二极管基础的用途是整流 —— 将交流电转换为直流电。硅整流二极管(如 1N4007)通过面接触型 PN 结实现大电流导通,其 1000V 耐压和 1A 电流承载能力,多样用于家电电源适配器。在开关电源中,快恢复二极管(FRD)以 50ns 反向恢复时间,在 400kHz 频率下实现高效整流,较传统工频整流效率提升 30%。工业场景中,高压硅堆(如 6kV/50A)由数十个二极管串联而成,用于变频器和电焊机,可承受 20 倍额定电流的浪涌冲击,保障工业设备稳定供电。整流二极管的存在,让电网的交流电得以转化为电子设备所需的直流电,成为电力转换的基础元件。温度升高会使二极管的正向压降降低,反向漏电流增大,影响性能。江苏肖特基二极管加工厂

发光二极管(LED)将电能直接转化为光能,颠覆了传统照明模式。早期 GaAsP 红光 LED(光效 1lm/W)用于仪器指示灯,而氮化镓蓝光 LED(20lm/W)的诞生,配合荧光粉实现白光照明(光效>100lm/W),能耗为白炽灯的 1/10。Micro-LED 技术将二极管尺寸缩小至 10μm,在 VR 头显中实现 5000PPI 像素密度,亮度达 3000nit,同时功耗降低 70%。UV-C LED(275nm)在期间展现消杀能力,99.9% 病毒灭活率使其成为电梯按键、医疗设备的标配。LED 从单一指示灯发展为智能光源,重塑了显示与照明的技术格局。闵行区本地二极管二极管在电子领域应用宽泛,是推动电子技术进步的重要元件。

1947 年是颠覆性转折点:贝尔实验室的肖克利团队研制出锗点接触型半导体二极管,采用金触丝压接在锗片上形成结面积 0.01mm² 的 PN 结,无需加热即可实现电流放大(β 值达 20),体积较真空管缩小千倍,功耗降低至毫瓦级。1950 年,首只硅二极管诞生,其 175℃耐温性(锗 100℃)和 0.1μA 漏电流(锗为 10μA)彻底改写规则,为后续晶体管与集成电路奠定材料基础。从玻璃真空管到半导体晶体,这一阶段的突破不 是元件形态的革新,更是电子工业从 “热电子时代” 迈向 “固态电子时代” 的底层改变。
PN 结是二极管的结构,其单向导电性源于载流子的扩散与漂移运动。当 P 型(空穴多)与 N 型(电子多)半导体结合时,交界处形成内建电场(约 0.7V 硅材料),阻止载流子进一步扩散。正向导通时(P 接正、N 接负),外电场削弱内建电场,空穴与电子大量穿越结区,形成低阻通路,硅管正向压降约 0.7V,电流与电压呈指数关系(I=I S(e V/V T−1),VT≈26mV)。反向截止时(P 接负、N 接正),外电场增强内建电场,少数载流子(P 区电子、N 区空穴)形成漏电流(硅管<1μA),直至反向电压达击穿阈值(如 1N4007 耐压 1000V)。此特性使 PN 结成为整流、开关等应用的基础,例如 1N4148 开关二极管利用 PN 结电容充放电,实现 4ns 级快速切换。智能家居系统里,二极管参与传感器和控制电路,实现家居智能控制。

1907 年,英国科学家史密斯发现碳化硅晶体的电致发光现象,虽亮度 0.1mcd(烛光 / 平方米),却埋下 LED 的种子。1962 年,通用电气工程师霍洛尼亚克发明首只红光 LED(GaAsP),光效 1lm/W,主要用于仪器面板指示灯;1972 年,惠普推出绿光 LED(GaP),光效提升至 10lm/W,使七段数码管显示成为可能,计算器与电子表从此拥有清晰读数。1993 年,中村修二突破氮化镓外延技术,蓝光 LED(InGaN)光效达 20lm/W,与红绿光组合实现全彩显示 —— 这一突破使 LED 从 “指示灯” 升级为 “光源”,2014 年中村因此获诺贝尔奖。 21 世纪,LED 进入爆发期:2006 年,白光 LED(荧光粉转换)光效突破 100lm/W,替代白炽灯成为主流照明;2017 年,Micro-LED 技术将二极管尺寸缩小至 10μm,像素密度达 5000PPI检测二极管极性时,万用表红表笔接二极管负极,黑表笔接正极可导通。奉贤区TVS瞬态抑制二极管是什么
电源电路里,它可防止电压波动对负载造成不良影响。江苏肖特基二极管加工厂
稳压二极管的工作基础是齐纳击穿效应,主要用于反向偏置时的电压稳定。当反向电压达到特定值(齐纳电压),内建电场强度足以直接拉断半导体共价键,产生大量电子 - 空穴对,形成稳定的击穿电流。与通过碰撞电离引发的雪崩击穿不同,齐纳击穿通常发生在较低电压(小于 5V),且具有负温度系数(如电压随温度升高而降低)。通过串联限流电阻控制电流在安全范围(通常 5-50 毫安),可使输出电压稳定在齐纳电压附近。例如 TL431 可调基准源,通过外接电阻分压,能在 2.5-36V 范围内提供高精度稳定电压,温漂极低,常用于精密电源和电池保护电路。江苏肖特基二极管加工厂