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蓝宝石**抛光液

蓝宝石**抛光液：

  纳米级抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英、光学晶体、红外晶体、金属、陶瓷等的抛光。

应用领域：

50抛光液主要应用：晶体，镜片，石英；

80抛光液主要应用：LED，红外晶体，陶瓷产品（陶瓷手机盖板），石英金属类材料如不锈钢，铝件，锌合金，光纤，锗，蓝玻璃，滤光片以及光伏企业；

100抛光液主要应用：蓝宝石衬底，蓝宝石窗口片，单晶硅片，砷化镓等其他蓝宝石产品；

130抛光液主要应用：蓝宝石A向。

很多用家都喜欢把抛光皮开槽。开槽能够提供抛光皮自身的追从性，抛光皮沟槽形状对抛光液的运送及均匀分布、化学反应速度、反应产物及其浓度，材料去除速率会产生重要影响，是改变抛光垫性能的**主要途径。抛光皮常规开槽种类有正螺旋对数型、负螺旋对数型，圆环型和网络型。

抛光皮按照材质可分为不织布磨皮、聚氨酯硬质磨皮、阻尼布磨皮。此处重点介绍阻尼布磨皮，阻尼布磨皮也成阻尼布、抛光垫。阻尼布磨皮是聚氨酯树脂和发泡添加剂颜料（炭黑）等混合后放入水中凝固，干燥成薄膜状。然后通过抛光加工，粘上基材和双面胶得到**终产品。阻尼布应用于高平滑行，低欠陷性的精磨工序。没有经过抛光的阻尼布主要作为吸附垫应用于玻璃等的研磨。所以阻尼布在半导体晶片，硬盘，LCD玻璃主板，蓝宝石玻璃的精磨得到***的应用。

深圳平面耗材作用磨盘上加装一个特殊材料抛光垫或抛光，他的作用是什么？

多效研磨助剂是一种高质量的水溶性研磨助剂，主要应用于蓝宝石加工过程中B4C双面研磨制程，可有效降温、润滑，增进研削效果及保护加工工件，从而提升B4C的利用率，**节约研磨成本。

产品特点

1. 研磨时可有效降温及润滑；

2. 磨料分散性好，不易沉淀；

3. 移除率比同类型产品提高1倍；

4. 循环使用的次数增加；

5. 降低破片率，获得更好的TTV。

多效研磨助剂在水中以3-5%的比例稀释，与B4C混合均匀后即可作为研磨液使用。

应用范围蓝宝石衬底：蓝宝石加工过程中B4C双面研磨制程

化学机械抛光，英文简称为：CMP。CMP是化学和机械的综合作用，在一定压力及抛光浆料存在下，在抛光液中的腐蚀介质作用下工件表面形成一层软化蹭，抛光液中的磨粒对于工件上的软化层进行磨削，因而在研磨的 工件表面形成光洁表面

抛光皮在化学机械抛光的作用，一能把抛光液有效均匀地输送到抛光皮的不用区域；第二从被加工表面带走抛光过程中的残留五指、碎屑等，达到去除效果。第三传递和承载加工去除过程中所需的机械载荷；第四维持抛光皮表面的抛光液薄膜，以便化学反应充分进行；第五保持抛光过程的平稳、表面不变形，以便获得较好的产品表面形貌。 黑色抛光皮和白色抛光皮的区别？

粗磨：

利用较粗颗粒度的磨料在磨盘与工件面上磨削，进刀量大、效率高；但磨削面较粗，适用于磨削余量较多之工作。

利用较细颗粒度的磨料在磨盘中与工件面上磨削，进刀量较小、表面光洁度好，磨削痕均匀而细。（如图C）

软抛光：

利用磨盘上加装一个特殊材料抛光垫或抛光布，抛光料在抛光垫或抛光布之间运动，使工件比硬抛光更有超镜子一样的高光洁度

利用合成盘、铜盘、锡盘、树脂盘等非常高精密度的基面加入微米级金刚石磨料，使工件表面变得既高精密平面度，又有像镜子一样的高光洁度。 抛光皮、抛光布、抛光片等,表面结构分为平面型、网格型和螺旋线型等。宝安区双面耗材价格

研磨液耗材可以循环用吗？龙岗区纳米耗材制作

日程生活中，***是我们经常会使用到的工具，而***会有镜面的效果就离不开抛光。在***抛光过程中我们需要使用研磨抛光耗材有哪些？是怎样的流程？下面我们去了解一下。

根据目数由小到大，依次使用磨石研磨刀身，磨到800-1000目后，就可以使用研磨抛光耗材开始抛光了。

依次用1000目、2000目再到3000目的砂纸进行打磨，每一道都要磨充分，在3000目砂纸打磨结束后，刀身已经有较好的镜面效果了，但此时表面仍可以看到一道道较细的拉丝纹路如果要得到更强镜面效果，可以使用研磨膏来研磨，研磨膏粒径选择W1或W0.5的。抛光完成后，刀条表面会变成镜子一样。

使用研磨抛光耗材的操作方式：将砂纸剪成小块，从刀背包住刀条，用手捏着来回打磨，这种方法操作起来简单方便，也比较节省砂纸。使用研磨膏时，找一快棉布，把研磨膏涂在刀条或棉布上，与砂纸抛光方法一样，从刀背包住刀条，用手捏着来回打磨无论砂纸还是研磨膏，因为湿磨效果会更好，所以使用时都要洒点水 龙岗区纳米耗材制作

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