Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。光学和光电组件的小型化对于实现数据通信和电信以及传感和成像的应用至关重要。通过传统的微纳3D打印来制作自由曲面透镜等其他新颖设计会有分辨率不足和光学质量表面不达标的缺陷，但是利用双光子聚合原理则可以完美解决这些问题。该技术不仅可以用于在平面基板上打印微纳米部件，还可以直接在预先设计的图案和拓扑上精确地直接打印复杂结构，包括光子集成电路，光纤顶端和预制晶片等。增材制造相比传统减材制造更加的节省原料，也更加的节约能源。重庆Nanoscribe增材制造设备
Nanoscribe在2021年6月30日推出了头一个用于熔融石英玻璃微结构的3D微加工商用高精度增材制造工艺和材料——GlassPrintingExplorerSet。新型光树脂GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心，与Glassomer联合研究开发。据说这是目前只有一种用于熔融石英玻璃微细加工的光树脂，因为高光学透明度以及出色的热、机械和化学性能脱颖而出，为探索生命科学、微流体、微光学、材料工程和其他微技术领域的新应用开辟了机会。GlassPrintingExplorerSet能够高精度3D打印，并且具有耐高温性、机械和化学稳定性以及光学透明度。熔融石英玻璃的双光子聚合(2PP)技术展现了玻璃产品的出色性能，推动了对生命科学、微流体、微光学和其他领域的探索。瑞士弗里堡工程与建筑学院助理教授兼图形打印系主任NicolasMuller称，GP-Silica研究制造复杂微流体系统方面具有巨大潜力，尽管所需的热后处理要求很高。重庆Nanoscribe增材制造设备增材制造需求，欢迎咨询纳糯三维科技（上海）有限公司.
人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计，甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe公司专注于微观3D打印技术，通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的QuantumX平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。
3D打印(3DPrinting)，又称作AdditiveManufacturing(增材制造)，是一种用digitalfile(数字文件)生成一个三维物体的过程。在3D打印的过程中，一层层的材料被逐次叠加起来，直到形成后期的物体形态。每一层可以看作这个物体的一个很薄的横截面，而每层的厚度则决定了打印的精度，层的厚度越小，打印的精度越高，打印出来的实体与digitalmodel(数字模型)本身越接近。3D打印在创建物体形态上有极大的自由度，几乎不受形态复杂度限制，这也是3D打印相比于传统制造方法（主要是SubtractiveManufacturing即减材制造）的一个重要优势。使用传统减材制造方法时，部件的复杂度直接影响流程的复杂度，复杂的形态会使开模难度加大、使用工具更加复杂、成本大幅上涨。然而对于3D打印技术来说，由于其独特的分层成形原理，简单的形态和复杂的形态几乎可以一视同仁。譬如，外表闭合一体而内部镂空的形态，或者无接缝的链接结构(interlockingstructures)，无法通过传统制造工艺获得，只能通过AdditiveManufacturing建造。激光增材制造可以快速构建复杂的三维结构。
QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具，可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品，QuantumXshape提升了3D微纳加工能力，即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造，以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之，工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺，适用于晶圆级批量加工。作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。影响增材制造技术的因素你了解吗？天津高精度增材制造无掩膜激光直写
增材制造技术可用于快速原型制造和生产。重庆Nanoscribe增材制造设备
借助Nanoscribe双光子聚合技术特殊的高设计自由度和高精度特点，您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。2GL通过创新的设计重新定义了典型复杂结构微纳光学元件的微纳加工制造。该技术结合了灰度光刻的出色性能，以及双光子聚合的亚微米级分辨率和灵活性。重庆Nanoscribe增材制造设备
