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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
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纳米压印企业商机

EVG ® 520 HE热压印系统

特色:经通用生产验证的热压印系统,可满足比较高要求

EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板,并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能,并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制(制造)的***选择。EVG510 HE纳米压印技术支持

EVG510 HE纳米压印技术支持,纳米压印

HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产

■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)

■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术

■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章

■具备工作印章制造能力


EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作

■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构

■不同类型的母版的简单实现

■可变的光刻胶分配模式

■分配,压印和脱模过程中的实时图像

■用于压印和脱模的原位力控制


云南纳米压印美元价格EVG ® 520 HE是热压印系统。

EVG510 HE纳米压印技术支持,纳米压印

NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法,因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制,并且它可以为极小尺寸(小于100分)提供比较好图案保真度nm)结构。

EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。

SmartNIL是一项关键的启用技术,可用于显示器,生物技术和光子应用中的许多新创新。例如,SmartNIL提供了****的全区域共形压印,以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化,以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外,SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能,**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。


特征:

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术

经过生产验证的分辨率低至40 nm或更小

大面积全场压印

总拥有成本比较低

在地形上留下印记

对准能力

室温过程

开放式材料平台 EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台,可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。

EVG510 HE纳米压印技术支持,纳米压印

纳米压印应用二:面板尺寸的大面积纳米压印

EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展,已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器,线栅偏振器,生物技术和光子元件等应用,至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法,因为它不受光学系统的限制,并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。


SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。甘肃纳米压印美元价

岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。EVG510 HE纳米压印技术支持

EVG ® 620 NT特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG ® 620 NT附加功能:

键对准

红外对准

SmartNIL

µ接触印刷技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:比较大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片

SmartNIL ®:在100毫米范围

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:软UV-NIL&SmartNIL

®

曝光源:汞光源或紫外线LED光源

对准:

软NIL:≤±0.5 µm

SmartNIL ®:≤±3微米

自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部:SmartNIL ®:支持


EVG510 HE纳米压印技术支持

岱美仪器技术服务(上海)有限公司总部位于金高路2216弄35号6幢306-308室,是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的公司。岱美中国深耕行业多年,始终以客户的需求为向导,为客户提供***的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪。岱美中国继续坚定不移地走高质量发展道路,既要实现基本面稳定增长,又要聚焦关键领域,实现转型再突破。岱美中国始终关注自身,在风云变化的时代,对自身的建设毫不懈怠,高度的专注与执着使岱美中国在行业的从容而自信。

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