硬质阳极氧化是一种厚膜阳极氧化法，这是一种铝和铝合金特殊的阳极氧化表面处理工艺。此种工艺，所制得的阳极氧化膜较大厚度可达250微米左右，在纯铝上能获得1500kg/mm2的显微硬度氧化膜，而在铝合金上则可获得400～600kg/mm2的显微硬度氧化膜。其硬度值，氧化膜内层大于外层，即阻挡层大于带有孔隙的氧化膜层，因氧化膜内有松孔，可吸附各种润滑剂，增加了减摩能力，氧化膜层导热性很差，其熔点为2050℃，电阻系数较大，经封闭处理（浸绝缘物或石蜡）击穿电压可达2000V，在大气中较高的抗蚀能力，具有很高的耐磨性，也是一种理想的隔热膜层，也有良好的绝缘性，并具有与基体金属结合得很牢固等一系列优点，因此在**工业和机械零件制造工业上获得及其普遍的应用。主要应用于要求高耐磨、耐热、绝缘性能好等的铝和铝合金零件上。如各种作为圆筒的内壁，活塞、汽塞、汽缸、轴承、飞机货舱的地板、滚棒和导轨、水利设备、蒸汽叶轮、适平机、齿轮和缓冲垫等零件。因硬质氧化膜的厚度较高，所以如需要进一步加工的铝零件，应事先留有一定的加工余量。吴中高耐磨硬质氧化品质
硬质氧化的氧化处理的温度：温度是影响氧化膜质量的重要因素之一。严格控制温度,其氧化膜增厚,硬度提高且光滑、致密。电流密度：电流也是影响氧化膜质量的重要因素之一,它与氧化膜的生成速度、氧化膜的组织有较大关系.电流密度过低时,氧化膜的生成速度缓慢,处理时间增加；反之,过高时,会导致溶液和电极因焦耳效应而过热.使氧化膜溶解速度增加,硬度下降,表面粗糙、疏松起粉。初始电压与处理时间：硬质阳极氧化处理的初始电压与时间对氧化膜质量的影响也是很大的.初始电压过大,会导致电流的增加,焦耳热和生成热剧增,促使溶解速度猛增,氧化膜则软,无光泽,起粉,不耐磨.对于氧化处理时间,一般是随着氧化处理时间的延长,氧化膜厚度增加,但到一定时间后,若不增加外加电压,氧化膜实际不增加.如果继续延长时间,则氧化膜硬度低,疏松起粉,相反,氧化处理时间太短,氧化膜厚度薄且不耐磨。昆山高光硬质氧化强硬质氧化处理的注意事项：制品上所有棱角应倒成直径不小于0.5mm的圆弧。
硬质氧化在恒电流工艺下，溶液温度低、电流密度高、硫酸浓度低都会使得氧化膜阻挡层厚度增大，导致阳极氧化电压升高，氧化膜的孔隙率也随着下降，因此氧化膜的显微硬度也随之提高。在外加电压达到起弧电压之前，金属表面已经被阳极氧化膜所覆盖。这层介电性的氧化膜使得电流迅速下降，为了氧化膜的继续生长，只有增大电压使原氧化膜的薄弱位置发生击穿，导致局部火花以维持氧化膜生长所需要的电流。硬质氧化膜质量随着电流密度变化而有所区别，通常随着电流密度的增加，硬质氧化膜的孔隙增多，其硬度和耐磨性也随着提高。
硬质阳极氧化的槽液一般是硫酸溶液以及硫酸添加有机酸，如草酸、氨基磺酸等。另外，可通过降低阳极氧化温度或降低硫酸浓度来实现硬质阳极氧化处理。对于铜含量大于5%或硅含量大于8%的变形铝合金，或者高硅的压铸造铝合金，也许还应考虑增加一些阳极氧化的特殊措施。例如：对于2XXX系铝合金，为了避免铝合金在阳极氧化过程中被烧损，可采用385g/L的硫酸加上15g/L草酸作为电解槽液，电流密度也应该提高到2。5A/dm以上。铝是钝化型金属，与钛、钽、铌等金属一样，表面钝态氧化膜是提供保护的重要因素，因此，阳极氧化是一种非常有效的金属保护手段。铝的阳极氧化处理工艺可以从多种角度加以分类，比如按照电解质溶液、阳极氧化电源波形、阳极氧化膜结构、阳极氧化的特性等加以分类硬质氧化全称硬质阳极氧化处理。
硬质氧化表面处理就是随着高分子树脂聚合物的发展而兴起的一种金属防腐与装饰的新技术、新工艺和新型复合高效材料。铝合金硬质氧化膜因其具有膜层厚、硬度高、抗腐蚀、耐高温、高压和优良的耐磨性等特点而受到普遍的重视。工业中生产纤维的零部件，纺杯、储纱盘、搓轮等高速转动部件，微弧氧化膜提供耐热、耐磨和适当的表面粗糙度，已在国内外使用多年。多孔层的致密性主要由阳极氧化的电压决定。在恒电流工艺下，溶液温度低、电流密度高、硫酸浓度低都会使得氧化膜阻挡层厚度增大，导致阳极氧化电压升高，氧化膜的孔隙率也随着下降，因此氧化膜的显微硬度也随之提高。在外加电压达到起弧电压之前，金属表面已经被阳极氧化膜所覆盖。硬质氧化表面处理就是随着高分子树脂聚合物的发展而兴起。无锡黑色硬质氧化
硬质阳极氧化所生成的氧化膜层具有较高的电阻，会直接影响到电流强度的氧化作用。吴中高耐磨硬质氧化品质
硬质阳极氧化和普通阳极氧化的区别：硬质氧化的氧化膜有50%渗透在铝合金内部，50%附着在铝合金表面，因此硬质氧化后产品外部尺寸变大，内孔变小。 一、操作条件方面的差异： 1、温度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加剂的可以到30℃，温度过高易出现粉末或裂纹；硬质氧化一般在5℃以下，相对来说温度越低硬质越高。 2、浓度差异：普通氧化一般20%左右；硬质氧化一般在15%或更低。 3、电流/电压差异：普通氧化电流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬质氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化电压≤18V，硬质氧化有时高达120V。 二、膜层性能方面的差异： 1、膜层厚度：普通氧化膜层厚度相对较薄；硬质氧化一般膜层厚度>15μm，过低达不到硬度≥300HV的要求。 2、表面状态：普通氧化表面较光滑，而硬质氧化表面较粗糙（微观，和基体表面粗糙度有关）。 3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬质氧化孔隙率低。 4、普通氧化基本是透明膜；硬质氧化由于膜厚，为不透明膜。 5、适用场合不同：普通氧化适用于装饰为主；而硬质氧化以功能为主，一般用于耐磨、耐电的场合。吴中高耐磨硬质氧化品质
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