EVG120光刻胶自动处理系统： 智能过程控制和数据分析功能（框架软件平台） 用于过程和机器控制的集成分析功能 并行任务/排队任务处理功能 设备和过程性能跟/踪功能 智能处理功能： 事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪 晶圆直径（基板尺寸）：高达200毫米 模块数： 工艺... 【查看详情】

SmartView®NT自动键合对准系统，用于通用对准。 全自动键合对准系统，采用微米级面对面晶圆对准的专有方法进行通用对准。 用于通用对准的SmartViewNT自动键合对准系统提供了微米级面对面晶圆级对准的专有方法。这种对准技术对于在岭先技术的多个晶圆堆叠中达到所需的精度至关重要。SmartView技术可以与GEMIN... 【查看详情】

AVI400-M AVI 400-M的基本配置包括两个紧凑型隔振模块和一个控制单元，比较大负载为800公斤。通过增加紧凑型单元的数量，可以轻松实现对更高负载的支持。为了使AVI400-M适应用户特定的应用，可以使用不同长度的紧凑型装置。 AVI 400-M的隔离始于1,2 Hz，超过10HZ以上迅速增加至35 db... 【查看详情】

厚度测量产品：我们的膜厚测量产品可适用于各种应用。我们大部分的产品皆備有库存以便快速交货。请浏览本公司网页产品资讯或联系我们的应用工程师针对您的厚度测量需求提供立即协助。 单点厚度测量： 一键搞定的薄膜厚度和折射率台式测量系统。 测量 1nm 到 13mm 的单层薄膜或多层薄膜堆。 大多数产品都有库存而且可立... 【查看详情】

”EV集团的技术研发与IP主管MarkusWimplinger说，“通过与供应链的关键企业的合作，例如DELO，我们能够进一步提高效率，作为与工艺和设备**们一同研究并建立关键的新生产线制造步骤的中心。”“EVG和DELO分别是晶圆级光学仪器与NIL设备与光学材料的技术与市场**企业。双方在将技术与工艺流程应用于大规模生产方面有可... 【查看详情】

轮廓仪白光干涉的创始人： 迈尔尔逊 1852-1931 美国物理学家 曾从事光速的精密测量工作 迈克尔逊首倡用光波波长作为长度基准。 1881年，他发明了一种用以测量微小长度，折射率和光波波长的干涉仪，迈克尔逊干涉仪。 他和美国物理学家莫雷合作，进行了***的迈克尔逊-莫雷实验，否定了以太... 【查看详情】

EVG®301技术数据 晶圆直径（基板尺寸）：200和100-300毫米 清洁系统 开室，旋转器和清洁臂 腔室：由PP或PFA制成（可选） 清洁介质：去离子水（标准），其他清洁介质（可选） 旋转卡盘：真空卡盘（标准）和边缘处理卡盘（选件），由不含金属离子的清洁材料制成 旋转：蕞高3000rpm... 【查看详情】

EV Group企业技术总监Thomas Glinsner博士证实：“我们看到支持晶圆级光学器件的设备需求正在急剧增加。” “*从今年年初开始，我们就向大型WLO制造商交付了多个用于透镜成型和堆叠以及计量的系统，以进行大批量生产。此类订单进一步巩固了EVG在该领域市场***的地位，同时创造了新兴应用程序中有大量新机会。” ... 【查看详情】

EVG®510键合机特征 独特的压力和温度均匀性 兼容EVG机械和光学对准器 灵活的设计和配置，用于研究和试生产 将单芯片形成晶圆 各种工艺（共晶，焊料，TLP，直接键合） 可选的涡轮泵（ 【查看详情】

TS-140+40技术指标： 频率 负载范围 尺寸 0,7-1000 Hz 50-180公斤 500 x 600 x 84毫米 隔离： 动态0.7Hz至1kHz无源（超过1kHz） 传递率： 参见附件曲线10 ... 【查看详情】

EVG ® 720自动SmartNIL ® UV纳米压印光刻系统 自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVG's专有SmartNIL ®技术 EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印... 【查看详情】

该系统的固有刚度比1 Hz谐振无源隔离器的固有刚度大25倍，可提供出色的方向和位置稳定性。 有源隔离系统的特性通常表现为几乎没有低频共振，这种共振困扰着所有无源隔离系统。 该系统的设计即使在低至2-3Hz的频率下也能提供出色的隔离度，在该频率下，许多建筑物由于绕垂直轴的振荡而显示出较大的水平振幅。隔离从大约0... 【查看详情】