耐长期暴晒光稳定剂Chiguard 3588

Nylostab S-EED尼龙用多功能助剂 一种为尼龙量身定做的独特的多功能助剂，（与尼龙分子识 别而相容）。 > 改善尼龙熔融加工性能在尼龙中添加Nylostab可以提高其熔融加工性 > 增强长期热稳定性和光稳定性,这种高度相容、持久有效的添加剂可以赋予尼龙极大地稳定作用，这是其他传统光稳定系统所不能提供的。将Nylostab S-EED与oxalanilide UV 吸收剂结合使用可以明显提高尼龙的抗UV能力。 > 增强可染性Nylostab S-EED因具有碱性基团及相互作用，在复合金属染料或非金属酸性染料的染色过程中可以增强染料亲和力。从 而使染色更稳定、经济、生态相容，可深度染色(S-EED)。 > 例如可以稳定尼龙的熔体压力、使加工过程平稳、纤维纺丝时减少断丝。容易操作作为一种结晶型化合物，S-EED在高分子熔融加工或聚合过程中，可以按传统喂料方法和定量给料技术应用加料，也可以以尼龙预 备物形态应用（例如：尼龙中含30% Nylostab S-EED）。可以改善注塑件的表观质量、表面更平滑些，注塑螺纹无缺陷、改善吹注应用时的可加工性的受阻胺。耐长期暴晒光稳定剂Chiguard 3588

BASF受阻胺光稳定剂 受阻胺类的作用机理包括三种： 1.捕获自由基 2.分解过氧化物 3.猝灭单线态氧。 受阻胺类成分本身不吸收任何大于260 nm的光线，也不能猝灭激发态分子，但在氧存在下，受阻胺能被氧化生成相应的氮氧自由基，这种化合物相当稳定，它们能非常有效的捕获聚合物光氧化降解产生的活性自由基，而且在稳定过程中具有再生功能， 这种再生功能是其有别于其他稳定剂的较大特征。 主要牌号：Tinuvin®770、Uvinul®4050FF、Tinuvin®765、Uvinul®5050H、Tinuvin®622、Chimassorb®944、Chimassorb®2020等德国科莱恩光稳定剂Sanduvor VSU抗气熏褪色，低碱性紫外光稳定剂。

UV-3853 CYASORB UV-3853受阻胺光稳定剂 氰特简介（SOLVAY） 五十多年来，氰特一直致力于高性能的光稳定剂和抗氧剂的研究与开发。 我们继续在全球范围内提供先进的 的解决方案，以满足日新月异 的聚合物添加剂市场的需求。在该领域，我们有众多的产品以供选 择。 CAS号 167078-06-0 热失重温度, T-10%(空气中升温速度 10°C/min) 熔点产品形态溶解度 (g/100g@25°C) PE: 扁丝、注塑制品、片材、茂金属。 PP: 膜、扁丝、纤维、注塑制品、 TPO。聚缩醛、尼龙、 ASA、 ABS、HIPS、 SAN和PUR。• 低分子量受阻胺，优异的对表面的稳定性• 与聚烯烃和苯乙烯聚合物良好的相容性• 与光吸收剂和其他受阻胺的强的互配性

紫外光稳定剂Chiguard 101 CAS：129757-67-1 产品特性：产品具有较低的碱性，能较大程度地避免和涂料中的酸性成分反应 物理特性： 外观： 清澈，淡黄色液体. 黏度（20℃时动力学） 3000mPa.s 20℃密度： 0.97g/cm3 20℃溶解度（g/100g溶剂）：Chiguard 101能与大多数涂料用溶剂以大于50%的比例混溶，在水中的溶解度小于0.01% ,但Chiguard 101很容易乳化进水性体系中。 建议用量（相对于树脂固体份）: 应用： -- 汽车涂料和工业涂料 -- 装饰涂料和木器涂料 产品特性：产品具有较低的碱性，能较大程度地避免和涂料中的酸性成分反应ASA、 ABS、HIPS、 SAN和PUR抗紫外。

Nylostab S-EED 是一种新颖的尼龙用多功能添加剂，在单一分子里含有多种有利的性质。由于分子结构独特，Nylostab S-EED能 够耐尼龙熔体的还原环境，可作为一种熔体稳定剂，也可作为熔体加工改性剂。通过应用Nylostab S-EED，熔体压力的高度稳定性使 得尼龙注塑制件、吹塑制件及挤出产品质量很好，在纤维纺丝的应用中断丝的比例很低。 尼龙6加工时的扭矩曲线（表现为挤出机马达的电流消耗） 图表1很清楚地阐明了Nylostab S-EED对尼龙6的稳定作用。在熔体加工时如果同时加入了其他的受阻胺(HALS)稳定剂时，没有这个效 果。 从图1可以看出，Nylostab S-EED可以改善注塑件的表观质量。含有Nylostab S-EED的制品表面更平滑些，注塑螺纹无缺陷。同样也发现，Nylostab S-EED可以改善吹注应用时的可加工性。聚丙烯，HDPE，EPDM，聚苯乙烯，高抗冲聚苯乙烯，ABS，SAN，ASA，和聚氨酯光稳定剂。CYTEC光稳定剂Chiguard GA-403

DIN75202/H标准暴露在Atlas加速气候老化箱中的光稳定剂。耐长期暴晒光稳定剂Chiguard 3588

Chiguard 202 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202是高分子量的受阻胺光稳定剂(HALS)。它在聚合物中表现出优异的相容性和抗萃取性。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202的特点之一是分子量分布非常窄,这使得在加工和使用中表现出一致的效果。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202综合了各种高分子量HALS的优点。它为聚合物提供较高的光/热稳定性,同时改善其辅助性质,如增强颜料的色度。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202:嵌段齐聚的受阻胺光稳定剂 基本特性: 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202的特点之一是分子量分布非常窄,这使得在加工和使用中表现出一致的效果。 产品性状: 透明、淡黄色药片状颗粒 融 程:120 - 150℃ 闪点:未测试 比重(20℃):1.01 g/cm3 蒸气压(20℃):7E-10 Pa (外推)耐长期暴晒光稳定剂Chiguard 3588

上海璞展实业有限公司位于泗泾镇高技路655号3幢10层。公司业务涵盖抗氧剂，紫外线吸收剂，热稳定剂，增韧剂等，价格合理，品质有保证。公司注重以质量为中心，以服务为理念，秉持诚信为本的理念，打造化工良好品牌。璞展凭借创新的产品、专业的服务、众多的成功案例积累起来的声誉和口碑，让企业发展再上新高。