电解抛光腐蚀电解浸蚀参考资料
试验材料 |
浸蚀液配比 |
电解参数 |
时间 |
阴极材料 |
备注 |
钢 |
苦味酸2g 蒸馏水100ml 氢氧化钠25g |
6V 24。C |
30秒 |
不锈钢 |
低合金钢 染色碳化物 |
钢 |
铬酸(10%) |
3V 24。C |
可变 |
不锈钢 |
奥氏体或铁素体不锈钢,浸蚀碳化物和υ相 |
钢 |
草酸(10%) |
3V 24。C |
可变 |
不锈钢 |
|
钢 |
硝酸/甘油/盐酸 =1:1:8 |
3~6V 24。C |
10秒 |
不锈钢 |
不锈钢,浸蚀奥氏体。 |
钢 |
水/硝酸(1.4)=1:1 |
1.5V 24。C |
≤2分 |
不锈钢 |
奥氏体、铁素体不锈钢浸蚀晶界 |
钢 |
硫酸(1.84)/水=1:19 |
6V 0.1~0.5A 24。C |
5~15秒 |
不锈钢 |
铁—铬—镍合金 |
钢 |
过硫酸铵10~100g/1升水 |
1.5~2V 24。C |
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不锈钢 |
υ相和碳化物相染色 |
铝 |
正磷酸 210份 蒸馏水 65份烷基乙醇 45份 |
0.75~1.2A/cm2 24。C |
1.5~2.5分 |
不锈钢 |
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低倍组织热酸蚀,样品要求:检验面距切割面尺寸:热锯切割时不小于20mm;冷锯切割时不小于10mm;火焰切割时不小于25mm检验面粗糙度:热酸腐蚀不大于1.6um;冷酸腐蚀不大于0.8um试样尺寸:厚度一般20mm~30mm;纵向试样的长度一般为边长或直径的1.5倍;钢板检验面的尺寸一般为长250mm,宽为板厚;测试内容:一般疏松、中心疏松、锭型偏析、斑点状偏析、白亮带、中心偏析、冒口偏析、皮下气泡、残余缩孔、翻皮、白点、轴心晶间裂缝、内部气泡、非金属夹杂物(目视可见)及夹渣、异金属夹杂。杭州盐酸腐蚀厂家批发低倍加热腐蚀消 除了低倍组织制样过程的不确定性,提高低倍组织制样的重复性。
电解抛光腐蚀缺点,特别适合于容易产生塑性变形而引起加工硬化的金属材料和硬度较低的单相合金,比如高锰钢、有色金属、易剥落硬质点的合金和奥氏体不锈钢等。尽管电解抛光有如上优点,但它仍不能完全代替机械抛光,因为电解抛光对金属材料化学成分的不均匀性、显微偏析特别敏感,所以具有偏析的金属材料基本上不能进行电解抛光。含有夹杂物的金属材料,如果夹杂物被电解液浸蚀,则夹杂物有部分或全部被抛掉,这样就无法对夹杂物进行分析。如果夹杂物不被电解液浸蚀,则夹杂物保留下来在抛光面上形成突起。对于只有两相的金属材料,如果这两个相的电化学性相差很大,则电解抛光时会产生浮雕。
电解抛光腐蚀, 贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
王水 |
交流电:6伏 另一电板:石墨 |
铂及其合金、铑及其合金的电解浸蚀。 |
稀王水: 盐酸 25亳升 硝酸 8.3亳升 水 65.7亳升 |
交流电:6~10伏 电流密度:1.5~2.0安/厘米2 时间:8~10分钟 另一电极:纯铂 |
铂、铱的电解浸蚀。 |
盐酸 20亳升 氯化钠 25无 水 65亳升 |
交流电:6伏 另一电极:石墨 时间:1分钟 |
铂、铂钉、铂铱合金的电解浸蚀。 |
盐酸 20亳升 甘油 5亳升 水 70亳升 |
交流电:6伏 另一电极:石墨 时间:30分钟 |
铱及铱铑合金的电解浸蚀。 |
电解抛光腐蚀参考资料
试验材料 |
电解液配比 |
电压 |
时间 |
备注 |
不锈钢和合金钢 |
水:240ml,硫酸: 340ml 磷酸(85%): 650ml |
1.5~12V |
2~10分 |
0.1~0.2A/cm2 |
不锈钢 |
水:330ml,硫酸 120ml磷酸(85%): 550ml |
1.5~12v |
1分 |
0.05A/ cm2 |
不锈钢和合金钢 |
水:240ml,磷酸:(85%):650ml铬酸80% 硫酸 130ml |
1.5~12V |
5~60分 |
0.5A/cm2 100~130。F |
钝铁、碳钢、合金钢、不锈钢、钛、铬 |
醋酸(冰醋酸) 940ml高氯酸(60%) 60ml |
20~60V |
1~5分 |
多用途好的电解液 |
纯钢 |
蒸馏水 175ml磷酸(85%) 825ml |
1.0~1.6v |
10~40分 |
铜阴极 |
黄铜、铜、铜合金(锡青铜除外) |
水 300ml磷酸(85%) 700ml |
1.5~1.8V |
5~15分 |
铜阴极 |
α或(α+β)黄铜 |
水 600ml磷酸(85%) 400ml |
1~2v |
1~15分 |
铜或不锈钢阴极 |
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晶间腐蚀是什么?以晶间腐蚀为起源,在应力和介质的共同作用下,可使不锈钢、铝合金等诱发晶间应力腐蚀,所以晶间腐蚀有时是应力腐蚀的先导,在通常腐蚀条件下,钝化合金组织中的晶界活性不大,但当它具有晶间腐蚀的敏感性时,晶间活性很大,即晶格粒与晶界之间存在着一定的电位差,这主要是合金在受热不当时,组织发生改变而引起的。所以晶间腐蚀是一种由组织电化学不均匀性引起的局部腐蚀蚀。此外晶界存在杂质时,在一定介质也也会引起晶间腐蚀。上海电解腐蚀源头厂家
电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表 浸蚀剂名称及成分 使用方法 适用范围 混合酸水溶液: 磷酸 90亳升 硝酸 8亳升 水 ...