温州全自动单盘金相磨抛机按钮操作

金相磨抛机抛光时注意事项：抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大，并从边缘到中心不断地作径向往复移动。抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多，会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落，抛光面质量不佳；若抛光液太少，将使抛光面变得晦暗而有黑斑。后期应使试样在抛光盘上各方向转动，以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。 尽量减少抛光面表层金属变形的可能性，整个光时间不易过长，磨痕全部消除，出现镜面后，抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。金相磨抛机可使磨出来的样品表面光滑平整。温州全自动单盘金相磨抛机按钮操作

通常由机座、底盘、动力磨抛头、控制单元及自动加液单元（可选）等部分组成，磨抛夹具可同时夹持多个试样，金相磨抛机的工作参数包括加载力方式和力值、底盘及动力头转向及转速、磨抛时间、冷却水和自动添加抛光液等设定等均通过控制单元输入，并可保存为程序供后续调用。整个过程中，工作人员只需做固定或放置、取出、清洁试样，更换砂纸、磨盘或抛光布等工作，磨抛操作均由设备按设定程序自行完成，明显提升制样效率、改善制备重现性、降低操作者工作强度，试样的放置及取出、清洗、烘干、磨盘/砂纸/抛光布的更换仍需人工进行。温州全自动单盘金相磨抛机按钮操作金相磨抛机（全自动）采用西门子变频器和日本SMC气动元件。

金相磨抛机故障排除：急停按键按下，当释放紧急停止按钮后该信息就会消失；锁限位故障，通讯超时、限位开关损坏或者线路故障断开，关机重启，检查开关或者线路；磨头不转动，通讯超时或者电机过载，关机重启，降低力度并继续制备进程；磨盘不转动，通讯超时或者电机过热，关机重启或者等待电机降温在开机，降低力度并继续制备进程；磨头磨盘电机不通知，通讯故障，关闭电源后重启；磨盘电机无法停止，数据库参数缺损行参数，在按启动键后再按停止；磨头上升后无法下降，通讯故障或者断气，关机重启，检查气源气压；加载气缸不伸出，通讯故障或者气压不够，停止制备启动，再次启动制备，检查气源。

金相磨抛机：试样磨光的目的是要能得到一个平整的磨面，这种磨面上还留有极细的磨痕，这将在以后的抛光过程中消除。磨光工序又可分为粗磨和细磨两步。粗磨：手工对于软材料可用锉刀锉平，一般材料都用砂轮机磨平。操作时应利用砂轮侧面，以保证试样磨平。要注意接触压力不宜过大同时要不断用水冷却，防止温度升高造成内部的组织发生变化。倒角时防止细磨时划破砂纸。但对需要观察脱碳、渗碳等表面层情况的试样不能倒角，有时还要采用电镀敷盖来防止这些试样边缘倒角。粗磨完成后，凡不作表面层金相检验的棱边都应倒成小圆弧，以免在以后的工序过程中会将砂纸或抛光物拉裂。甚至还可能会被抛光物钩住而被抛飞出外，造成事故。金相磨抛机操作面板置于上方，避免了水渍污染和松动的试样造成的损坏，还避免意外更改转速设置。

金相磨抛机：化学抛光和化学机械抛光手工化学抛光是依靠化学试剂对样品的选择性溶解作用将磨痕去除的一种方法：例如用1～2g草酸、2～3mL氢氟酸、40mL过氧化氢、50mL蒸馏水的化学抛光剂。对碳钢、一般低合金钢的退火、淬火组织进行化学抛光(擦拭法)；效果较好。此法适用于没有机械抛光设备的单位。化学抛光一般总不是太理想的，若和机械抛光结合；利用化学抛光剂边腐蚀边机械抛光可以提高抛光效率。化学抛光和化学机械抛光手工化学抛光是依靠化学试剂对样品的选择性溶解作用将磨痕去除的一种方法：例如用1～2g草酸、2～3mL氢氟酸、40mL过氧化氢、50mL蒸馏水的化学抛光剂。对碳钢、一般低合金钢的退火、淬火组织进行化学抛光(擦拭法)；效果较好。此法适用于没有机械抛光设备的单位。化学抛光一般总不是太理想的，若和机械抛光结合；利用化学抛光剂边腐蚀边机械抛光可以提高抛光效率。金相磨抛机使金属组织中的夹物、石墨等不容易脱落。温州全自动单盘金相磨抛机按钮操作

金相磨抛机（全自动）也可以通过手动操作参数制样，方便制样多样性。温州全自动单盘金相磨抛机按钮操作

金相磨抛机技术参数：工作盘 Φ200mm/Φ230mm/250mm，转速 100-1000r/min，三档定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定义，旋转方向 顺时针或逆时针可调，电机功率/电源电压 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE)，水压 1-10bar/0.1-1Mp，进水管 Φ8mm长2m，排水管 内径Φ40，环境温度 5-40℃，尺寸 720x6855x320mm，重量 50Kg。装箱清单：金相磨抛机 1台，进水管（带接头） 1根，排水管 1根，电源线（国标插头） 1根，卡圈 2个，砂纸（320#、600#、800#、1000#各一张） 4张，植绒 1张，帆布 1张，操作手册 1套，合格证 1张 温州全自动单盘金相磨抛机按钮操作