MEMS制作工艺-太赫兹超导混频阵列的MEMS体硅集成天线与封装技术：
太赫兹波是天文探测领域的重要波段，太赫兹波探测对提升人类认知宇宙的能力有重要意义。太赫兹超导混频接收机是具有代表性的高灵敏天文探测设备。天线及混频芯片封装是太赫兹接收前端系统的关键组件。当前，太赫兹超导接收机多采用单独的金属喇叭天线和金属封装，很难进行高集成度阵列扩展。大规模太赫兹阵列接收机发展很大程度受到天线及芯片封装技术的制约。课题拟研究基于MEMS体硅工艺技术的适合大规模太赫兹超导接收阵列应用的0.4THz以上频段高性能集成波纹喇叭天线，及该天线与超导混频芯片一体化封装。通过电磁场理论分析、电磁场数值建模与仿真、低温超导实验验证等手段， MEMS的深硅刻蚀是什么？浙江MEMS微纳米加工哪里有
热敏柔性电极的PI三明治结构加工技术：热敏柔性电极采用PI（聚酰亚胺）三明治结构，底层PI作为柔性基板，中间层为金属电极，上层PI实现绝缘保护，开窗漏出Pad引线位置，兼具柔韧性与电学性能。加工过程中，首先在25μm厚度的PI基板上通过溅射沉积5μm厚度的铜/金电极层，利用光刻胶作为掩膜进行湿法刻蚀，形成10-50μm宽度的电极图案，线条边缘粗糙度＜1μm；然后涂覆10μm厚度的PI绝缘层，通过激光切割开设引线窗口，窗口定位精度±5μm；***经300℃高温亚胺化处理，提升层间结合力（剥离强度＞10N/cm）。该电极的弯曲半径可达5mm，耐弯折次数＞10万次，表面电阻＜5Ω/□，适用于可穿戴体温监测、心率传感器等设备。在医疗领域，用于术后伤口热敷的柔性加热电极，可通过调节输入电压实现37-42℃精细控温，温度均匀性误差＜±0.5℃，避免局部过热损伤组织。公司支持电极图案的个性化设计，可集成热电偶、NTC热敏电阻等传感器，实现“感知-驱动”一体化，推动柔性电子技术在医疗健康与智能设备中的广泛应用。采用MEMS加工的MEMS微纳米加工联系人MEMS制作工艺-太赫兹脉冲辐射探测。
MEMS超表面对特性的调控：
1.超表面meta-surface对偏振的调控：在偏振方面，超表面可实现偏振转换、旋光、矢量光束产生等功能。
2.超表面meta-surface对振幅的调控。超表面可以实现光的非对称透过、消反射、增透射、磁镜、类EIT效应等。
3.超表面meta-surface对频率的调控。超表面的微结构在共振情况下可实现较强的局域场增强，利用这些局域场增大效应，可以实现非线性信号或荧光信号的增强。在可见光波段，不同频率的光对应不同的颜色，超表面的频率选择特性可以用于实现结构色。
我们在自然界中看到的颜色从产生原理上可以分为两大类，一类是由材料的反射、吸收、散射等特性决定的颜色，比如常见的颜料、塑料袋的颜色等；另一类是由物质的结构，而不是其所用材料来决定的颜色，即所谓的结构色，比如蝴蝶的颜色、某些鱼类的颜色等。人们利用超表面，可以通过改变其结构单元的尺寸、形状等几何参数来实现对超表面的颜色的自由调控，可用于高像素成像、可视化生物传感Bio-sensor等领域。
加速度传感器是很早广泛应用的MEMS之一。MEMS，作为一个机械结构为主的技术，可以通过设计使一个部件(图中橙色部件)相对底座substrate产生位移（这也是绝大部分MEMS的工作原理），这个部件称为质量块（proofmass）。质量块通过锚anchor，铰链hinge，或弹簧spring与底座连接。铰链或悬臂梁部分固定在底座。当感应到加速度时，质量块相对底座产生位移。通过一些换能技术可以将位移转换为电能，如果采用电容式传感结构（电容的大小受到两极板重叠面积或间距影响），电容大小的变化可以产生电流信号供其信号处理单元采样。通过梳齿结构可以极大地扩大传感面积，提高测量精度，降低信号处理难度。加速度计还可以通过压阻式、力平衡式和谐振式等方式实现。自研超声收发芯片输出电压达 ±100V、电流 1A，部分性能指标超越国际品牌 TI。
MEA柔性电极：MEMS工艺开发的MEA（微电极阵列）柔性电极，是脑机接口（BCI）与类***电生理研究的**技术载体。该电极采用超薄柔性基底材料（如聚酰亚胺或PDMS），厚度可精细控制在10-50微米范围内，表面通过光刻与金属沉积工艺集成高密度“触凸”式微电极阵列。在脑机接口领域，柔性电极通过微创手术植入大脑皮层，用于癫痫病灶的精细定位与闭环电刺激***。在类***研究中，电极阵列与脑类***共培养系统结合，可长期监测神经元网络的自发电活动与突触可塑性变化，为阿尔茨海默病药物筛选提供高分辨率电生理数据。此外，公司开发的“仿生褶皱结构”柔性电极，通过力学匹配设计进一步降低植入后的机械应力，延长器件使用寿命至少5年以上。MEMS器件制造工艺更偏定制化。有什么MEMS微纳米加工之柔性电极定制
高压 SOI 工艺实现芯片内高压驱动与低压控制集成，耐压超 200V 并降低寄生电容 40%。浙江MEMS微纳米加工哪里有
SU8微流控模具加工技术与精度控制：SU8作为负性光刻胶，广泛应用于6英寸以下硅片、石英片的单套或套刻微流控模具加工，可实现5-500μm高度的三维结构制造。加工流程包括：基板清洗→底涂处理→SU8涂胶（转速500-5000rpm，控制厚度1-500μm）→前烘→曝光（紫外光强度50-200mJ/cm²）→后烘→显影（PGMEA溶液，时间1-10分钟）。通过优化曝光剂量与显影时间，可实现侧壁垂直度＞88°，**小线宽10μm，高度误差＜±2%。在多层套刻加工中，采用对准标记视觉识别系统（精度±1μm），确保上下层结构偏差＜5μm，适用于复杂三维流道模具制备。该模具可用于PDMS模塑成型，复制精度达95%以上，流道表面粗糙度Ra＜100nm。典型应用如细胞培养芯片模具，其微柱阵列（直径50μm，高度200μm，间距100μm）可模拟细胞外基质环境，促进干细胞定向分化，细胞黏附率提升40%。公司具备从模具设计、加工到复制成型的全链条能力，支持SU8与硅、玻璃等多种基板的复合加工，为微流控芯片开发者提供了高精度、高性价比的模具解决方案。浙江MEMS微纳米加工哪里有
