微蚀稳定剂ME-3001适用于内外层前处理、PTH、电镀、防焊等制程。溶液维护：药液的实际损耗与设备结构关系非常密切；ME-3001药⽔可通过24小时内分析⼀⾄两次，来实现浓度控制，分析硫酸，双氧⽔或铜离⼦浓度是为了控制反应过程，当铜的浓度达到35-45g/l时，需换槽3/4，再补加所需量；每⽣产 1000SF2板添加98%H2SO42.5-5.5L，35%H2O23-4.5L，安定剂HT3031.5-3L；在正常操作条件下，微蚀速率为 30±15ц″/min。根据需要微蚀速率也可通过调整H2O2、H2SO4浓度来完成；建议微蚀槽前段尽量使用纯⽔洗，避免 CL-过多污染槽液，影响微蚀速率，同时不能接触无机酸性或还原试剂。环保剥镍钝化剂(BN-8009系列)可完全替代硝酸，剥镍同时产生比硝酸效果更佳之钝化膜。蚀薄铜安定剂规格型号
一铜剥挂加速剂_BG-3006药水可通过一日内分析一至两次，来实现浓度控制，分析硫酸，双氧水或铜离子渡度是为了控制反应过程，当铜的浓度达到50-60g/L时，需换槽或一个月换槽一次。每班分析补加H2O2，同时添加BG-3006；H2O2，BG-3006按1：0.3-0.5添加。在正常操作条件下，微蚀速率为300±100u〞/min。根据需要微蚀速率也可通过调整H2O2、H2SO4、温度浓度来完成。建议剥挂槽前段尽量使用纯水洗，也可用自来水洗，但需避免过多污染物带入槽液，影响微蚀速率及槽液寿命，同时不能接触无机酸性或还原试剂。中粗化供货企业剥挂加速剂BG-3006作业场所请设置排气装置，以保持舒适的作业环境。
显影液CY-7001使用高纯度的无杂质碳酸钾，并同时加入特殊添加剂，加快了显影速度，防止硬水水垢产生，并使槽液寿命延长达纯碱的3~5倍，有效减少了废水量。特点：槽液不易产生沉淀物；槽体内可维持良好清洁度；PH计及自动添加控制槽液有效浓度易控制喷嘴不易堵塞；废水量降低3倍以上；降低换槽频率，有效提升生产效率；废液易处理，操作简便。安全及储存：安全：操作时应避免接触皮肤和眼睛，如有接触，应立即用大量水冲洗，并送医院就诊。
铜面键结剂STM-228槽液寿命：根据槽体2~4周更换槽液一次；消耗量： 800~1000SQ.FT/公升；依分析浓度补充铜面键结剂。中粗化微蚀液PME-8006系列，分为粗化微蚀液PME-8006，以及粗化后浸液PME-8006P。粗化工艺是用于改善印刷线路板制程中铜面和抗蚀剂间结合力的。随着线路板复杂性的增加，包括超细线路和微孔技术，对抗蚀剂结合力的要求也越来越高。PME-8006是一个简单的结合力强化工艺，它可以在铜上形成均匀的粗化表面，为抗蚀剂键合力的增强提供理想的微观结构。特点：改善抗蚀剂结合力；流程简单，低温操作。剥挂加速剂BG-3006药水需储存在阴凉干燥处，避免阳光直射。
PCB药水需储存在室温下，阴凉干燥处，避免阳光直射，作业场所请设置排气装置，以保持舒适的作业环境。蚀刻添加剂HAL-8007能大幅提高蚀刻工艺能力，使用简单方便，能使普通的蚀刻药水在满足客户铜厚的要求下，生产更精细的线路，蚀刻因子大幅提升，无需改动设备。蚀刻添加剂HAL-8007分为HAL-8007A与HAL-8007B，配比使用。使用我司添加剂HAL-8007能使线宽集中度更好，50/50um线路蚀刻因子能做到5以上，且整板各种线宽线距均匀性更好，能改善线路间距变小等问题。铝蚀刻液STM-AL10用在生产的用途可以调整药液温度来调整蚀刻速率。微蚀稳定剂
铝蚀刻液STM-AL10拥有优良的铝饱和溶解度，低更槽频率设计。蚀薄铜安定剂规格型号
高级有机去膜液SJ-0201去膜液主要用于退除硬板图形电镀蚀刻前退膜，适用于镀锡、镀锡铅、化金、化镍等干膜剥除，对细小线路板蚀刻效果更佳。印制电路板(PCB)加工的典型工艺采用“图形电镀法”。即先在板子外层需保留的铜箔部分上(是电路的图形部分)预镀一层铅锡抗蚀层，然后用化学方式将其余的铜箔腐蚀掉，称为蚀刻。PCB蚀刻分为碱性和酸性两种，一为盐酸双氧水体系(酸性)；二为氯化铵氨水体系(碱性)。随着蚀刻的进行，蚀刻液中铜含量不断增加，比重逐渐升高，当蚀刻液中铜浓度达到一定高度时就要即使调整。蚀薄铜安定剂规格型号
苏州圣天迈电子科技有限公司主要经营范围是化工，拥有一支专业技术团队和良好的市场口碑。公司自成立以来，以质量为发展，让匠心弥散在每个细节，公司旗下铜剥挂加速剂，蚀刻添加剂 ，剥镍钝化剂，印制电路板蚀刻液在线循环深受客户的喜爱。公司从事化工多年，有着创新的设计、强大的技术，还有一批**的专业化的队伍，确保为客户提供良好的产品及服务。在社会各界的鼎力支持下，持续创新，不断铸造***服务体验，为客户成功提供坚实有力的支持。
