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实验室分析仪基本参数
  • 品牌
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  • 齐全
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被测物料不溶于水,就用自来水作为试剂,以节约成本;被测物料在水中悬浮,可用乙醇将粉末湿润后放入样品槽;超声分散的时间为15-60秒,测试结果一直稳定,不可再变化,说明样粉已被充分分散。有些试样由于强度低,超声分散太长,有可能产生粉碎,使测试结果越来越细。有些试样不易分散,也可加长分散时间。激光粒度仪的相关知识点就先说到这里了,这款产品还有很多的常识等着各位来发现与了解,如果您还想要了解更多内容,还请先关注好我们,华致林小编会不定期在此跟大家分享更多的信息。驰光机电科技拥有业内专业人士和高技术人才。宁夏高灵敏度纳米粒度分析仪厂家

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而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。吉林粒度分析仪价格驰光具备雄厚的实力和丰富的实践经验。

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光子相关光谱法就根据特定方向的光子涨落起伏分析其颗粒大小。算法:采用除符合GB/T19627-2005/IS013321:1996标准的累积法外,还有R-R算法,可以算出纳米粒子样品的D50、D10及D90,并给出分布曲线。高灵敏度与信噪比:探测器采用专业级进口光电倍增管(PMT),对光子信号具有较高的灵敏度和信噪。纳米粒度仪分辨能力:中心部件采用CR-70-1-245数字相关器,具有识别5ns的光子脉冲分辨率。运算功能:采用高速数字相关器CR-70-1-245有245个通道进行数据采集与实时相关运算。稳定的光路系统:采用635nmLD激光光源和光纤技术搭建而成的光路系统。

CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间,以及病毒颗粒的团聚情况,峰值清晰可见,为疫苗的研发生产提供全新的解决方案。应用范围:CPS纳米粒度分析仪可测量粒度分布在5nm-75微米之间的超细粉,大量应用于以下领域。化工:聚合物乳胶和乳液,助剂及添加剂(纳米碳酸钙CaCO,重晶石3CaSO),白炭黑SiO2,金刚石、磨料、陶瓷、碳化硅、氮化硅等,抗冲击增强颗粒。制药/生物:纳米金和纳米银,病毒和类病毒颗粒,细胞和细胞碎片,蛋白质,脂质体。驰光机电以好的,优良的产品,满足广大新老用户的需求。

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CPS纳米粒度仪测量金刚石的粒径:金刚石微粉是指颗粒度细于36/54微米的金刚石颗粒,金刚石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于机械、航天、光学仪器、玻璃、陶瓷、电子、石油、地质、工业部门,用于制作PCD(聚晶金刚石)、 PDC(金刚石复合片)、陶瓷结合剂、金属结合剂、电镀产品;制作拉丝模、电镀磨具,陶瓷、金属结合剂磨具等;制造金刚石树脂结合剂弹性磨块等;用于精密机械、光学玻璃、精细陶瓷、宝石及半导体等产品的研磨抛光。CPS纳米粒度分析仪测量金刚石微粉的粒径。我公司生产的产品、设备用途非常多。安徽高灵敏度纳米粒度分析仪厂家

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如果能够对催化剂元素含量(钴、锰和溴Br)进行连续在线分析,可以更好地控制工艺,提高产品质量和增加产量。C-Quand在线EDXRF分析仪:利用 C-Quand在线EDXRF分析仪对钴、锰、溴三种催化剂进行了同时和连续的分析。所使用的技术是由X射线管激发的能量分散X射线荧光,不需要放射源。在分析过程中,连续流动过程样品中的催化剂被X射线激发,并发出其特征辐射。使用技术气体比例计数器(GPC)检测和分析这些放射X射线,并使用存储的校准曲线将其转换为结果。宁夏高灵敏度纳米粒度分析仪厂家

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CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!驰光产品适用范围广,产品规格齐全,欢迎咨询。江苏粒度分析仪哪家好UHR型可达1%,良好性能:CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果...

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