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实验室分析仪基本参数
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CPS纳米粒度分析仪测量参数:粒径、粒形和浓度;粒径范围:0.1-3600μm;浓度范围:高达109颗粒/cm3(对1μm颗粒);供样方式:液体、干粉、表面;系统规格/重量电源:665L×280W×183H(mm);14Kg;100-130V,205-240V,50/60Hz,100VA;2mW He-Ne,632.8nm,硅PIN二极管检测器;全量程的0.3%,小可达0.2μm;同步频闪光源,亮度和持续时间可调;频闪率;可达30次/秒。分辨率B&W CCD摄像机。NTSC 840×640像素;PAL768×572像素。Windows XP操作系统,检测报告自动生成,符合FDA 21 CFRPART11标准。ISO标准;符合多项ISO方法标准;测量池模块:液体、乳液/不透明液体、干粉、纤维、磁性颗粒、加热液体及气溶胶。驰光机电科技有限公司与广大客户携手共创碧水蓝天。四川高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪报价

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低维护配置允许安装分析仪在常压下将样品返回的合适位置,进一步减少维护需求。C-Quand在线EDXRF分析仪的优势:1.带有十五个测量通道,可以同时分析15种元素的含量。2.没有运动部件,不需要更换动力窗模块。3.运行维护成本低,无后期耗材成本。4.维护操作简单,带有全自动样品池清洗模块,每次维护时间多数十分钟,宕机时间短。5.内置标准样品,不需要停机校准,实现真正的完全在线测量。6.测量结果不受样品密度和原料种类影响,直接测量元素含量。北京高灵敏度纳米粒度分析仪报价以客户至上为理念,为客户提供咨询服务。

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CPS分析仪基本原理:CPS纳米粒度分析仪依据Stokes定律,V=D²(ρP-ρF)G/18η,即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量。待测样品从圆盘中心进入高速旋转的圆盘,在离心力的作用下发生沉降,沉降的速度遵循Stokes公式,在距离圆盘的边缘固定位置设有激光检测器,颗粒按尺寸大小依次通过探测器,仪器记录颗粒通过探测器的时间,由于所有颗粒走过的路程都一样,因此,颗粒运动所需的时间与颗粒本身尺寸的平方成反比,激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度。

CPS纳米粒度仪测量金刚石的粒径:金刚石微粉是指颗粒度细于36/54微米的金刚石颗粒,金刚石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于机械、航天、光学仪器、玻璃、陶瓷、电子、石油、地质、工业部门,用于制作PCD(聚晶金刚石)、 PDC(金刚石复合片)、陶瓷结合剂、金属结合剂、电镀产品;制作拉丝模、电镀磨具,陶瓷、金属结合剂磨具等;制造金刚石树脂结合剂弹性磨块等;用于精密机械、光学玻璃、精细陶瓷、宝石及半导体等产品的研磨抛光。CPS纳米粒度分析仪测量金刚石微粉的粒径。驰光机电科技有限公司热忱欢迎新老客户惠顾。

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EyeTec浓度测量:除了颗粒大小,激光和颗粒交互产生的信号可以提供非常有用的颗粒浓度信息。EyeTech记录全部的交互信号。因为旋转的激光的检测范围是一定的,所以颗粒浓度可以计算出来。了解颗粒数据库系统:可通过鼠标点击调出每个已检测颗粒的详细数据信息,包括图像、图形和参数;颗粒数量无限制;颗粒信息易于输出至Excel进行进一步处理;提供颗粒信息数据库,数据挖掘便于分析对比和统计。动态粒形分析的形状和粒径相关数据可提供关于单个颗粒丰富的信息。驰光机电创新发展,努力拼搏。山西高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪哪家好

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测量低密度颗粒:示差沉降法过去一般用于测量密度大于分散介质液体密度的颗粒,CPS开发了一项新的技术技术(US Patent5,786,898)。很多用常规示差沉降法很难或者不可能分析的材料(例如油乳液、蜡乳液、粘性乳液或脂质体),现在可以方便地使用CPS进行分析,而且精度很高。速度调节:CPS开发了一种特殊的圆盘设计使得在分析过程中可以调节圆盘的转速,而不会对沉降液体产生扰动,转速可以在20倍范围内升高或者降低,这样一来就使得分析的动态范围几乎增大了20倍。四川高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪报价

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CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!驰光产品适用范围广,产品规格齐全,欢迎咨询。江苏粒度分析仪哪家好UHR型可达1%,良好性能:CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果...

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