等离子清洗机基本参数
  • 品牌
  • 达因特,晟鼎精密
  • 型号
  • SPA-5800
  • 用途
  • 工业用,医用,3c行业、显示行业、玻璃行业、新能源行业、汽车行业
  • 加工定制
  • 清洗方式
  • 等离子表面活化
  • 电源
  • 25-40KHz
  • 功率
  • 500-1000W
  • 外形尺寸
  • 580*480*150
  • 重量
  • 12
  • 产地
  • 广东东莞
  • 厂家
  • 晟鼎精密
等离子清洗机企业商机

光刻胶的去除在IC制造工艺流程中占非常重要的地位,其成本约占IC制造工艺的20-30%,光刻胶去胶效果太弱影响生产效率,去胶效果太强容易造成基底损伤,影响整个产品的成品率。传统主流去胶方法采用湿法去胶,成本低效率高,但随着技术不断选代更新,越来越多IC制造商开始采用干法式去胶,干法式去胶工艺不同于传统的湿法式去胶工艺,它不需要浸泡化学溶剂,也不用烘干,去胶过程更容易控制,避免过多算上基底,提高产品成品率。干法式去胶又被称为等离子去胶,其原理同等离子清洗类似,主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶,由于光刻胶的基本成分是碳氢有机物,在射频或微波作用下,氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通过泵被真空抽走,完成光刻胶的去除。等离子物理去胶过程:主要是物理作用对清洗物件进行轰击达到去胶的目的,主要的气体为氧气、氩气等,通过射频产生氧离子,轰击清洗物件,以获得表面光滑的较大化,并且结果是亲水性增大。全自动等离子表面处理机结合了自动化优势,可以搭载生产线进行工作,带来稳定持续的处理效果。山西在线式等离子清洗机性能

等离子清洗机

等离子清洗机在半导体封装中的应用具有明显的优势。首先,等离子清洗能够提供高度均匀的清洁效果,确保芯片表面的每一处都能得到充分的处理。这对于提高封装的可靠性和性能至关重要。其次,等离子清洗机具有高度的可控性和可重复性。通过精确控制等离子体的参数,如气体种类、流量、压力和射频功率等,可以实现对清洗过程的精确控制,从而确保每次清洗都能获得一致的结果。此外,等离子清洗机还能够在不损伤芯片表面的情况下有效去除污染物。相较于机械清洗或化学清洗,等离子清洗能够避免对芯片表面造成划痕或引入新的污染物,从而保护芯片的完整性和性能。等离子清洗机还具有高效率和低成本的优点。它能够在短时间内完成大面积的清洗任务,提高生产效率;同时,由于不需要使用化学试剂,因此也降低了生产成本。安徽真空等离子清洗机欢迎选购真空等离子清洗机是一种应用于表面处理领域的高级清洗设备。

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汽车储物盒在做静电植绒时,通常会在基材上胶前加上一层底涂,以使胶水与储物盒的粘接性更好。采用等离子体表面处理技术来替代上胶前的上底涂工艺,不仅可以活化表面提高粘接力,而且还能降低成本,工艺更加环保。为确保汽车车灯的长期使用寿命,必须对它们进行有效保护,防止水分进入。所以在车灯内胶条(凹槽深20mm)粘接工艺前可使用大气射流等离子进行表面活化,提高胶水的黏附性能,从而确保车灯的可靠粘接和长期密封。在汽车挡风玻璃上面印刷油墨或粘接物件,为取得必要的粘结力,通常会用化学底涂方式来处理表面,这些底涂层含有易挥发的溶剂,一定程度上在以后车辆的使用中会散发出来。使用等离子处理可以对玻璃表面进行活化处理,提高粘接性和可靠性,而且更加环保。

随着集成电路技术的发展,半导体封装技术也在不断创新和改进,以满足高性能、小型化、高频化、低功耗、以及低成本的要求。等离子处理技术作为一种高效、环保的解决方案,能够满足先进半导体封装的要求,被广泛应用于半导体芯片DB/WB工艺、Flip Chip (FC)倒装工艺中。芯片键合(DieBonding)是指将晶圆上切割下来的单个芯片固定到封装基板上的过程。其目的在于为芯片提供一个稳定的支撑,并确保芯片与外部电路之间的电气和机械连接。常用的方法有树脂粘结、共晶焊接、铅锡合金焊接等。在点胶装片前,基板上如果存在污染物,银胶容易形成圆球状,降低芯片粘结度。因此,在DB工艺前,需要进行等离子处理,提高基板表面的亲水性和粗糙度,有利于银胶的平铺及芯片粘贴,提高封装的可靠性和耐久性。在提升点胶质量的同时可以节省银胶使用量,降低成本。等离子表面处理技术可以保障处理面效果均匀,从而提高材料的表面质量和一致性。

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半导体封装过程中,等离子清洗机扮演着至关重要的角色。在封装前,芯片表面往往会残留微量的有机物、金属氧化物和微粒污染物,这些污染物不仅影响芯片的性能,还可能导致封装过程中的失效。因此,清洁度成为了封装工艺中不可或缺的一环。等离子清洗机利用高能等离子体对芯片表面进行非接触式的清洗。在清洗过程中,高能粒子轰击芯片表面,打断有机物的化学键,使其转化为易挥发的小分子;同时,等离子体中的自由基与金属氧化物反应,将其还原为金属单质或易于清洗的化合物。此外,等离子体的高活性还能有效地去除微粒污染物,提高芯片表面的清洁度。相较于传统的湿法清洗,等离子清洗具有更高的清洁度、更低的损伤率和更好的环境友好性。它不需要使用化学试剂,因此不会产生废液,符合现代绿色制造的理念。真空等离子清洗设备的清洗速度非常快,可以在短时间内完成对物体表面的清洗。安徽真空等离子清洗机欢迎选购

等离子清洗机利用高能粒子与有机材料表层产生的物理学或化学变化,以解决活性、蚀刻工艺等原材料表层问题。山西在线式等离子清洗机性能

等离子体作为物质的第四种形态,立于固态、液态和气态之外。当气体被加热至高温状态时,分子会裂解为阳离子和游离的电子,进而形成一种带电的气体状态。等离子体具备极高的能量与反应活性,能够在相对较低的温度下与物质发生化学反应,正因如此,它在众多工业领域中得以广泛应用。清洗原理大气等离子清洗机主要是通过将气体(通常为空气或者氮气)引入高频电场来促使等离子体的生成。这种等离子体能够产生大量的活性物质,例如活性氧、氢原子以及其他自由基等。这些活性物质能够切实有效地处理材料表面的污染物,像油脂、灰尘以及有机物等。整个清洗过程无需借助化学溶剂,既实现了对环境的保护,又规避了化学药剂可能对物品造成的损害。山西在线式等离子清洗机性能

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