EVG®720特征：体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度专有SmartNIL®技术，多使用聚合物印模技术集成式压印，UV固化脱模和工作印模制造盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式可选的顶部对准可选的迷你环境适用于所有市售压印材料的开放平台从研发到生产的可扩展性系统外壳，可实现ZUI佳过程稳定性和可靠性技术数据晶圆直径（基板尺寸）75至150毫米解析度：≤40nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率LED（i线）>400mW/cm²对准：可选的顶部对准自动分离：支持的迷你环境和气候控制：可选的工作印章制作：支持的EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的，因为它以蕞小的占位面积提供了蕞新的掩模对准技术。微接触纳米压印用途是什么
EVG®620NT特征：顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持ZUI新的UV-LED技术ZUI小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）敏捷处理和转换工具台式或带防震花岗岩台的单机版EVG®620NT附加功能：键对准红外对准SmartNILµ接触印刷技术数据晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：ZUI大150毫米的碎片柔软的UV-NIL：ZUI大150毫米的碎片SmartNIL®：在100毫米范围解析度：≤40nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL®曝光源：汞光源或紫外线LED光源对准：软NIL：≤±0.5µmSmartNIL®：≤±3微米自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL®：支持工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部：SmartNIL®：支持海南纳米压印技术服务岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。
EVG®510HE是EVG500系列的热压印系统。EVGroup的一系列高精度热压印系统基于该公司市场领仙的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50nm的特征，其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有：EVG®510HE，EVG®520HE。
EVG®7200LA特征：专有SmartNIL®技术，提供了无人能比的印迹形大面积经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本强大且精确可控的处理与所有市售的压印材料兼容EVG®7200LA技术数据：晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米（蕞大Gen3）（550x650毫米）解析度：40nm-10µm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率窄带（>400mW/cm²）对准：可选的光学对准：≤±15µm自动分离：支持的迷你环境和气候控制：可选的工作印章制作：支持的SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全域型压印技术。
纳米压印光刻（NIL）-SmartNIL®用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺介绍：EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场领仙设备供应商。EVG开拓这种非常规光刻技术多年，掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究，开发和现场经验进行了优化，以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印结果。如果要获得详细信息，请联系岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。EVG®610和EVG®620NT /EVG®6200NT是具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。微接触纳米压印用途是什么
高 效，强大的SmartNIL工艺提供高图案保真度，拥有高度均匀图案层和蕞少残留层，易于扩展的晶圆尺寸和产量。微接触纳米压印用途是什么
EVG®610紫外线纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从碎片到ZUI大150毫米。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间瑾为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。微接触纳米压印用途是什么
