QuantumXshape在3D微纳加工领域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有赖于其高能力的体素调制比和超精细处理网格，从而实现亚体素的尺寸控制。此外，受益于双光子灰度光刻对体素的微调，该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑，同时保持高精度的形状控制。QuantumXshape不只是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具，同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。通过系统集成触控屏控制打印文件来很大程度提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置，实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产双光子聚合可以通过控制激光的光强和聚焦位置来实现加工的精度和形状，表现出很强的可控性。德国Nanoscribe双光子聚合
QuantumXshape技术特点概要：快速原型制作，高精度，高设计自由度，简易明了的工程流程；工业验证的晶圆级批量生产；200个标准结构的通宵产量；通用及专门使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统，用于快速原型制作和晶圆级批量生产，以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术（2PP）的专业激光直写系统，可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。QuantumXshape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要，这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。欢迎咨询。德国Nanoscribe双光子聚合哪些领域会运用双光子聚合加工技术？
Nanoscribe称，QuantumX是世界上**基于双光子灰度光刻技术（two-photongrayscalelithography，2GL）的工业系统，目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换，物镜和样品夹持器识别会自动运行。多层衍射光学元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成，从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示，折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力，可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列，以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状，如球面和非球面透镜。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业，并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目，打印队列支持连续执行一系列打印作业。
随着科技的不断进步，双光子聚合激光直写技术正以惊人的速度改变着我们的生活。这项创新技术利用双光子效应，通过高能量激光束直接写入材料表面，实现了高精度、高效率的微纳加工。它不仅在微电子、光电子、生物医学等领域展现出巨大潜力，还为我们带来了无限的想象空间。双光子聚合激光直写技术的突破在于其能够实现超高分辨率的微纳加工。传统的光刻技术受限于光的波长，无法达到纳米级别的加工精度。而双光子聚合激光直写技术则能够利用两个光子的能量共同作用，将加工精度提升到亚微米甚至纳米级别。这使得我们能够制造出更小、更精细的微型器件，为微电子行业带来了巨大的发展机遇。除了在微电子领域的应用，双光子聚合激光直写技术还在光电子领域展现出了巨大的潜力。通过控制激光束的强度和聚焦点的位置，我们可以在光学材料中实现三维结构的直接写入。这为光学器件的制造提供了全新的思路，不仅能够提高器件的性能，还能够降低成本。这对于光通信、光存储等领域的发展具有重要意义。双光子聚合技术的更多知识，请致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。
双光子聚合3D打印技术的发展也面临一些挑战。首先，材料选择和性能仍然是一个问题。目前可用的光敏树脂材料种类有限，无法满足所有需求。其次，打印速度和成本也是制约技术发展的因素。虽然双光子聚合3D打印技术比传统技术更快，但仍然需要进一步提高效率和降低成本。然而，随着技术的不断进步和创新，双光子聚合3D打印技术有望在未来取得更大的突破。科研人员正在不断探索新的材料和打印方法，以提高打印质量和效率。同时，企业也加大了对该技术的支持和投入，推动其在各个领域的应用。双光子聚合3D打印技术是一项具有巨大潜力的创新科技。它将为制造业带来的变革，推动产品设计和制造的发展。我们有理由相信，在不久的将来，双光子聚合3D打印技术将成为制造业的主流技术，为我们带来更加美好的未来。事实上，双光子聚合加工是在2001年开始真正应用在微纳制造领域的。上海超高精度双光子聚合激光直写
Nanoscribe中国分公司-纳糯三维为您揭晓飞秒激光双光子聚合微纳加工系统及方法。德国Nanoscribe双光子聚合
对准双光子光刻技术(A2PL®)是Nanoscribe基于双光子聚合（2PP）的一种新型专利纳米微纳制造技术。该技术可以将打印的结构自动对准到光纤和光子芯片上，例如用于光子封装中的光学互连。同时高精度检测系统还可以识别基准点或拓扑基底特征，确保对3D打印进行高度精确的对准。Nanoscribe对准双光可光刻技术搭配nanoPrintX，一种基于场景图概念的软件工具，可用于定义对准3D打印的打印项目。树状数据结构提供了所有与打印相关的对象和操作的分层组织，用于定义何时、何地、以及如何进行打印。在nanoPrintX中可以定义单个对准标记以及基板特征，例如芯片边缘和光纤表面。使用QuantumXalign系统的共焦单元或光纤照明单元，可以识别这些特定的基板标记，并将其与在nanoPrintX中定义的数字模型进行匹配。对准双光子光刻技术和nanoPrintX软件是QuantumXalign系统的标配。德国Nanoscribe双光子聚合
