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阳极氧化在一定限度内，电流密度升高，膜生长速度升高，氧化时间缩短，生成膜的孔隙多，易于着色，且硬度和耐磨性升高；电流密度过高，则会因焦耳热的影响，使零件表面过热和局部溶液温度升高，膜的溶解速度升高，且有烧毁零件的可能；电流密度过低，则膜生长速度缓慢，但生成的膜较致密，硬度和耐磨性降低。氧化时间：氧化时间的选择，取决于电解液浓度，温度，阳极电流密度和所需要的膜厚。相同条件下,当电流密度恒定时,膜的生长速度与氧化时间成正比；但当膜生长到一定厚度时,由于膜电阻升高,影响导电能力,而且由于温升,膜的溶解速度增大，所以膜的生长速度会逐渐降低，不再增加。铝阳极氧化的原理实质上就是水电解的原理。无锡高耐磨阳极氧化质量

阳极氧化技术经过多年发展，已由一般的防护、装饰用途发展到具有特殊物理化学性质的功能膜；由单盐着色发展到混合盐着色；由单一均匀色发展到多彩色、多感色等。当前氧化铝膜朝着功能化方向发展。主要有两个方面，一个是利用它的多孔结构，研制新型的超精密分离染色后的阳极氧化铝膜；另一个是通过在其纳米级微 孔中沉积各种性质不同的物质，如金属半导体、高分子材料等，来制备新型的功能材料。随着科技和工艺的不断发展，未来应用在IT产品中的金属有朝一日将会成为真正的“绝世神器”。吴中高耐磨阳极氧化单位阳极氧化早就在工业上得到普遍应用。

氧化膜厚度计算：阳极氧化生成的氧化膜厚度从理论上可按法拉第第二定律推导的公式进行计算。σ= Kit。式中σ为阳极氧化膜厚度（μm），I为电流密度（A/dm2），t 为氧化时间（min），K为系数（当氧化铝密度γ=kg/立方米则K=0.309）。上述公式计算的前提是以认为通过的电量全用于氧化铝析出，同时也把氧化铝及膜的密度视为纯净的氧化铝密集的值。但实际情况并非完全如此，为了使K值更切合实际，应将电流效率和在这种工艺条件下所生成膜的密度或孔隙度考虑在内，即：K = 1.57η/γ式中η为电流效率（电极上实际析出的物质量与又总电量换算出的析出物质量之比）。K实值各国取值大小各异。

阳极氧化的目的是生产厚的氧化铝表面层，该表面层可保护铝不受任何腐蚀，并提供惰性表面，可在很多年内保持其初始外观。铝合金通过使用阳极氧化设备进行阳极氧化处理，以提高其耐腐蚀和磨损(磨损和侵蚀)的能力，并允许着色，改善润滑或改善附着力。阳极层不导电。预处理阳极氧化涂层是透明的，因此可以看到下面金属的外观。因此，阳极氧化与铝的自然外观兼容。因此，阳极氧化之前的预处理非常重要，因为它决定了阳极氧化产品的视觉吸引力。铝表面可以采用任何机械和化学方法处理方法包括抛丸，抛光，增亮和蚀刻。阳极氧化膜的孔隙直径为0.01-0.03μm。

铝阳极氧化：以铝或铝合金制品为阳极，置于电解质溶液中进行通电处理， 利用电解作用使其表面形成氧化铝薄膜的过程, 称为铝及铝合金的阳极氧化处理。经过阳极氧化处理，铝表面能生成几个微米———几百个微米的氧化膜。比起铝合金的天然氧化膜，其耐蚀性、耐磨性和装饰性都有明显的改善和提高。铝阳极氧化的原理实质上就是水电解的原理。当电流通过时, 将发生以下的反应：在阴极上, 按下列反应放出 H2：2H + + 2e → H2 在阳极上, 4OH - 4e → 2H2O + O2, 析出的氧不仅是分子态的氧 (O2), 还包括原子氧(O), 以及离子氧(O-2), 通常在反应中以分子氧表示。作为阳极的铝被其上析出的氧所氧化, 形成无水的Al2O3膜： 2Al + 3[O] = Al2O3 + 1675.7KJ 应指出, 生成的氧并不是全部与铝作用, 一部分以气态的形式析出。阳极氧化一般指代铝的阳极氧化。太仓本色阳极氧化

并非说在所有存在溶解作用的电解液中阳极氧化都能生成氧化膜或生成的氧化膜性质相同。无锡高耐磨阳极氧化质量

阳极氧化与电镀有哪些区别?1.处理方法不同.电镀是将待电镀材料作为阴极，与镀层金属的相同的金属材料作为阳极（亦有采用不溶性阳极），电解液为含有的镀层金属离子的溶液；阳极与阴极间输入一定的电流。镀层材料与待电镀的材料是不同的两种材料，如铍铜镀镍，铍铜为基材，镍为镀层。阳极氧化利用化学或电化学处理，运用阳极氧化设备，使金属表面生成一种含有该金属成份的皮膜层。待处理的材料作为阳极，在特定的电解液中通过外加电流使其表面形成膜层的一种材料保护。如铝合金氧化，在是在铝合金表面形成一层氧化铝的薄膜，氧化铝化学性稳定，不会再氧化，不受酸腐蚀，还可以染成各种颜色。2.处理对象不同.电镀方法处理的对象主要是金属，也可以是非金属。常使用的电镀镀层金属为镍、铬、锡、铜、银及金等。也就是经常说的镀镍、镀铬、镀金等。3.阳极氧化处理是金属表面处理的方法。大多数金属材料（如不锈钢、锌合金、铝合金、镁合金、铜合金、钛合金）都可以在适宜的电解液中进行阳极氧化处理。无锡高耐磨阳极氧化质量

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