广东电镀工艺

凡镀层金属相对于基体金属的电位为负时，形成腐蚀微电池时镀层为阳极，故称阳极性镀层，如钢铁件上的镀锌层；而镀层金属相对于基体金属的电位为正时，形成腐蚀微电池时镀层为阴极，故称阴极性镀层，如钢铁件上的镀镍层和镀锡层等。按用途分类可分为：①防护性镀层：如Zn、Ni、Cd、Sn和Cd-Sn等镀层，作为耐大气及各种腐蚀环境的防腐蚀镀层；②防护．装饰镀层：如Cu—Ni—Cr、Ni-Fe-Cr复合镀层等，既有装饰性，又有防护性；③装饰性镀层：如Au、Ag以及Cu．孙仿金镀层、黑铬、黑镍镀层等；④修复性镀层：如电镀Ni、Cr、Fe层进行修复一些造价颇高的易磨损件或加工超差件；⑤功能性镀层：如Ag、Au等导电镀层；Ni-Fe、Fe-Co、Ni-Co等导磁镀层；Cr、Pt-Ru等高温抗氧化镀层；Ag、Cr等反光镀层；黑铬、黑镍等防反光镀层；硬铬、Ni．SiC等耐磨镀层；Ni．VIEE、Ni．C(石墨)减磨镀层等；Pb、Cu、Sn、Ag等焊接性镀层；防渗碳镀Cu等。电镀电镀电源编辑电源组成主电路主要包括主变压器、功率整流器件和一些检测、保护装置等。电镀电源中的主变压器是将交流电源电压降低为电镀工艺所需要的电压值。晶闸管整流器中使用的是工频(50Hz)变压器，高频开关电源中使用的是高频(10～50kHz)变压器。电镀产品，就选浙江共感电镀有限公司，用户的信赖之选，有需要可以联系我司哦！广东电镀工艺

较可控硅设备提高效率30%以上。2、输出稳定性高由于系统反应速度快(微秒级)，对于网电及负载变化具有极强的适应性，输出精度可优于1%。开关电源的工作效率高、所以控制精度高，有利于提高产品质量。3、输出波形易于调制由于工作频率高，其输出波形调整相对处理成本较低，可以较方便的按照用户工艺要求改变输出波形。这样对于工作现场提高工效，改善加工产品质量有较强作用。4、体积小、重量轻体积与重量为可控硅电镀电源的1/5-1/10，便于规划、扩建、移动、维护和安装。相关附录/电镀[工艺]编辑材料和设备术语1阳极袋：用棉布或化纤织物制成的套在阳极上，以防止阳极泥渣进入溶液用的袋子。2光亮剂：为获得光亮镀层在电解液中所使用的添加剂。3阻化剂：能够减缓化学反应或电化学反应速度的物质。4表面活性剂：在添加量很低的情况下也能***降低界面张力的物质。5乳化剂：能降低互不相溶的液体间的界面张力，使之形成乳浊液的物质。6络合剂：能与金属离子或含有金属离子的化合物结合而形成络合物的物质。7绝缘层：涂于电极或挂具的某一部分，使该部位表面不导电的材料层。8挂具（夹具）：用来悬挂零件，以便于将零件放于槽中进行电镀或其他处理的工具。青海电镀招聘电镀产品，就选浙江共感电镀有限公司，让您满意，欢迎您的来电！

本发明是有关于一种电镀装置及电镀方法，且特别是有关于一种具有两相对设置的排水孔的电镀装置及使用电镀装置的电镀方法。背景技术：传统电路板的镀铜方法，是将电路板置于电镀槽中以电镀液进行电镀。电路板上的通孔则使用电镀槽的喷嘴搭配高压马达，使电镀液喷入电路板的通孔内。这种将电镀液利用适当压力注入通孔中的做法，*适用于一般纵横比(aspectratio)不大的电路板上。一旦电路板厚度增加使通孔的纵横比亦大幅增加时，由于电镀液无法顺利进入通孔内部，导致通孔内部的孔壁无法顺利镀上镀铜层而使产品质量低落。因此，当电路板的通孔纵横比越来越大时，传统以喷嘴搭配高压马达提供电镀液的做法，已无法满足需求。如何改善因通孔纵横比大使得孔壁电镀不佳的问题，现有技术实有待改善的必要。技术实现要素：本发明内容的目的在于提供一种电镀装置，使具有高纵横比的待镀物，其通孔孔壁能均匀电镀。本发明内容提供了一种电镀装置，包含上槽体、阴极、***阳极、第二阳极、下槽体、隔板、液体输送组件及管体。阴极、***阳极及第二阳极设于上槽体，且***阳极及第二阳极分别对应设于阴极的相对两侧。下槽体设于上槽体之下，隔板设于上槽体与下槽体之间。

