龙华区纳米耗材样品

不锈钢**抛光液

是白色乳液的水溶性抛光液，

 纳米级抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英、光学晶体、红外晶体、金属、陶瓷等的抛光。

应用领域：

50抛光液主要应用：晶体，镜片，石英；

80抛光液主要应用：LED，红外晶体，陶瓷产品（陶瓷手机盖板），石英金属类材料如不锈钢，铝件，锌合金，光纤，锗，蓝玻璃，滤光片以及光伏企业；

100抛光液主要应用：蓝宝石衬底，蓝宝石窗口片，单晶硅片，砷化镓等其他蓝宝石产品；

130抛光液主要应用：蓝宝石A向。

多效研磨助剂是一种高质量的水溶性研磨助剂，主要应用于蓝宝石加工过程中B4C双面研磨制程，可有效降温、润滑，增进研削效果及保护加工工件，从而提升B4C的利用率，**节约研磨成本。

产品特点

1. 研磨时可有效降温及润滑；

2. 磨料分散性好，不易沉淀；

3. 移除率比同类型产品提高1倍；

4. 循环使用的次数增加；

5. 降低破片率，获得更好的TTV。

多效研磨助剂在水中以3-5%的比例稀释，与B4C混合均匀后即可作为研磨液使用。

应用范围蓝宝石衬底：蓝宝石加工过程中B4C双面研磨制程

9B耗材制作五金产品研磨需要什么耗材？

平面研磨抛光加工对硬质合金原料工件的研磨加工大致和淬硬钢件的研磨加工办法相同，也分为研磨前的预加工、粗研磨、半精研磨以及精研磨等几个步骤。可是，因为硬质的合金材料的特点是比较的硬，所以在精细研磨抛光机选择磨料的时分，会有所不同，这其间，研磨前的预加工是选用绿色的碳化硅砂轮或是碳化硼来进行加工;而粗研磨的时分则选用碳化硼所制成的研磨粉来进行;半精研磨及精研磨选用金刚石研磨粉来进行。

平面研磨抛光加工对硬质合金的工件进行研磨加工前所进行的预加工，其加工的办法许多。比如，进行磨削、电解磨削、磨料粗荒的研磨、及超声波加工都是能够到达预加工的作用等，而比较经常被选用的是磨削和用碳化硼磨料作粗荒的研磨加工。其出产功率比较低，所以对大批量的出产则常选用碳化硼的研磨粉来进行粗荒研磨的办法。

日程生活中，***是我们经常会使用到的工具，而***会有镜面的效果就离不开抛光。在***抛光过程中我们需要使用研磨抛光耗材有哪些？是怎样的流程？下面我们去了解一下。

根据目数由小到大，依次使用磨石研磨刀身，磨到800-1000目后，就可以使用研磨抛光耗材开始抛光了。

依次用1000目、2000目再到3000目的砂纸进行打磨，每一道都要磨充分，在3000目砂纸打磨结束后，刀身已经有较好的镜面效果了，但此时表面仍可以看到一道道较细的拉丝纹路如果要得到更强镜面效果，可以使用研磨膏来研磨，研磨膏粒径选择W1或W0.5的。抛光完成后，刀条表面会变成镜子一样。

使用研磨抛光耗材的操作方式：将砂纸剪成小块，从刀背包住刀条，用手捏着来回打磨，这种方法操作起来简单方便，也比较节省砂纸。使用研磨膏时，找一快棉布，把研磨膏涂在刀条或棉布上，与砂纸抛光方法一样，从刀背包住刀条，用手捏着来回打磨无论砂纸还是研磨膏，因为湿磨效果会更好，所以使用时都要洒点水 在进行抛光处理时能具备优异的抛光稳定性、耐磨性和优异的浆料保持性。

要获得品质好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则会在抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹；反之，机械抛光作用大于化学腐蚀作用则表面产生高损伤层。

从微观角度，CMP 作用机理目前还没有完整的的理论解释。其中有一种说法认为，化学机械抛光过程是化学作用、磨削作用相互加强与促进的过程。以蓝宝石化学机械抛光为例具体阐述：

由于有KOH的存在，对于蓝宝石衬底的化学机械抛光,其CMP 的动力学过程主要由以下几个步骤组成: ①反应剂分子(OH-)从液体主体向待加工片外表面扩散( 外扩散)；②反应剂分子由外表面向内表面扩散其速率与质量附面层厚度相关, 在压力与抛光机旋转作用下, 附面层极小；③反应物吸附在待加工片的表面；④反应物在加工片表面上进行化学反应, 生成产物；⑤产物从表面解吸； ⑥产物从反应层的内表面向外表面扩散； ⑦产物从反应层的外表面向主液体扩散 研磨液耗材可以循环用吗？坪山区9B耗材样品

磨盘上加装一个特殊材料抛光垫或抛光，他的作用是什么？龙华区纳米耗材样品

金鑫达平面研磨抛光机耗材有哪些？

抛光垫又称抛光皮，抛光布，抛光片，是平面研磨抛光中决定表面质量的重要研磨耗材。抛光垫按是否含有磨料可以分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫;

  按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫;按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型。

抛光垫的作用原理：①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域;②将抛光后便化学反应充分进行;的反应物、碎屑等顺利排出，达到去除效果;③维持抛光垫表面的抛光液薄膜,以便化学反应充分进行;④保持抛光过程的平稳、表面不变形,以便获得较好的晶片表面形貌;

  抛光垫的主要参数：①硬度-抛光垫的硬度决定保持面形精度的能力;②压缩比-压缩比反应抛光垫的抗变形能力;③涵养量-抛光垫的涵养量是单位体积的抛光垫存储抛光液的质量;④粗糙度-表面粗糙度是抛光垫表面的凸凹不平程度;⑤密度-密度是抛光垫材料的致密程度。

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