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并且也可以包括在部件和第二部件之间可以形成额外的部件,从而使得部件和第二部件可以不直接接触的实施例。此外,本发明可在各个实施例中重复参考标号和/或字符。该重复是为了简单和清楚的目的,并且其本身不指示所讨论的各个实施例和/或配置之间的关系。而且,为便于描述,在此可以使用诸如“且,为便于描述,在此可以使用诸如个实施例和和布置的具体实例等空间相对术语,以描述如图所示的一个元件或部件与另一个(或另一些)原件或部件的关系。除了图中所示的方位外,空间相对术语旨在包括器件在使用或操作中的不同方位。装置可以以其它方式定向(旋转90度或在其它方位上),而本文使用的空间相对描述符可以同样地做出相应的解释。磁阻式随机存取存储器(mram)单元包括垂直布置在导电电极之间的磁隧道结(mtj)。mtj包括通过隧穿阻挡层与自由层分隔开的固定层。固定层的磁取向是静态的(即,固定的),而自由层的磁取向能够在相对于固定层的磁取向的平行配置和反平行配置之间切换。平行配置提供低电阻状态,低电阻状态数字化地将数据存储为位值(例如,逻辑“1”)。反平行配置提供高电阻状态,高电阻状态数字化地将数据存储为第二位值(例如,逻辑“0”)。随着集成芯片的功能增多。上海海谷电子有限公司为您提供电子料回收,欢迎您的来电!山东电子料上门回收服务

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由比较器800产生的经配置以调整信号dout的回转率的预测还可能是正确的。图13是根据本公开的一些实施例的信号的回转率的一调整方法90的流程图。参考图13,调整方法90包括操作92、94、96和98。调整方法90开始于操作92,其中通过将一预设电压与一实际电压进行比较来提供一不成熟分类。调整方法90继续至操作94,其中接收一参考分类,其中通过人工将该预设电压与该实际电压进行比较来获取该参考分类。调整方法90进行到操作96,其中基于该不成熟分类和该参考分类,将该预设电压更新为一经学习电压。调整方法90继续至操作98,其中基于该经学习电压产生一预测以调整一回转率。调整方法90是示例,并且不旨在将本公开限制为超出权利要求中明确记载的内容。可以在调整方法90之前、期间和之后提供附加操作,并且为了调整方法90的额外实施例可以替换、消除或移动所描述的一些操作。在本公开中,mlc42控制src电路104而不涉及人力。因此,使用mlc42来调整回转率是相对方便的。本公开提供一种集成电路元件。该集成电路元件包括一测量电路以及一分类器电路。该测量电路经配置以获取一实际电压。该分类器电路经配置以:通过比较一预设电压和该实际电压来产生关于一不成熟分类的信息。

每个单元线路结构uws5的八条栅极线gl1至gl8可以通过sadp形成。如参照图4a至图4i所述,可以在栅极层gtl上方形成双倍心轴图案dpg1至dpg4。例如,双倍心轴图案dpg1至dpg4可以被在方向x上布置成具有可以等于抗蚀剂图案的节距的相同的双倍心轴节距pdg。在这种情况下,每个单元线路结构uws5的八条栅极线gl1至gl8可以在方向x上布置成交替地具有栅极节距pg11和第二栅极节距pg12。栅极节距pg11和第二栅极节距pg12可以彼此不同。栅极节距pg11和第二栅极节距pg12可以由表达式2表示。参照图10,每个单元线路结构uws6的八条栅极线gl1至gl8可以通过saqp形成。如参照图4a至图4i所述,可以在栅极层gtl上方顺序地形成四倍心轴图案qpg1和qpg2以及双倍心轴图案dpg1至dpg4。例如,四倍心轴图案qpg1和qpg2可以在方向x上布置成具有可以等于抗蚀剂图案的节距的相同的四倍心轴节距pqg。在这种情况下,每个单元线路结构uws6的八条栅极线gl1至gl8可以在方向x上布置成顺序地且重复地具有栅极节距pg21、第二栅极节距pg22、栅极节距pg21和第三栅极节距pg23。栅极节距pg21、第二栅极节距pg22和第三栅极节距pg23可以彼此不同。栅极节距pg21、第二栅极节距pg22和第三栅极节距pg23可以由表达式3表示。电子料回收,请选择上海海谷电子有限公司,用户的信赖之选,欢迎您的来电!

化学机械平坦化工艺)以形成互连层406a。在各个实施例中,衬底402可以是任何类型的半导体主体(例如,硅、sige、soi等),诸如半导体晶圆和/或晶圆上的一个或多个管芯,以及任何与其相关的其它类型的半导体和/或外延层。在一些实施例中,ild层904可以包括一种或多种介电材料,诸如二氧化硅(sio2)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃(例如,硼磷硅酸盐玻璃)等。在一些实施例中,导电材料可以包括通过沉积工艺(例如,cvd、pvd、pe-cvd、ald等)形成的金属(例如,钨、铝等)。在各个实施例中,互连层406a可以是互连线层、第二互连层、第三互连线层或更高金属互连线层。如图10的截面图1000所示,在互连层406a的上表面上方形成多个底电极通孔408。多个底电极通孔408由介电层1002围绕。在一些实施例中,介电层1002可以沉积在互连层406a上方,并且然后选择性地被图案化以限定底电极通孔开口。然后通过在底电极通孔开口内的沉积工艺形成多个底电极通孔408。在各个实施例中,介电层1002可以包括碳化硅、富硅氧化物、teos(正硅酸乙酯)等的一种或多种。在各个实施例中,多个底电极通孔408可以包括导电材料,诸如钛、氮化钛、钽等。在多个底电极通孔408上方形成多个mtj器件106、204和206。上海海谷电子有限公司致力于提供电子料回收,有想法的不要错过哦!吉林高价电子元器件回收服务

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