IQ Aligner UV-NIL特征：
用于光学元件的微成型应用
用于全场纳米压印应用
三个**控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿
三个**控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制
利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺
EVG专有的全自动浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合对准和紫外线粘合功能
IQ Aligner UV-NIL技术数据：
晶圆直径（基板尺寸）：150至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型
曝光源：汞光源
对准：≤±0.5微米
自动分离：支持的
前处理：涂层：水坑点胶（可选）
迷你环境和气候控制：可选的
工作印章制作：支持的
EVG ® 720是自动SmartNIL ® UV紫外光纳米压印光刻系统。重庆纳米压印供应商家
客户示范
■工艺开发
■材料测试
■与合作伙伴共同研发
■资助项目
■小批量试生产
■IP管理
■过程技术许可证
■流程培训
→世界前列的洁净室基础设施
→**的设备
→技术**
→**计量
→工艺知识
→应用知识
→与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。
岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
上海纳米压印美元价HERCULES NIL 300 mm提供市场上**纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速高功率曝光和平滑压模分离。
纳米压印设备哪个好？预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。
纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。
将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上，从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
HERCULES ® NIL完全模块化和集成SmartNIL ® UV-NIL系统达300毫米
结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR / VR，3D传感器，光子和生物技术生产应用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统，将清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻（NIL）工艺结合在一个平台上，用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统，以比较好地满足其生产需求，包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。
EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的，因为它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。
NIL300mmEV集团企业技术开发和知识产权总监MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，为光刻/纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与EVG合作提供了一个开放式的创新孵化器，从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作，证明EVG光刻/纳米压印技术解决方案的价值，不仅有助于新技术和新工艺的开发，还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作，彰显了光刻/纳米压印技术设备和工艺的成熟性，为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300-mm制造奠定了基础。”SCHOTTRealView™高折射率玻璃晶圆是**AR/MR设备的关键组件，已经实现了批量生产。产品组合提供了高达，支持深度沉浸的AR/MR应用，视野更广，高达65度。在与增强现实硬件制造商进行多年研发之后，肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView™。这款**产品在上市一年后便荣获了享有盛誉的2019年SID显示行业奖（SIDDisplayIndustryAward2019）。关于肖特肖特是特种玻璃、微晶玻璃和相关高科技材料领域的**国际技术集团。公司积累了超过130年的经验，是众多行业的创新合作伙伴。 EVG®770可用于连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作。紫外光纳米压印试用
SmartNIL技术可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。重庆纳米压印供应商家
EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。
用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术，在100毫米范围内。
EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名，它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件，**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。
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岱美仪器技术服务（上海）有限公司成立于2002-02-07，专业磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务 等多项业务，主营业务涵盖[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。公司目前拥有高技术人才11~50人人，以不断增强企业核心竞争力，加快企业技术创新，实现稳健生产经营。诚实、守信是对企业的经营要求，也是我们做人的基本准则。公司致力于打造***的[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]。一直以来公司坚持以客户为中心、[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]市场为导向，重信誉，保质量，想客户之所想，急用户之所急，全力以赴满足客户的一切需要。
