在线式真空等离子清洗机的优势：🌟载台升降可自由按料盒每层的间距设定；🌟载台实现宽度定位，电机根据程序参数进行料盒宽度调节；🌟推料舍片具有预防卡料及检测功能，根据产品宽度切换配方进行传送；🌟同时每次清洗4片，双工位腔体平台交替，实现清洗与上下料的同步进行，减少等待时间，提高产能；🌟一体式电极板设计能在制程腔体产生均一密度等离子体。在线片式真空等离子清洗机产品原理：通过对工艺气体施加电场使电离化为等离子体。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、自由活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子处理就是通过利用这些活性组分的性质进行氧化、还原、裂解、交联和聚合等物理和化学反应改变样品表面性质，从而优化材料表面性能，实现清洁、改性、刻蚀等目的。等离子表面处理也叫等离子清洗机(plasma cleaner)，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术。贵州晶圆等离子清洗机技术指导
半导体芯片作为现代电子设备的组成部分，其质量和可靠性对整个电子行业至关重要。Die Bonding是将芯片装配到基板或者框架上去，基板或框架表面是否存在有机物污染和氧化膜，芯片背面硅晶体的浸润性等均会对粘接效果产生影响，传统的清洗方法已经无法满足对芯片质量的要求。使用微波plasma等离子清洗机处理芯片表面能有效地清洁并改善表面的浸润性，从而提升芯片粘接的效果。微波是指频率在300MHz-300GHz之间的电磁波，波长约1mm-1m，具有机动性高、工作频宽大的特性，使用微波发生器配1.25KW电源产生微波将微波能量馈入等离子腔室内，使微波能量在低压环境下形成等离子体。辽宁sindin等离子清洗机功能大气等离子清洗机：大气压环境下进行表面处理，解决产品表面污染物，使用方便，还能搭配流水线进行工作。
大气射流等离子清洗机结构简单，安装方便，可对塑料、橡胶、金属、玻璃、陶瓷、纸质等材料进行表面处理，已经广泛应用于印刷、包装、电子、汽车等行业。大气射流等离子清洗机分为大气射流直喷式等离子清洗机和大气射流旋转式等离子清洗机。大气射流直喷式等离子清洗机射出的等离子体能量集中，温度偏高，比较适合处理点状和线状，对温度不是非常敏感的材料表面，根据其喷头大小可以处理的宽度为2-15mm。大气射流旋转式等离子清洗机射出的等离子体比较分散，温度适中，比较适合处理面状，对温度有点敏感的材料表面，根据其旋转喷头大小可以处理的宽度为20-90mm。
等离子体在处理固体物质的时候，会与固体物质发生两种发应：物理反应、化学反应物理反应：活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面被带走。化学反应：大气中的氧气等离子的活性基因可以和处理物表面的有机物反应产生二氧化碳和水，达到深度清洁作用，同时在表面产生更多羧基等亲水基团，提高材料亲水性。什么是等离子体？等离子体（plasma）是由自由电子和带电离子为主要成分的物资状态，被称为物资的第四态。如何产生等离子体？通常我们接触到得到等离子的方式有三种：高温（燃烧）、高压（闪电）或者高频、高压源（等离子电源）下产生。等离子清洗机可以用于活化不锈钢片表面，提高材料表面活性，提高润湿性和表面附着力，解决粘接不良的问题。
光刻胶的去除在IC制造工艺流程中占非常重要的地位，其成本约占IC制造工艺的20-30%，光刻胶去胶效果太弱影响生产效率，去胶效果太强容易造成基底损伤，影响整个产品的成品率。传统主流去胶方法采用湿法去胶，成本低效率高，但随着技术不断选代更新，越来越多IC制造商开始采用干法式去胶，干法式去胶工艺不同于传统的湿法式去胶工艺，它不需要浸泡化学溶剂，也不用烘干，去胶过程更容易控制，避免过多算上基底，提高产品成品率。干法式去胶又被称为等离子去胶，其原理同等离子清洗类似，主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶，由于光刻胶的基本成分是碳氢有机物，在射频或微波作用下，氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通过泵被真空抽走，完成光刻胶的去除。等离子物理去胶过程:主要是物理作用对清洗物件进行轰击达到去胶的目的，主要的气体为氧气、氩气等，通过射频产生氧离子，轰击清洗物件，以获得表面光滑的较大化，并且结果是亲水性增大。等离子清洗机是一种环保高效的表面处理设备，通过激发气体产生等离子态，去除材料表面污染物。重庆宽幅等离子清洗机量大从优
等离子清洗机表面预处理和等离子清洗为塑料、金属、铝或玻璃的后续涂层提供了先决条件。贵州晶圆等离子清洗机技术指导
等离子体表面处理机也叫等离子清洗机、等离子表面处理机、plasma清洗机；用户对它的称呼非常多，它实际功能在于对物体表面处理，清洗、改性、刻蚀等；解决用户不同的表面处理需求。表面活化：设备生产的等离子体内有大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，通过物理及化学反应，将表面污染物、杂质处理，达到表面清洗的作用；表面改性：等离子体与物体表面发生反应，使得物体表面的化学键断裂，等离子体中的自由基反应生产新键，提高表面活性，有利于粘接、涂覆等工艺。表面刻蚀：通入腐蚀性气体进行等离子体反应时，气体与物体表面反应生产挥发性物质，通过真空泵抽离，在表面形成需要的图案、形状，完成刻蚀效果。贵州晶圆等离子清洗机技术指导
