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可以在多个mtj器件106、204和206上方沉积第二ild层1102，并且然后选择性地图案化第二ild层1102以限定顶电极通孔开口。然后通过沉积工艺在顶电极通孔开口内形成多个顶电极通孔410。在各个实施例中，第二ild层1102可以包括一种或多种介电材料，诸如二氧化硅(sio2)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃(例如，硼磷硅酸盐玻璃)等。在各个实施例中，多个顶电极通孔410可以包括导电材料，诸如钛、氮化钛、钽等。在多个mtj器件106、204和206上方的第三ild层1104内形成第二互连层406b。在一些实施例中，第二互连层406b包括限定存储单元202a,1的位线bl1和一条或多条字线wl1至wl2的多个互连结构。在一些实施例中，第三ild层1104可以包括通过一个或多个沉积工艺(例如，pvd、cvd、pe-cvd等)形成的电介质(例如，氧化物、低k电介质或k电介质)。可以通过选择性地蚀刻第三ild层1104以在第三ild层1104内形成开口来形成第二互连层406b。然后在开口内沉积导电材料(例如，铜和/或铝)，以及随后的平坦化工艺(例如，化学机械平坦化工艺)以形成第二互连层406b。如图12的截面图1200所示，可以在存储单元202a,1上方形成第二存储单元202b,1。第二存储单元202b。电子元器件，电子物料回收，请选择上海海谷电子有限公司。甘肃批量电子物料回收联系方式

可以使用光刻工艺形成抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3。例如，使用旋涂工艺和软焙工艺在层250上形成抗蚀剂层。然后，使用针对图4c的心轴图案231、232和233而定义的掩模将抗蚀剂层暴露于辐射。心轴图案231、232和233将提供基于231、232和233创建图4e中所示的侧壁间隔件261至266的基础。终将蚀刻掉心轴图案231、232和233。使用曝光后烘焙、显影和硬烘焙来使曝光的抗蚀剂层显影，从而在层250上方形成抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3。抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3在方向x上具有节距p1和宽度w1。参照图4c，通过抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3的开口蚀刻层250、240和230以形成心轴图案231、232和233。蚀刻工艺可以包括干法(或等离子体)蚀刻、湿法蚀刻或其他合适的蚀刻方法。之后使用合适的工艺(诸如，湿法剥离或等离子体灰化)去除抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3。还使用一个或更多个蚀刻工艺去除层250和层240，从而在中间层220上方产生图4c中所示的心轴图案231、232和233。考虑到通过上述图案化工艺的特征变化，心轴图案231、232和233在方向x上具有分别与节距p1和宽度w1基本匹配的节距p2和宽度w2。参照图4d，在介电层220上方、在心轴图案231、232和233上方以及在心轴图案231、232和233的侧壁上形成间隔层260。山西呆滞料回收上海海谷电子有限公司致力于提供电子元器件，电子物料回收，欢迎您的来电！

其第十四条规定：知识产权行政部门负责布图设计登记工作，受理布图设计登记申请。即你应当向知识产权局申请登记。申请人应提交的文件和样品包括布图设计登记申请表；布图设计的复制件或图样；布图已投入商业使用的，应提交含有该布图的集成电路样品；知识产权局规定的其他材料。申请人若面交申请，布图设计登记费2000元，与印花税5元要一次付清，一旦审查通过即可颁发证书。布图设计专有权的保护期限为10年；自登记申请之日或在世界任何地方投入商业利用之日起计算，以较前日期为准；布图设计自创作之日起15年（无论是否申请登记或商业利用）后，不再受本条我是今年西邮的新生我想知道集成电路设计与集成系统专业怎这个专业在西邮来说是非常热门的了，算是非常之好的专业啦;集成电路以后就业也很广，通过四年的学习，如果干本行可以进入很多集成电路和微电子芯片企业，如果干电路可以进入很多通信、电子信息类的公司，如果干网络可以进入腾讯之类的了，总之，这个专业知识给了你一个基础知识，至于以后怎样发展就要看你个人的啦，想往哪个方面发展，都是可以的，课程安排上给了你很大的自由度。目**星已经在西安罗落户，intel在成都，还有中芯国际之类的很多很好的企业。

