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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

注:*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 **小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。福建纳米压印技术支持

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EVGROUP®|产品/纳米压印光刻解决方案

纳米压印光刻的介绍:

EV Group是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年,掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究,开发和现场经验进行了优化,以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形压印结果。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


上海纳米压印优惠价格EVG ® 7200是自动SmartNIL ® UV纳米压印光刻系统。

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EVG ® 7200 LA大面积SmartNIL

® UV纳米压印光刻系统

用于大面积****的共形纳米压印光刻。

EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术,将纳米压印光刻(NIL)缩放为第三代(550 mm x 650 mm)面板尺寸的基板。对于不能减小尺寸的显示器,线栅偏振器,生物技术和光子元件等应用,至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济有效的方法,因为它不受光学系统的限制,并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。

SmartNIL利用非常强大且可控的加工工艺,提供了低至40 nm *的出色保形压印结果。凭借独特且经过验证的设备功能(包括****的易用性)以及高水平的工艺专业知识,EVG通过将纳米压印提升到一个新的水平来满足行业需求。

*分辨率取决于过程和模板

HERCULES ® NIL完全模块化和集成SmartNIL ® UV-NIL系统达300毫米

结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR / VR,3D传感器,光子和生物技术生产应用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统,将清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻(NIL)工艺结合在一个平台上,用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统,可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统,以比较好地满足其生产需求,包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。


EVG ® 520 HE是热压印系统。

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HERCULES ® NIL特征:

全自动UV-NIL压印和低力剥离

**多300毫米的基材

完全模块化的平台,具有多达八个可交换过程模块(压印和预处理)

200毫米/ 300毫米桥接工具能力

全区域烙印覆盖

批量生产**小40 nm或更小的结构

支持各种结构尺寸和形状,包括3D

适用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取决于过程和模板


HERCULES ® NIL技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²

对准:≤±3微米

自动分离:支持的

前处理:提供所有预处理模块

迷你环境和气候控制:可选的

工作印章制作:支持的


步进重复纳米压印光刻可以从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。IQAligner纳米压印出厂价

EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备支持晶圆级光学(WLO)的制造。福建纳米压印技术支持

HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产

■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)

■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术

■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章

■具备工作印章制造能力


EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作

■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构

■不同类型的母版的简单实现

■可变的光刻胶分配模式

■分配,压印和脱模过程中的实时图像

■用于压印和脱模的原位力控制


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岱美仪器技术服务(上海)有限公司坐落金高路2216弄35号6幢306-308室,交通便利,环境优美,是一家贸易型企业。是一家其他有限责任公司企业,随着市场的发展和生产的需求,与多家企业合作研究,在原有产品的基础上经过不断改进,追求新型,在强化内部管理,完善结构调整的同时,优良的质量、合理的价格、完善的服务,在业界受到***好评。公司始终坚持客户需求***的原则,致力于提供高质量的[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。岱美中国顺应时代发展和市场需求,通过**技术,力图保证高规格高质量的[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。

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