纯铜，先电解抛光，后腐蚀。好像抛光效果不好，划痕还是存在。请指正，是否是抛光液不对，或条件没有掌握好？腐蚀条件不知对否？
btw：抛光液是磷酸与水，腐蚀液是乙醇、盐酸与氯化铁。
A:照片感觉着抛光液和腐蚀液都应该没啥问题！只不过纯铜的硬度较小，抛光时用的力度稍微小点，另看试样表面有腐蚀坑了，是否是腐蚀时间有点长了，建议多做几个试样找到比较好的腐蚀时间！腐蚀后用酒精冲洗表面，吹干！抛光效果不佳，可以考虑换用铜合金**的抛光布，抛光时间短，效果还是好。个人感觉有的地方腐蚀效果不好！不知道你用水砂还是金相砂纸？你不妨试一下，看看能不能用化学抛光之后在电解抛光晶界好明显,怎么看起来像扫描电镜的图化学抛光就是是表面平整，而化学腐蚀的话是针对晶界或者某种物质腐蚀的 法国PRESI原装进口金相研磨机。检测金相研磨机设备
金相检验的关键步骤在于研磨和抛光，常见研磨抛光设备有带式抛光机和高速盘式抛光机，目前被应用更多的是盘式金相抛光机。可手动研磨抛光也可自动研磨抛光，技术上都非常成熟，具体应用取决于设备条件、技术要求和金相工程师的工作习惯。
手动金相抛光机
价格经济，操作、维护简单，当属手动金相抛光机，有单盘和双盘两种型号，适用于各种材料的研磨、抛光，是非常经济实用的设备。
实验室制样数量不多，操作人员少的情况，一台单盘手动金相抛光机就够用了。相对制样数量较大，操作人员二个以上，或者作为教学使用的情况，一般可选用双盘的，一台可以顶两台使用，节约空间，同时也节约购买成本。 江西测量金相研磨机应用范围金相试样预磨机、无极调速，法国普锐斯进口金相研磨机。
边缘磨圆
当使用回复性高的抛光布时，有时会同时研磨样品的表面和侧面，这种效应称为边缘磨圆。果树脂的磨损速率大于样品，则会出现这种现象。
对措施：
● 磨制过程中要保护好需检验的边缘，不要因检验样品边缘而对样品边缘过度磨制产生倒角；
● 抛光时试样需要保护的一边朝后，不需保护的一边在前，迎着抛光盘转动的方向进行抛光，抛光时尽可能接近盘心位置，抛光时间不宜过长。
浮雕
由于不同相的磨损速率和硬度不同而导致不同的材料剥离速率不同，从而产生浮雕。
应对措施：
● 浮雕主要发生于抛光阶段，研磨后的样品质量要高，给抛光提供好的基础。
● 抛光布对样品的平整度有显注影响，低回复性抛光布要比高回复性抛光布造成的浮雕效果轻。
● 抛光布抛光期间应保持一定的湿度，并且控制制样时间，避免制样时间过长。如果出现了浮雕现象必须要重新制样。
1、注意热镶样品的几何尺寸及位置摆放
样品的几何尺寸及具**置摆放，以及样品之间的距离都会导致热镶嵌效果的差异。复杂形状的样品（如环状、锯齿形）相对于标准形状的样品，更容易出现填充不充分的情形，需适度提高镶嵌压力。如要在一个模具中镶嵌多个样品，则样品之间以及样品到模具边缘的距离需足够（至少需预留2-3mm），否则容易产生缝隙或裂纹。
2、选择合适硬度的镶嵌材料
如果需要实现足够的边缘保持，镶嵌树脂和试样的硬度应大致相当，这样才会有正常的过度区域。否则，若镶嵌树脂过软，会导致正浮凸现象，试样边缘会发生倒角；若树脂过硬，试样去除量更多，则导致负浮凸
金相抛光的目的-深圳市新则兴科技有限公司。化学抛光是一种将金相样品浸入调配的化学抛光液中，借化学药剂的溶解作用而得到的抛光表面的抛光方法。化学抛光是常见的金相样品抛光方法之一，这种方法操作简便，不需任何仪器设备，只需要选择适当的化学抛光液和掌握比较好的抛光规范，就能快速得到较理想的光洁而无变形层的表面。
基本原理：
金属试样表面各组成相的电化学电位不同，形成了许多微电势，在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜，试样表面凸出部分由于粘膜薄，金属的溶解扩展速度较慢，抛光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能达到十分理想的要求。在低和中等放大倍数下利用显微镜观察时，这种小的起伏一般在物镜垂直鉴别能力之内，仍能观察到十分清晰的组织。
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脱落
研磨过程中，样品表面处的粒子或晶粒被拽掉后留下的孔洞称为脱落。由于硬脆材料无法塑性变形，致使样品表面的微小区域发生破碎而脱落或被抛光布拖拽下来。
应对措施：
● 切割和镶样过程中，不要施加过大的应力以免损伤样品。
● 粗磨或精磨时，不能使用过大的压力和粗大的研磨粒子。
● 应使用无绒毛抛光布，这种布不会将粒子从基体上“拽”出来。
● 每道工序都必须去掉上道工序造成的损伤，并尽可能地减小本 道工序造成的损伤。
● 每道工序后都检查样品，找出何时发生脱落，一旦出现脱落就必须重新进行磨制。
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