3D打印公司Nanoscribe早期是德国卡尔斯鲁厄理工学院的分支机构，自此成为全球市场的高精度，微型3D打印技术和微光解决方案的提供商。德国3D打印公司Nanoscribe正在使用其Photonic Professional GT 3D打印机来制造包括标准折射微光学，自由光学元件，衍射光学元件和多透镜系统在内的微光学形状。德国增材制造公司表示，“将 3D打印技术 与用户友好的软件和创新材料相结合，导致可重复的精益流程”，使客户能够“克服当前的技术障碍”。 Nanoscribe使用其Photonic Professional GT 3D打印机，近期展示了如何使用双光子聚合工艺生产各种微光学形状。这些Photonic Professional GT 3D打印机据称提供具有光学质量表面光洁度的亚微米特征，以及沿着3D打印工作流程的快速制作。更多增材制造技术想要了解，请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司。海南高精度增材制造微纳加工系统
Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造，一直致力于开发和生产3D 微纳加工系统和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡尔斯鲁厄理工学院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大学和创新科技企业的中，有超过2,500 多名用户在使用我们突破性的 3D 微纳加工技术和定制应用解决方案。 Nanoscribe 凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场的主导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。 Nanoscribe 将在未来进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。德国增材制造PPGT2纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨增材制造技术发展趋势和应用。
Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。
荣获多个奖项的德国Nanoscribe公司开发并销售的3D打印机是高度专业化的综合解决方案，在科学和工业领域，有1,000多位用户正在使用这种空前的全新应用。这包括为微创手术打印显微针、附加生产微镜头阵列、以及生产芯片上微光学元件。每周都有新的科学文献强调应用该器械的多种方式，并称之为“创新引擎”。 增材制造（AM）是近年来特别热门和相当有**性的制造工艺之一。这种新型制造工艺只要把设计输入机器里，然后把功能部件从机器的另一边取出来即可，这种想法以前出现在上一代人的科幻小说里，虽然现在我们仍离《星际迷航》电影里那样复制人类的技术还很遥远，但我们正在缩小这个差距。塑料、橡胶、陶瓷、油墨、贵金属和一些特殊合金材料，每天都在不同的行业中被制造及应用，其应用领域非常广，包括普通玩具、模具，甚至到人体部位等。现在这一切都可以利用3D打印（增材制造）技术打印出来。Nanoscribe公司作为精密之傲高精度3D打印系统制造商，于2018年在中国成立了分公司，加强了德国高科技公司在中国销售活动，完善了整个亚太地区的客户服务范围。 Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司为您讲解增材制造的基本原理、优缺点及具体方法。
借助Nanoscribe的3D微纳加工技术，您可以实现亚细胞结构的三维成像，适用于细胞研究和芯片实验室应用（lab-on-a-chip）。我们的客户成功使用Nanoscribe双光子无掩模光刻系统制作了3D细胞支架来研究细胞生长、迁移和干细胞分化。此外，3D微纳加工技术还可以应用在微创手术的生物医学仪器，包括植入物，微针和微孔膜等制作。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具，在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说，在纳米级、微米级以及中尺度结构上，可以直接生产用于工业批量生产的聚合物母版。
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增材制造技术正在推动制造业的数字化转型和创新。海南高精度增材制造微纳加工系统
人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计，甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe 公司专注于微观3D打印技术，通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的Quantum X平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。 海南高精度增材制造微纳加工系统
