EVG ® 720特征:
体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度
专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术
集成式压印,UV固化脱模和工作印模制造
盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式
可选的顶部对准
可选的迷你环境
适用于所有市售压印材料的开放平台
从研发到生产的可扩展性
系统外壳,可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据
晶圆直径(基板尺寸)
75至150毫米
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²
对准:可选的顶部对准
自动分离:支持的
迷你环境和气候控制:可选的
工作印章制作:支持的
EVG的热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。原装进口纳米压印可以免税吗
纳米压印光刻设备-处理结果:
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像
资料来源:EVG与SwissLitho
AG合作(欧盟项目SNM)
2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片
资料来源:EVG
3.高纵横比(7:1)的10 µm柱阵列
由加拿大国家研究委 员会提供
4.L / S光栅具有优化的残留层,厚度约为10 nm
资料来源:EVG
5.紫外线成型镜片300 µm
资料来源:EVG
6.光子晶体用于LED的光提取
多晶硅的蜂窝织构化(mc-Si)
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形结构50 µm
资料来源:EVG
8.**小尺寸的光模块晶圆级封装
资料来源:EVG
9.光子带隙传感器光栅
资料来源:EVG(欧盟Saphely项目)
10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相
资料来源:EVG 微透镜纳米压印中芯在用吗EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台,可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。
EVG ® 720自动SmartNIL
® UV纳米压印光刻系统
自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米,设有EVG's专有SmartNIL ®技术
EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识,能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40 nm *的纳米结构,具有****的吞吐量,非常适合批量生产下一代微流控和光子器件,例如衍射光学元件( DOEs)。
*分辨率取决于过程和模板
如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问官网,获得更多信息。
EVG ® 510 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用
自动化压花工艺
EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印
完全由软件控制的流程执行
闭环冷却水供应选项
外部浮雕和冷却站
EVG ® 510 HE技术数据:
加热器尺寸:150毫米 ,200毫米
比较大基板尺寸:150毫米,200毫米
**小基板尺寸:单芯片,100毫米
比较大接触力:10、20、60 kN
比较高温度:标准:350°C;可选:550°C
夹盘系统/对准系统
150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200
200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT
真空:
标准:0.1毫巴
可选:0.00001 mbar
EVG ® 6200 NT是SmartNIL UV紫外光纳米压印光刻系统。
EVG ® 520 HE热压印系统
特色:经通用生产验证的热压印系统,可满足比较高要求
EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板,并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能,并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。
如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本的技术,大批量替代光刻技术。原装进口纳米压印可以免税吗
EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。原装进口纳米压印可以免税吗
IQ Aligner®:用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统
■用于光学元件的微成型应用
■用于全场纳米压印应用
■三个**控制的Z轴,用于控制压印光刻胶的总厚度变化(TTV),并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿
■粘合对准和紫外线粘合功能
紫外线压印_紫外线固化
印章
防紫外线基材
附加印记压印纳米结构分离印记
用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后,将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。
µ-接触印刷
软印章
基板上的材料
领取物料,物料转移,删除印章
原装进口纳米压印可以免税吗
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