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实验室分析仪基本参数
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  • 驰光
  • 型号
  • 齐全
  • 加工定制
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氧化锌的能带隙和激子束缚能较大,透明度高,有优良的常温发光性能,在半导体领域的液晶显示器、薄膜晶体管、发光二极管等产品中均有应用。氧化锌粉末还用于制作口腔用品,如牙膏、牙凝胶、牙粉等。粒度仍然是评价氧化锌粉末的重要指标!CPS纳米粒度分析仪是您的较佳选择!CPS纳米粒度仪测得的氧化锌粉末的粒径分布结果,平均粒径为0.541微米;仪器使用转速为12,000转/分。应用实例:病毒颗粒的粒径分布及疫苗的研发,病毒颗粒的团聚和聚集对病毒解决的临床安全性和疗效有重要影响。驰光具备雄厚的实力和丰富的实践经验。病毒颗粒分析仪价格

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研磨液中的化学成分与硅片表面材料产生化学反应,将不溶的物质转化为易溶物质,或者将硬度高的物质进行软化,然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从硅片表面去除,溶入流动的液体中带走,即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的。其反应分为两个过程:化学过程:研磨液中的化学品和硅片表面发生化学反应,生成比较容易去除的物质;物理过程:研磨液中的磨粒和硅片表面材料发生机械物理摩擦,去除化学反应生成的物质。山东粒度分析仪报价驰光机电创新发展,努力拼搏。

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为了提高粒径的测量精度,需要较高的圆盘转速,目前市面上常见的运行速度较高在15000RPM,而国内在1500RPM,无法满足CPM化学机械抛光的需求。CPS-24000纳米粒度仪的最高转速为24000转,测试范围在5nm-75um,每次加样只需要0.1ml,降低样液的测试成本,可连续测量多达40个样品。CPS纳米粒度分析仪的使用方法已经列入国标,包括《金属粉末粒度分布的测量-重力沉淀光透法》、《煤矿粉尘粒度分布测定方法》、《橡胶配合剂-炭黑-聚集体尺寸的测定-使用光跟踪盘式离心沉淀仪法》等。

而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。山东驰光机电科技有限公司不断从事技术革新,改进生产工艺,提高技术水平。

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高灵敏度:即使只有1微克样品,CPS也能得到一个准确的粒度分布结果。快速、高精度数模(A/D)转换:可用信号分辨率(即软件操作的数据对象)决定于数模转换(A/D)过程。CPS系统使用的数模转换可以实现在每秒31次取样时保持20位以上的精度,即百万分之一的误差。快速检测头响应:CPS系统的检测头和电路设计允许在95%精度下0.1秒的响应速度,而同类产品的响应时间为1-4秒。这一出众的快速移动峰值检测能力较大地扩展了测量的动态范围,比同类型产品提供高出4倍多的分析速度。驰光机电科技有限公司团队从用户需求出发。激光粒度分析仪

驰光机电科技从国内外引进了一大批先进的设备,实现了工程设备的现代化。病毒颗粒分析仪价格

UHR型可达1%,良好性能:CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果,即使对于使用其它分析方法非常难分析的样品,CPS依然能够提供满意的分析结果。高分辨率:CPS具有强大的分辨率,粒径差别在2%以内的窄峰可以被完全分辨出来。所示样品包含五种不同的聚苯乙烯标定颗粒,在图中可以清楚地看到它们完全被分辨出来呈现为五个单独的粒度峰。高准确度:可追溯&校准到NIST标准颗粒的可靠、重复性结果。高精度:与SEM/显微镜分析结果的对比。病毒颗粒分析仪价格

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CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!驰光产品适用范围广,产品规格齐全,欢迎咨询。江苏粒度分析仪哪家好UHR型可达1%,良好性能:CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果...

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