本发明涉及集成电路封装技术，特别是一种集成电路基板，所述基板包括覆铜芯板，通过在覆铜芯板中设置容纳磁环的环形槽，有利于提高或扩展集成电路封装基板的电路功能，例如能够通过对沿磁环内外分布的过孔进行绕制连接以将微变压器集成在集成电路基板内。背景技术：由于新能源的大力发展，隔离应用要求越来越多和隔离电压越来越高，而半导体隔离技术取代传统光耦技术效率更高，集成度更高，支持更高传输速率,符合行业发展的需求。封装基板正在成为集成电路封装领域一个重要的和发展迅速的行业,有机基板工艺大批量使用在BGA球阵列封装，多芯片封装工艺中。现有技术中的采用微变压器方案，电源功率只有％。由于电感量不够大，信号传输不得不采用180MHz的调制信号，电路非常复杂，并且电路中的磁路不闭合，漏磁大，EMI电磁干扰空间辐射大。本发明人发现，对于采用微变压器方案的半导体隔离技术，由于微变压器方案电感量，耦合系数太低，也增加了传输电路的复杂程度，集成的电源效率差。有的电容式隔离器，用户需要外加变压器。另外，电容式隔离不能内部集成开关的电源，客户使用不方便。技术实现要素：本发明针对现有技术中存在的缺陷或不足，提供一种集成电路基板。上海海谷电子有限公司是一家专业提供电子元器件，电子物料回收的公司，有想法的不要错过哦！

所述多条金属线之中的在方向上顺序地相邻的每三条金属线之间的两个金属节距彼此不同。在所述方法的一些实施例中，所述多条金属线通过自对准双倍图案化(sadp)或自对准四倍图案化(saqp)形成。还在所述方法的一些实施例中，单元线路结构是未被划分为至少两个相等的子线路结构的小单元结构。此外，提供一种设计集成电路的方法，所述方法包括：接收定义集成电路的输入数据；设置包括多个标准单元的标准单元库；基于输入数据和标准单元库执行布局和布线；以及基于布局和布线的结果生成定义集成电路的输出数据，其中，所述集成电路包括：半导体基底，多条栅极线，形成在半导体基底上方的栅极层中，所述多条栅极线布置在方向上并且在垂直于方向的第二方向上延伸，以及多条金属线，形成在栅极层上方的导电层中，所述多条金属线布置在方向上并且在第二方向上延伸。在所述方法的一些实施例中，所述多条金属线中的6n条金属线和所述多条栅极线中的4n条栅极线形成单元线路结构，n是正整数，并且多个单元线路结构布置在方向上。根据示例实施例，一种集成电路包括：半导体基底、多条栅极线和多条金属线。所述多条栅极线形成在半导体基底上方的栅极层中，其中。上海海谷电子有限公司致力于提供电子元器件，电子物料回收，有想法的可以来电咨询！广东电子料库存回收平台

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字线解码器118和偏置电路606可以包括相同的电路元件(即，字线解码器118可以将信号施加至偏置电压线bvly)。在操作期间，为了访问工作mtj器件106，偏置电路606和字线解码器118可以将电压施加至偏置电压线bvly和字线wlx，以设置存储器阵列102的行内的调节mtj器件604的值。随后，位线解码器116可以施加位线电压，该位线电压允许访问多个存储单元602a,1至602c,3中的选择的存储单元，而不访问多个存储单元602a,1至602c,3中的未选择的存储单元。例如，为了将数据写入存储单元602a,1内的工作mtj器件106，可以将组偏置电压施加至字线wl1和偏置电压线bvl1。组偏置电压赋予行内的调节访问装置108低电阻。可以将第二组偏置电压施加至其它行中的偏置电压线bvl2和字线wl1，以赋予其它行内的调节访问装置108高电阻。然后将位线电压施加至位线bl1。存储单元602a,1内的调节访问装置的低电阻使得大电流(例如，大于切换电流)流过存储单元602a,1内的工作mtj器件，同时第二存储单元602a,2内的调节访问装置的高电阻使得小电流(例如，小于切换电流)流过第二存储单元602a,2内的工作mtj器件。图6b示出了对应于图6a的存储器电路600的集成电路的一些实施例的截面图608。甘肃批量电子物料回收联系方式

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