双光子聚合基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 产地
  • 德国
  • 厂家
  • Nanoscribe
双光子聚合企业商机

双光子聚合技术作为物质在发生双光子吸收后所引发的光聚合过程的新兴技术,已经在许多领域展示出其巨大的潜力和价值。随着科技的不断进步和发展,我们可以预见到双光子聚合技术在未来将会开启更多的应用领域,推动光电产业的持续进步和发展。同时,随着新材料的不断涌现和技术的不断突破,双光子聚合技术的应用前景也将更加广阔。双光子聚合技术以其高精度、高分辨率、快速高效、高度灵活性和可扩展性等优势,已经在快速3D打印、光子晶体形成、高精度光子器件制造等领域展示出广泛的应用前景。未来,随着科技的不断进步和发展,我们相信双光子聚合技术将会在更多领域得到应用和推广,为光电产业的发展开启新的篇章。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨国内在双光子聚合技术领域的进展。卡尔斯鲁厄高精度双光子聚合3D打印

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QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。QuantumXshape具有先进的激光焦点轨迹控制,可操控振镜加速和减速至特别快的扫描速度,并以1MHz调制速率动态调整激光功率。卡尔斯鲁厄高精度双光子聚合3D打印Quantum X是全球基于双光子灰度光刻技术的工业级微纳加工设备(2GL@).

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。

Nanoscribe作为一家纳米,微米和中尺度高精度结构增材制造**,一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统,以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中,有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。作为基于双光子聚合技术(2PP)的微纳加工领域市场带领者,Nanoscribe在全球30多个国家拥有各科领域的客户群体。基于2PP微纳加工技术方面的专业知识,Nanoscribe为顶端科学研究和工业创新提供强大的技术支持,并推动生物打印、微流体、微纳光学、微机械、生物医学工程和集成光子学技术等不同领域的发展。“我们非常期待加入CELLINK集团,共同探索双光子聚合技术在未来所带来的更大机遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler说道双光子聚合利用了双光子吸收过程对材料穿透性好、空间选择性高的特点。

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作为微纳加工和3D打印领域的带领者,Nanoscribe一直致力于推动各个科研领域,诸如力学超材料,微纳机器人,再生医学工程,微光学等创新领域的研究和发展,并提供优化制程方案。2017年在上海成立的中国子公司纳糯三维科技(上海)有限公司更是加强了全球销售活动,并完善了亚太地区客户服务范围。此次推出的中文版官网在视觉效果上更清晰,结构分类上更明确。首页导航栏包括了产品信息,产品应用数据库,公司资讯和技术支持几大专栏。比较大化满足用户对信息的了解和需求。Nanoscribe中国子公司总经理崔博士表示:“中文网站的发布是件值得令人高兴的事情,我们希望新的中文网站能让我们的中国客户无需顾虑语言障碍双光子聚合与传统的单光子聚合技术有什么区别?卡尔斯鲁厄高精度双光子聚合3D打印

三维加工能力:这种技术可以实现三维加工,能够制造出具有复杂形状的纳米结构。卡尔斯鲁厄高精度双光子聚合3D打印

Nanoscribe独有的体素调谐技术2GL®可以在确保优越的打印质量的同时兼顾打印速度,实现自由曲面微光学元件通过3D打印精确对准到光纤或光子芯片的光学轴线上。NanoscribeQX平台打印系统配备光纤照明单元用于光纤芯检测,确保打印精细对准到光纤的光学轴线上。共焦检测模块用于3D基板拓扑构图,实现在芯片的表面和面上的精细打印对准。Nanoscribe灰度光刻3D打印技术3Dprintingby2GL®是市场上基于2PP原理微纳加工技术中打印速度**快的。其动态体素调整需要相对较少的打印层次,即可实现具有光学级别、光滑以及纳米结构表面打印结果。这意味着在满足苛刻的打印质量要求的同时,其打印速度远远超过任何当前可用的2PP三维打印系统。2GL®作为市场上快的增材制造技术,非常适用于3D纳米和微纳加工,在满足优越打印质量的前提下,其吞吐量相比任何当前双光子光刻系统都高出10到60倍。卡尔斯鲁厄高精度双光子聚合3D打印

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