在半导体基底200上方形成中间层210、220和230。半导体基底200包括作为半导体晶圆的硅。在各种实施例中，半导体基底200可以包括另一元素半导体(诸如，锗)、化合物半导体(诸如，碳化硅、砷化镓、磷化镓、磷化铟、砷化铟和/或锑化铟)、合金半导体(诸如，gaasp、alinas、algaas、ingaas、gainp和/或gainasp)或它们的组合。半导体基底200可以包括有源区、外延特征、隔离结构、鳍状半 导体区域和/或其他合适的特征。在一些示例实施例中，半导体基底200包括多晶硅层，该多晶硅层可被用于形成多晶硅栅电极或者用于在栅极替换工艺中形成虚设栅电极。中间层210、220和230可以是介电层，可以通过诸如热氧化、化学气相沉积(cvd)、物相沉积(pvd)、等离子体增强cvd(pecvd)和原子层沉积(ald)的一种或更多种沉积技术形成所述介电层。参照图4b，在设置在介电层230上方的层240和层250上方对光致抗蚀剂(或抗蚀剂图案)pr1、pr2和pr3进行图案化。例如，层250可以是含硅硬掩模层，层240可以是抗反射涂层。可以使用cvd、pvd或其他合适的方法形成层240和层250。在一些示例实施例中，可以在介电层230上方直接形成抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3而没有层240和层250。上海海谷电子有限公司致力于提供回收，期待您的光临！云南电子物料回收中心
每条线路m1可以通过形成在层ly1与第二层ly2之间的多个下通孔接触件v0中的一个连接到多个导电接触件ca和cb中的一个。多个下通孔接触件v0中的每个可以例如通过穿过第二层间绝缘层134连接到多个导电接触件ca和cb中的一个。多个下通孔接触件v0可以通过第二层间绝缘层134彼此绝缘。线路m171至78可以包括在标准单元scl中使多个区域电连接的内部连接线路。例如，内部连接线路m178可以通过下通孔接触件v055和58以及接触件24和33将器件区rx1中的有源区ac和第二器件区rx2中的有源区ac电连接。线路m171和72可以分别对应于电力轨和第二电力轨。电力轨71可以连接到器件区rx1中的有源区ac。第二电力轨72可以连接到第二器件区rx2中的有源区ac。电力轨71和第二电力轨72中的一个可以是用于供应电源电压(例如，电源电压vdd)的线路，而电力轨71和第二电力轨72中的另一个可以是用于供应接地电压(例如，第二电源电压vss)的线路。电力轨71和第二电力轨72可以在第二层ly2上沿方向x彼此平行地延伸。在一些示例实施例中，电力轨71和72可以与其他线路m173至78基本同时形成。线路m1可以穿过第三层间绝缘层136。第三层间绝缘层136可以使线路m1彼此绝缘。福建废弃电子料回收回收，就选上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选，有想法的不要错过哦！
示出了一个处理器1500。可选地，多个处理器可以包括在设计系统1000中。此外，处理器1500可以包括增加计算容量的高速缓存存储器。这样，根据示例实施例的集成电路和设计集成电路的方法可以通过单元线路结构提高集成电路的设计效率和性能。图15是示出图14的设计系统的示例操作的流程图。参照图14和图15，设计模块1400可以接收定义集成电路的输入数据di(s11)。布局模块1200可以参照包括如上所述的多个标准单元的标准单元库1110，以便提取与输入数据di对应的标准单元，并且可以使用提取的标准单元执行单元布局(s12)。布线模块1300可以针对布局的单元执行信号布线(s13)。当信号布线不成功时(s14：否)，布局模块1200可以替换至少一个标准单元，例如，可以用另一标准单元替换至少一个标准单元，以修改单元的布局(s15)。布线模块1300可以针对修改的布局再次执行信号布线(s13)。这样，可以重复地布局和布线，直到成功完成信号布线。当信号布线成功完成时(s14：是)，设计模块1400可以生成定义集成电路的输出数据do(s16)。图16是示出根据示例实施例的集成电路的布图的示图。图16的集成电路300可以是集成电路(asic)。
