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实验室分析仪基本参数
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而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。驰光重信誉、守合同,严把产品质量关,热诚欢迎用户前来咨询考察,洽谈业务!河北激光粒度粒形分析仪价格

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驰光机电小编温馨提示:为了准确地测量颗粒直径,EyeTech必须区分在焦点中心的和离开焦点中心的交互作用,因为只有在焦点中心的交互信号才能提供真实的颗粒直径。这个可以采用脉冲形状过滤器可以实现。只有衍生信号窄的脉冲才被认为是在中心的交互信号,然后被加到粒径分布数据中。颗粒互相作用产生光阻:可记录每个颗粒数据,直接测量真实粒径,与光学及其他性质无关,粒径浓度均可检测,无需校正;仪器的光学测量系统(主机)与样品分散系统完全单独的。宁夏激光粒度分析仪价格驰光机电科技是您可信赖的合作伙伴!

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使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图,表明仪器的重复性较好,样品的粒径为0.586微米。分析氧化铝粉末时,为防止样品发生凝聚,需要添加入少量的乙酸。氧化锌ZnO粉末:氧化锌俗称锌白,是锌的一种氧化物。氧化锌是一种常用的化学添加剂,大量地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、药膏、粘合剂、食品、电池、阻燃剂等产品的制作中。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大,透明度高,有优良的常温发光性能,在半导体领域的液晶显示器、薄膜晶体管、发光二极管等产品中均有应用。

颗粒形状信息很重要,混合样品或未知组分样品,需要高分辨率的数量分布来准确分析样品中的少数特殊颗粒,正在考虑将实验室检测扩大到工业规模的检测,我们还提供原位在线粒形分析系统,可用于高温,高压以及腐蚀性环境。动态测量系统,显微镜同等级的精度真实原始数据的存储,强大的预处理工具,高质量的图像分析结果,可精确测量非球形颗粒,供40个ISO标准粒形参数,包含粒径、形状因子、球形度、圆度、对比和表格,可保存分析测量图像和录保,图像分析结果可追溯。以客户至上为理念,为客户提供咨询服务。

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仪器的主要参数为:测量范围:0.005-75μm,光源:405nmLED,旋转速度可选:12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM,标准分析圆盘:CR-39聚合物(耐有机溶剂和水溶液),可选配:低密度样品分析扩展、变速圆盘;自动密度梯度液生成器(型号AG300);自动进样器(型号AS200);标定用标准颗粒。激光粒度仪根据光学衍射和散射的原理,从激光器发出的激光束经显微物镜聚集,滤波和准直后,变成直径约10mm的平行光束,该光束照射到待测的颗粒上,就发生了散射,散射光经傅立叶透镜后,照射到光电探测器上的任一点都对应于某一确定的散射角。驰光机电科技有限公司在行业的影响力逐年提升。河北激光粒度粒形分析仪价格

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测量低密度颗粒:示差沉降法过去一般用于测量密度大于分散介质液体密度的颗粒,CPS开发了一项新的技术技术(US Patent5,786,898)。很多用常规示差沉降法很难或者不可能分析的材料(例如油乳液、蜡乳液、粘性乳液或脂质体),现在可以方便地使用CPS进行分析,而且精度很高。速度调节:CPS开发了一种特殊的圆盘设计使得在分析过程中可以调节圆盘的转速,而不会对沉降液体产生扰动,转速可以在20倍范围内升高或者降低,这样一来就使得分析的动态范围几乎增大了20倍。河北激光粒度粒形分析仪价格

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CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!驰光产品适用范围广,产品规格齐全,欢迎咨询。江苏粒度分析仪哪家好UHR型可达1%,良好性能:CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果...

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