2908 美国氰特（CYTEC）紫外线吸收剂 紫外线吸收剂YASORB UV-2908是一种受阻苯甲酸酯类光稳定剂、高效的抗紫外线自由基捕获剂，抗气熏褪色，低碱性。挥发性低、着色性小、化学稳定性好、可耐酸和碱。低化学活性使其适合于需加入卤素阻燃剂或过氧化物聚烯烃体系。应用： 1、PE：膜、扁丝、注塑和滚塑制品 2、PP：膜、扁丝、注塑制品、阻燃制品、TPO 3、PET、PBT、PC、软质PVC，香精香料、蜡烛 添加量: 在推荐的用途内，根据基体树脂和加工条件的不同，较佳添加量依具体用途而定，一般为0.08%--0.6%之间。 使用建议： 本品可单独使用，也可与二苯甲酮类紫外线吸收剂(如UV-531等)或亚磷酸酯抗氧剂并用，具有很好的协同效果。 包装： 20公斤/包装。

Chiguard 100G 紫外光稳定剂Chiguard 100G可带来如下 好处： · 提高摩擦静电喷涂中上粉率，减少粉末的回收量 · 提高粉末涂料和工件之间的附着力。 · 提高喷涂中对工件的‘包敷性’。 紫外光稳定剂Chiguard 100G可能会和涂料体系中的酸性成分如：酸类催化剂发生反应。所以在此类条件下使用，请加以测试。 建议用量（相对于树脂固体份） 清漆和单层金属漆： 0.5-1% Chiguard 100G+ 1-3%Chiguard 5530或Chiguard 5582或Chiguard 5400等紫外线吸收剂复配；聚氨酯、密封胶、粘合剂、弹性体、不饱和聚酯、丙烯酸类、乙烯基聚合物（PVB、PVC）紫外光稳定剂。

BASF受阻胺光稳定剂 受阻胺类的作用机理包括三种： 1.捕获自由基 2.分解过氧化物 3.猝灭单线态氧。 受阻胺类成分本身不吸收任何大于260 nm的光线，也不能猝灭激发态分子，但在氧存在下，受阻胺能被氧化生成相应的氮氧自由基，这种化合物相当稳定，它们能非常有效的捕获聚合物光氧化降解产生的活性自由基，而且在稳定过程中具有再生功能， 这种再生功能是其有别于其他稳定剂的较大特征。 主要牌号：Tinuvin®770、Uvinul®4050FF、Tinuvin®765、Uvinul®5050H、Tinuvin®622、Chimassorb®944、Chimassorb®2020等厚制品 -高密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯、 低密度聚乙烯和聚丙烯的抗紫外稳定作用 。食品包装光稳定剂Chiguard 234

防止涂料失光、开裂、起泡、脱落和变色紫外光稳定剂。索尔维光稳定剂Nylostab S-EED

Chiguard 202 应用范围: 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202把非常高的光稳定性和长效热稳定性与其它辅助性质(如颜色干扰较小,改善熔体流动速率控制)完-美地结合在一起。它对PP纤维、PP窄带、PE薄膜、PP和PE厚制品提供优异的光稳定性。它还对填充PP制品和碳黑填充体系表现出独特的长效热稳定性。 应用指引: 纤维 PP的光稳定和热稳定 0.1 – 1.0% 窄带 PP和HDPE的光/热稳定 0.2 – 0.8% 厚制品 PP、HDPE、LDPE、LLDPE的光/热稳定 0.1- 0.6% 薄 膜 LDPE、LLDPE、E-VA、EBA的光/热稳定 0.1-1.0% 对不着色或轻度照色的制品,以及为了改善某种有机颜料的色牢度,推荐与紫外线吸收剂共用(如Chiguard 327/326和Chiguard P)。索尔维光稳定剂Nylostab S-EED

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