四倍心轴图案qpm1、qpm2和qmp3可以布置为在方向x上具有相同的四倍心轴节距pqm，四倍心轴节距pqm可以与抗蚀剂图案的节距相同。针对单元线路结构uws4、uws5和uws6中每个，可以使用三个四倍心轴图案qpm1、qpm2和qpm3在列导电层ccl中形成十二条列金属线ml1至ml12。每个单元线路结构的十二条列金属线ml1至ml12可以在方向x上布置成顺序地且重复地具有金属节距pm21、第二金属节距pm22、金属节距pm21和第三金属节距pm23。金属节距pm21、第二金属节距pm22和第三金属节 距pm23可以由表达式4表示。表达式4pm21＝wdm+wmlpm22＝wqm-wmlpm23＝pqm-(wqm+2wdm+wml)在表达式4中，wdm表示双倍心轴图案dpm1至dpm6的宽度，wqm表示四倍心轴图案qpm1、qpm2和qpm3的宽度，wml表示列金属线ml1至ml12的宽度。在形成列金属线ml1至ml12之前，可以在列导电层ccl下方的栅极层gtl中形成针对每个单元线路结构的八条栅极线gl1至gl8。参照图8，每个单元线路结构uws4的八条栅极线gl1至gl8可以通过单图案化形成。在这种情况下，每个单元线路结构uws4的八条栅极线gl1至gl8可以在方向x上布置成具有相等的栅极节距pg2。栅极节距pg2可以等于通过曝光工艺形成的抗蚀剂图案的节距。参照图9。上海海谷电子有限公司是一家专业提供回收的公司，期待您的光临！
每个单元线路结构uws5的八条栅极线gl1至gl8可以通过sadp形成。如参照图4a至图4i所述，可以在栅极层gtl上方形成双倍心轴图案dpg1至dpg4。例如，双倍心轴图案dpg1至dpg4可以被在方向x上布置成具有可以等于抗蚀剂图案的节距的相同的双倍心轴节距pdg。在这种情况下，每个单元线路结构uws5的八条栅极线gl1至gl8可以在方向x上布置成交替地具有栅极节距pg11和第二栅极节距pg12 。栅极节距pg11和第二栅极节距pg12可以彼此不同。栅极节距pg11和第二栅极节距pg12可以由表达式2表示。参照图10，每个单元线路结构uws6的八条栅极线gl1至gl8可以通过saqp形成。如参照图4a至图4i所述，可以在栅极层gtl上方顺序地形成四倍心轴图案qpg1和qpg2以及双倍心轴图案dpg1至dpg4。例如，四倍心轴图案qpg1和qpg2可以在方向x上布置成具有可以等于抗蚀剂图案的节距的相同的四倍心轴节距pqg。在这种情况下，每个单元线路结构uws6的八条栅极线gl1至gl8可以在方向x上布置成顺序地且重复地具有栅极节距pg21、第二栅极节距pg22、栅极节距pg21和第三栅极节距pg23。栅极节距pg21、第二栅极节距pg22和第三栅极节距pg23可以彼此不同。栅极节距pg21、第二栅极节距pg22和第三栅极节距pg23可以由表达式3表示。回收，就选上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选，欢迎您的来电！上海批量电子物料回收处理
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技术实现要素：本实用新型的目的就是提供一种集成电路软件快速录入装置，能完全解决上述现有技术的不足之处。本实用新型的目的通过下述技术方案来实现：一种集成电路软件快速录入装置,包括远程后台服务器、录入终端装置和显示器，所述录入终端装置包括微处理器、高频读卡模块、数据监测模块和通讯模块，所述录入终端装置通过数据线与远程后台服务器连接；所述显示器包括液晶显示屏、工作状态显示模块和电容式触摸模块，所述工作状态显示模块和电容式触摸模块分别与微处理器中的数据读写模块相连；所述数据监测模块包括下载判断模块、校准综测模块、开机模块、拍照模块、声音模块和按键模块。作为方式之一，所述通讯模块采用zigbee无线方式与高频读卡模块和数据监测模块传输连接。作为方式之一，所述电容式触摸模块包括感应触控芯片，感应触控芯片与微处理器中的数据读写模块数据传输连接。作为方式之一，所述高频读卡模块通过rfid卡刷卡进行数据传输连接并存储该数据。作为一种方式之一，所述远程后台服务器通过tcp/ip协议与无线网关装置相连。作为一种方式之一，无线网关装置通过无线传输方式与通讯模块相连。本实用新型针对工厂需求，治具与电脑结合来提升产品的质量。云南电子物料回收中心
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