当年则因其成熟度不够也使得用户们吃足了苦头。直到1988年以后**铜才逐渐正式取代了先前的焦磷酸铜，而成为***的基本配方。电镀铜**铜十年后(1995)的电路板开始采孔径，在板厚不变或板厚增加下，常使得待镀之通孔出现4:l至10:l高纵横比的困难境界。为了增加深孔镀铜的分布力(ThrowingPower)起见，首先即调高槽液基本配方的酸铜比(拉高至10:l以上)，并也另在添加剂配方上着手变化。而且还将固有垂直挂镀的设备中，更换其传统直流(DC)供电，转型为变化电流(广义的AC)式反脉冲电流(ReversePulse)的革新方式。要其反电流密度很大但间却很短的情况下，冀能将两端孔口附近较厚的镀铜层予以减薄，但又不致影响深孔中心铜层应有的厚度，于是各种脉冲供电方式也进入了镀铜的领域。电镀铜水平镀铜随后为了方便薄板的操作与深孔穿透以及自动化能力起见，板面一次铜(全板镀铜)的操作，又曾改变为水平自走方式的电镀铜。在其阴阳极距离大幅拉近而降低电阻下，可用之电流密度遂得以提高2-4倍，而使量产能力为之大增。此种新式密闭水平镀铜之阳极起先还沿用可溶的铜球,但为了减少量产中频繁拆机，一再补充铜球的麻烦起见。后来又改采非溶解性的钛网阳极。而且另在反脉冲电源的协助下。电镀产品，就选浙江共感电镀有限公司，用户的信赖之选，欢迎您的来电！

**近许多对PCB镀铜的研究，发现氯离子还可协助有机助剂(尤其是载运剂)发挥其各种功能。且氯离子浓度对于镀铜层的展性(Ductility)与抗拉强度(TensileStrength)也有明显的影响力。电镀铜槽液的管理槽液中的主成分每周可执行2-3次之化学分析，并采取必要的添补作业以维持Cu++、SO4-、与CL-应有的管制范围。至于有机添加剂的分析，早先一向以经验导向的HullCell试镀片，作为管理与追查的工具。此种不够科学的做法，80年代时即已逐渐被CVS法(CyclicVoltametricStripping循环电压剥镀分析法)所取代。现役之CVS自动分析仪器中，不但硬件十分精密，且更具备了由多项试验项模拟的结果而变得更为科学，此等预先设置的精确软件程序，对于上述三种有机助剂与氯离子，均可进行精确的分析与纪录，使得酸性镀铜的管理也将更上轨道。电化学的基础理论颇多，但用之于实际镀铜现场时，则似乎又关系不够而有使不上力的感觉。一些常见的电化学书籍，多半只涉及实验室的理论与说明，极少对实际电镀所发生的现象加以阐述。以下即为笔者根据多年阅读与实务所得之少许心得，*就某些电镀行为斗胆加以诠释，不周之处尚盼高明指正。电镀铜可逆反应。浙江共感电镀有限公司是一家专业提供 电镀产品的公司，欢迎您的来电！电镀标准

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此时生成沉淀，立即加入硫代**钠（或硫代**铵）溶液并不断搅拌，使白色沉淀完全溶，再加水至所需要的量。(3)将配制成的镀液放于日光下照射数小时，加O．5g/L的活性炭，过滤，即得清亮液。添加剂的组成SL-80添加剂是由含氮的有机化合物与含环氧基团化合物的缩产物，使用该添加剂不增加镀层硬度。SL-80添加剂的消耗量为lOOmL/(kA．h)。(4)工艺特点该镀银工艺，电流密度大，镀层光亮细致，温度范围剪，定，深镀能力与分散能力也可以和**镀银工艺相仿。(5)注意事项配制过程中要特别注意，环要将硝酸银直接加入到硫代**钠（或代**铵）溶液中，否则溶液容易变黑。因为硝酸银会与硫代**盐作用，首先生成色的硫代**银沉淀，然后会逐渐水解变成黑色硫化银。新配的镀液可能会显微黄色，或有极少量的浑浊或沉淀，过滤后即可可以变清。试镀前可以先电解一定时间，这时阳极可能会出现黑膜，可以铜丝刷刷去，并适当增加阳极面积，以降低阳极电流密度。在亭卜充镀液中的银离子时，一定要按配制方法的程序进行，不可以直接往镀液中加硝酸银。同时，保持镀液中焦亚**钾的量在正常范围内。因为它的存在，有利于硫**盐的稳定。否则硫代**根会出现析出硫的反应，而硫的析出对镀银是非常不利的。广东电镀工艺