IC清洁剂不燃烧、不炸裂，使用安全；清洗剂可以蒸馏回收，反复使用，比较经济；清洗工艺流程也与ODS清洗剂相同。烃类清洗工艺特点：烃类即碳氢化合物，过去把通过蒸馏原油而得的汽油、煤油作为清洗剂使用。烃类随碳数的增加而闪点提高，增加了安全性，但是干燥性不好；干燥性好的，使用上又不太安全，故两者十分矛盾。当然，作为清洗剂应尽量选用防火安全性好的、闪点比较高的清洗剂。其清洗工艺特点是：对油脂类污物清洗能力很强，洗净能力持久性强，且表面张力低，对细缝、细孔部分清洗效果好。IC封装药水适用于各种Cu-alloy、Fe-Ni-alloy不含H2O2，药液维护容易。IC去胶清洗剂采购
在IC除锈剂涂抹完20分钟时间里，必须保证生锈的表面尽量的湿润，如果效果不好，可以用IC除锈剂进行反复的擦拭；在擦拭完毕后，用清水冲洗表面，尽量是使用热水，这样可以让表面更快的干燥，同时还可以预防生锈。浸泡槽除锈法：在浸泡槽里水和IC除锈剂按照5比1的比例进行调和；除锈的温度保持常温即可，如果有条件可以将IC除锈剂进行加温，加温至上限70摄氏度即可；锈蚀的物体放在浸泡槽内浸泡的时间不能超过三个小时；浸泡完毕后，用清水冲洗表面，尽量是使用热水，这样可以让表面更快的干燥，同时还可以预防生锈。南京IC镀锡药剂采购IC封装药水可以高效去除其表面的松香焊药，吸塑胶以及墙上粘贴的胶纸，并且有很好的光亮效果。
IC封装药液拆胶液切勿触及眼睛、皮肤，如不慎接触可用水清洗。用毕及时封好瓶盖，以免液体挥发比例失调影响效果，瓶内液体会产生气体，小心开启，低温避光保存。是一种单组份高性能混合溶剂，能有效脱除环氧树脂、酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚丁二烯、三聚氰胺等聚合物为基础的膠层和经环氧树脂胶粘接、灌封并固化的零件。挥发快，溶解及清洁力优良。对金属无损伤、但对塑胶有輕微腐蚀性。用于首饰、标牌、电子、电器各种产品零件返修不良品之用并可清洁相关工具。
IC清洁剂水清洗技术是今后清洗技术的发展方向，须设置纯净水源和排放水处理车间。IC清洁剂以水作为清洗介质，并在水中添加表面活性剂、助剂、缓蚀剂、螯合剂等形成一系列以水为基的清洗剂。可以除去水溶剂和非极性污染物。其清洗工艺特点是：安全性好，不燃烧、不炸裂，基本无毒；清洗剂的配方组成自由度大，对极性与非极性污染物都容易清洗掉，清洗范围广；多重的清洗机理。水是极性很强的极性溶剂，除了溶解作用外，还有皂化、乳化、置换、分散等共同作用，使用超声比在有机溶剂中有效得多；作为一种天然溶剂，其价格比较低廉，来源普遍。IC封装药水经金防变色剂处理后的银镀层抗变色能力持久，经测试1-3年不变色、不生锈。
有机物的去除常常在清洗工序的第1步进行，金属污染物：IC电路制造过程中采用金属互连材料将各个单独的器件连接起来，首先采用光刻、蚀刻的方法在绝缘层上制作接触窗口，再利用蒸发、溅射或化学汽相沉积(CVD)形成金属互连膜，如A-Si，Cu等，通过蚀刻产生互连线，然后对沉积介质层进行化学机械抛光（CMP)。这个过程对IC制程也是一个潜在的污染过程，在形成金属互连的同时，也产生各种金属污染。必须采取相应的措施去除金属污染物。原生氧化物及化学氧化物：硅原子非常容易在含氧气及水的环境下氧化形成氧化层，称为原生氧化层。IC封装药水属于干性防锈/防变色剂，适用于等产品后防变色，防腐蚀处理。南京IC清洁除胶剂专业生产厂家
IC封装药水环保，无铬，符合国家检测标准。IC去胶清洗剂采购
现代清洗技术中的关键要求：IC清洁剂在未来90~65nm节点技术工艺中，除了要考虑清洗后的硅片表面的微粗糙度及自然氧化物去除率等技术指标外，也要考虑对环境的污染以及清洗的效率其经济效益等。硅片清洗技术评价的主要指标可以归纳为：微粗糙度（RMS)；自然氧化物去除率；金属沾污、表面颗粒度以及有机物沾污，其他指标还包括：芯片的破损率；清洗中的再沾污；对环境的污染；经济的可接受：包括设备与运行成本、清洗效率)等。金属沾污在硅片上是以范德华引力、共价键以及电子转移等三种表面形式存在的。这种沾污会破坏薄氧化层的完整性，增加漏电流密度，影响MOs器件的稳定性，重金属离子会增加暗电流，情况为结构缺陷或雾状缺陷。IC去胶清洗剂采购
