一般来说，TEM包含有三级透镜。这些透镜包括聚焦透镜、物镜、和投影透镜。聚焦透镜用于将一开始的电子束成型，物镜用于将穿过样品的电子束聚焦，使其穿过样品（在扫描透射电子显微镜的扫描模式中，样品上方也有物镜，使得射入的电子束聚焦）。投影透镜用于将电子束投射在荧光屏上或者其他显示设备，比如胶片上面。TEM的放大倍数通过样品于物镜的像平面距离之比来确定。另外的四极子或者六极子透镜用于补偿电子束的不对称失真，被称为散光。需要注意的是，TEM的光学配置于实际实现有非常大的不同，制造商们会使用自定义的镜头配置，比如球面像差补偿系统 或者利用能量滤波来修正电子的色差。
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透射电子显微镜(Transmission Electron
Microscope,简称TEM),可以看到在光学显微镜下无法看清的小于0.2um的细微结构，这些结构称为亚显微结构或超微结构。要想看清这些结构，就必须选择波长更短的光源，以提高显微镜的分辨率。1932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜，电子束的波长要比可见光和紫外光短得多，并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比，也就是说电压越高波长越短。目前TEM的分辨力可达0.2nm。
深圳市新则兴科技有限公司成立于2004年，自成立以来一直致力于成为客户信赖的实验室整体解决方案提供商。代理国际**品牌实验室仪器设备：法国普锐斯PRESI金相制样设备、德国徕卡显微镜LEICA、苏州慧利HOOL激光干涉仪、日本日立HITACHI超声波扫描显微镜、捷克泰思肯TESCAN扫描电镜等系列产品。产品线囊括金相制样各个步骤所需的设备以及金相耗材 武汉透射电镜代理新则兴成立十五年来一直聚焦于材料分析的细分领域，汇聚行业精英，不断拓宽，加深产品及服务.
扫描电子显微镜电子* 发射出的电子束经过聚焦后汇聚成点光源;点光源在加速电压下形成高能电子束;高能电子束经由两个电磁透镜被聚焦成直径微小的光点, 在透过然后一级带有扫描线圈的电磁透镜后, 电子束以光栅状扫描的方式逐点轰击到样品表面, 同时激发出不同深度的电子信号。此时, 电子信号会被样品上方不同信号接.收器的探头接收, 通过放大器同步传送到电脑显示屏, 形成实时成像记录 (图a) 。由入射电子轰击样品表面激发出来的电子信号有:俄歇电子 (Au E) 、二次电子
(SE) 、背散射电子 (BSE) 、X射线 (特征X射线、连续X射线) 、阴极荧光 (CL) 、吸收电子
(AE) 和透射电子(图b) 。每种电子信号的用途因作用深度而异。
扫描电子显微镜类型多样, 不同类型的扫描电子显微镜存在性能上的差异。根据电子* 种类可分为三种:场发射电子* 、钨丝* 和六硼化镧。其中, 场发射扫描电子显微镜根据光源性能可分为冷场发射扫描电子显微镜和热场发射扫描电子显微镜。冷场发射扫描电子显微镜对真空条件要求高, 束流不稳定, 发射体使用寿命短, 需要定时对针尖进行清洗, *局限于单一的图像观察, 应用范围有限;而热场发射扫描电子显微镜不仅连续工作时间长, 还能与多种附件搭配实现综合分析。在地质领域中, 我们不仅需要对样品进行初步形貌观察, 还需要结合分析仪对样品的其它性质进行分析, 所以热场发射扫描电子显微镜的应用更为***。
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标准的工作流程解决方案
— 与Leica EM TXP产生协同效应：在使用 Leica EM TIC
3X之前，通常需要进行机械准备工作，以便尽可能接近感兴趣区域。Leica EM TXP 是一种独特的标靶面抛光系统，开发用于样品的切割和抛光，具有定点修块抛光功能，是用锯，磨，铣削，抛光样品后，供扫描电镜，透射电镜，和LM技术检测，为 Leica EM TIC 3X 等仪器进行后续技术处理做好充分准备Leica EM TXP 经专业设计，利用锯切、铣削、研磨和抛光技术对样品进行预制。 对于需要精细定位以及难以制备的挑战性样品，它能提供出色的结果，令处理变得轻松简单 汕尾场发射电镜
深圳市新则兴科技有限公司致力于仪器仪表，以科技创新实现***管理的追求。新则兴深耕行业多年，始终以客户的需求为向导，为客户提供***的普锐斯金相设备，徕卡显微镜，泰思肯电镜，慧利干涉仪。新则兴致力于把技术上的创新展现成对用户产品上的贴心，为用户带来良好体验。新则兴始终关注仪器仪表行业。满足市场需求，提高产品价值，是我们前行的力量。
