锆和铪金相制备纯锆和铪是一种软的易延展的六方密排晶格结构的金属，过度的研磨和切割过程中容易生成机械孪晶。同其它难熔金属一样，研磨和抛光速率较低，去除全部的抛光划痕和变形非常困难。甚至在镶嵌压力下产生孪晶，两相都有硬颗粒导致浮雕很难控制。为了提高偏振光敏感度，通常在机械抛光后增加化学抛光。为选择，侵蚀抛光剂可以加到终抛光混合液里，或者...

  金属抛光液怎么选？首先，要了解产品结构。金属抛光液主要由抛光剂、磨料、溶剂和添加剂组成。抛光剂和磨料是主要的研磨成分，可对金属表面进行精细的磨削和抛光。溶剂则起到调节抛光液的粘度和稀释作用，添加剂则可提高抛光效果和稳定性。其次，在选择产品时，需要关注以下几个因素：1. 研磨效果：选择具有好的研磨效果的抛光液，能够去除金属表面的划痕、锈迹、...

  铍的金相制样制备，铍也是一种对操作者身体健康有损害的难制备的金属。只有那些熟悉铍的毒物学并配备防护装备的人员才可以制备这种金属。研磨灰尘有很大的毒性。湿法切割可以预防空气污染，但其微粒必须妥当处理。同镁一样，铍容易切割或研磨损伤，产生机械峦晶。载荷要求低。虽然有些作者声称不可以用水，即使在研磨过程也是如此，但另有报告说用水没问题。 步骤，...

  纯锡类似纯铅，很难被制备。由于低熔点金属熔点低，重结晶温度低，所以通常推荐使用冷镶嵌树脂镶嵌，以防热压镶嵌可能的重结晶。某些这类纯金属或近似纯金属在压力镶嵌下会发生变形。这类金属的合金硬度相对较高，通常较容易制备。研磨过程的发热应控制到 。这类金属的研磨通常都不容易，由于SiC颗粒很容易嵌入基体。许多作者都建议用蜂蜡来涂SiC砂纸表面，实...

  抛光过程通常要使用一种或更多种抛光研磨剂， 具体如下：金刚石， 氧化铝(Al2O3)和不定形二 氧化硅(SiO2) 悬浮液。对某些材料， 可能会用氧化铈，氧化铬， 氧化镁或氧化铁作为研磨介质， 但使用的不很普遍。除 了金刚石外，这些研磨介质 通常都以去离子水悬浮 液的形式提供，但如果被抛光的材料是那种与水不 亲和的材料时，可能需要使用其它...

  镁的金相制样制备，镁和镁合金由于基体硬度较低而沉淀相硬度较高，故而很难制备，这就很容易导致浮雕现象。切割、研磨或载荷太大可能造成机械栾晶。 终的抛光和清洁操作，应设法避免或 小限度使用水或者各种特定的溶液。纯镁会水侵蚀较慢，但镁合金却容易被水侵蚀。有些作者说，不要在任何制备步骤中用水，他们将1到3份的甘油混合到酒精中作为润滑剂，甚至在研磨...

  当铅焊料材料成为微电子包装材料时，我们经常把它们分为两个类别。首先是共晶或近共晶焊料，虽然它们具有延展性，但表40列出的制备方法却非常适用于它们(在进行3μm抛光步骤时，金刚石抛光膏能获得比较好的表面。这是由于抛光膏含蜡，所以可以减少延展性材料在制备时金刚石的嵌入。少量的水不会破坏蜡基体的稳定，这样内含的金刚石仍然能保留起作用)。比较有效...

  铍的金相制样制备，铍也是一种对操作者身体健康有损害的难制备的金属。只有那些熟悉铍的毒物学并配备防护装备的人员才可以制备这种金属。研磨灰尘有很大的毒性。湿法切割可以预防空气污染，但其微粒必须妥当处理。同镁一样，铍容易切割或研磨损伤，产生机械峦晶。载荷要求低。虽然有些作者声称不可以用水，即使在研磨过程也是如此，但另有报告说用水没问题。 步骤，...

  赋耘金刚石抛光液包括多晶、单晶和纳米3种不同类型的抛光液。金刚石抛光液由金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成，配方多样化，对应不同的研抛过程和工件，适用性强。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定，用于硬质材料的研磨和抛光。多晶金刚石磨料、低变形、悬浮性好，磨削力强，研磨效果好，重复性稳定性一致，去除划痕，防止圆角产生效果区分明显。单...

  高温焊料(90%到97%铅)。非常难制备，特别要注意。这在陶瓷包装的微电子设备里是经常要面对的。硬的陶瓷要求非常强劲的研磨，这势必会产生陶瓷破碎(在研磨时经常使用研磨剂)，进而嵌入到焊料中。在研磨过程中选择SiC研磨剂是很不明智的，因为SiC要比那些典型的包装材料要硬。当SiC研磨剂破裂时，产生拉长的碎片将深深嵌入到高温焊料中。用S...

  赋耘检测技术提供金相制样方案，从切割、镶嵌、磨抛、腐蚀都是一条龙。赋耘检测技术金刚石悬浮液：每一颗金刚石磨粒均经国际先进的气流粉碎工艺而成，完全保证了金刚石的纯度和磨削性能。同时采用严格的分级粒度，金刚石颗粒形貌呈球形八面体状，粒径尺寸精确、公差范围窄，使研磨效果更好、划痕去除率更高，新划痕产生更少。不仅适用于金相和岩相的研磨、抛光，还适...

  金相研磨机的磨盘直径有200mm、230mm、250mm、300mm可选！大直径的研磨盘会增加试样在给定时间内的运动距离。例如，转速一样时，试样在直径10英寸或直径12英寸(250或300mm)研磨盘上的运动距离，分别是在8英寸(200mm)直径研磨盘上运动距离的。因此当使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盘时，建议将时...