实施例提供了许多可以在各种具体环境中实施的可应用的发明概念。所讨论的具体实施例说明制造和使用实施例的具体方式，并不限制本公开的范围。在各个视图和说明性实施例中，相同的附图标记经配置以表示相同的元件。现在将详细参考附图中所示的示例性实施例。只要可能，在附图和说明书中使用相同的附图标记表示相同或相似的部分。在附图中，为了清楚和方便，可夸大形状和厚度。该描述将特别针对形成根据本公开的装置的一部分或更直接地与其配合的元件。应该理解，未具体示出或描述的元件可以采用各种形式。贯穿本说明书对“一些实施例”或“实施例”的引用意味着结合该实施例描述的特定特征、结构或特性包括在至少一个实施例中。因此，贯穿本说明书在各个地方出现的短语“在一些实施例中”或“在实施例中”不一定指代相同的实施例。此外，特定特征、结构或特性可以在一个或多个实施例中以任何合适的方式组合。在附图中，相同的附图标记经配置以在各个视图中指示相同或相似的元件，并且示出和描述了本发明的说明性实施例。附图不一定按比例绘制，并且在一些情况下，附图已被夸大及/或简化，经配置以说明目的。基于以下本发明的说明性实施例。电子元器件，电子物料回收，请选择上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选，有想法的不要错过哦！广东高价电子元器件回收平台
侧壁间隔件261和262)的节距p3可以等于或者不同于与该心轴图案相邻的心轴图案的两个相对的侧壁间隔件(例如，侧壁间隔件262和263)的节距p4。在一些实施例中，侧壁间隔件261至266的平均节距被减小到抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3的1/2平均节距。在一些实施例中，可以以图4f的结构作为起点来按顺序应用施加空间层和重复蚀刻步骤。参照图4g，可以在介电层220上方、在侧壁间隔件261至266上方以及在侧壁间隔件261至266的侧壁上形成第二间隔层270。换言之，侧壁间隔件261至266可以用作第二心轴图案。在一些实施例中，已经制造261至266以接受材料沉积，然后将蚀刻掉261至266，在原位留下沉积的材料。在介电层220和侧壁间隔件261至266上方设置第二间隔层270。第二间隔层270包括与介电层220和侧壁间隔件261至266不同的一种或更多种材料，使得第二间隔层270针对蚀刻工艺具有不同的蚀刻选择性。可以通过cvd工艺、pvd工艺、ald工艺或其他合适的沉积技术形成第二间隔层270。参照图4h，针对第二间隔层270执行蚀刻工艺，从而定义第二侧壁间隔件271至282。参照图4i，执行具有合适的蚀刻选择性的蚀刻工艺以去除侧壁间隔件261至266，并且保留第二侧壁间隔件271至282。贵州电子料库存回收网上海海谷电子有限公司致力于提供电子元器件，电子物料回收，有想法的可以来电咨询！
根据示例实施例的集成电路以及制造和设计所述集成电路的方法可以通过单元线路结构提高集成电路的设计效率和性能。实施例可以应用于任何电子装置和系统。例如，实施例可以应用于诸如存储器卡、固态驱动器(ssd)、嵌入式多媒体卡(emmc)、移动电话、智能电话、个人数字助理(pda)、便携式多媒体播放器(pmp)、数码相机、便携式摄像机、个人计算机(pc)、服务器计算机、工作站、膝上型计算机、数字tv、机顶盒、便携式、导航系统、可穿戴装置、物联网(iot)装置、万物网(ioe)装置、电子书、虚拟现实(vr)装置、增强现实(ar)装置等的系统。前述内容是对示例实施例的说明，而不应被解释为对其进行限制。尽管已经描述了一些示例实施例，但是本领域技术人员将容易理解，在实质上不脱离本发明构思的情况下，可以在示例实施例中进行许多修改。
图4a示出了对应于图2的存储器阵列102的集成芯片400的一些实施例的截面图。集成芯片400包括布置在衬底402上方的介电结构404。介电结构404围绕存储单元202a,1和第二存储单元202b,1，第二存储单元202b,1邻近于存储单元202a,1横向定位。介电结构404还围绕多个导电互连层406a至406c。在一些实施例中，介电结构404可以包括多个堆叠的ild层。在各个实施例中，多个堆叠的ild层可以包括氧化硅、氟掺杂的氧化硅、碳掺杂的氧化硅等的一种或多种。在各个实施例中，多个导电互连层406a至406c可以包括铜、铝、钨、碳纳米管等。存储单元202a,1和第二存储单元202b,1分别包括调节访问装置108和工作mtj器件106。调节访问装置108连接至限定多条字线wl1至wl4的互连层406a。多条字线wl1至wl4中的两个连接至图2的存储器阵列102的一行内的相应存储单元。例如，字线wl1至wl2可以连接至行中的存储单元202a,1，并且字线wl3至wl4可以连接至第二行中的第二存储单元202b,1。在一些实施例中，多条字线wl1至wl4可以与衬底402分隔开非零距离d。第二互连层406b布置在调节访问装置108和工作mtj器件106之间。工作mtj器件106进一步连接至限定位线bl1的第三互连层406c。电子元器件，电子物料回收，请选择上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选，有需要可以联系我司哦！
本实用新型涉及集成电路技术领域，具体为显示驱动集成电路结构。背景技术：现有的显示驱动集成电路结构在日常使用的过程中，基于内部大量的电子元件，会产生很高的温度，若不及时进行散热，热量会影响到设备的正常工作，甚至引起设备烧毁，另外，现有的此类设备在排线结构上存在着缺陷，线路布局比较混乱，并且现有的显示驱动集成电路采用直接将信号端焊接在集成电路板上的方式，不利于对线路进行检修和更换，当信号线受外力拉扯时，存在着焊接点被拉断的风险，因此，为解决以上问题，提出一种具有布线装置且散热优良的显示驱动集成电路结构。技术实现要素：本实用新型的目的在于提供显示驱动集成电路结构，以解决上述背景技术提出的目前的显示驱动集成电路结构具有散热结构不完善，且布线混乱影响后期检修的问题。为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：显示驱动集成电路结构，包括主板、电子元件和散热风扇，所述主板的上方焊接有电子元件，所述主板的上方固定有散热板，所述散热板的上方通过螺丝固定有散热风扇，所述主板的后端设置有输入端，所述主板的正面安装有输出端，所述主板的下方焊接有隔线板，所述隔线板的内部镶嵌有橡胶塞。上海海谷电子有限公司是一家专业提供电子元器件，电子物料回收的公司。陕西电子料高价回收平台
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虽然关于具有调节mtj器件的调节访问装置描述了图2至图8b中示出的操作和/或装置，但是应该理解，公开的存储单元不限于这样的实施例。而且，在可选实施例中，图2至图8b的操作和/或装置可以实施和/或包括具有调节薄膜电阻器(例如，包括钽、氮化钽、钛、钨等)的调节访问装置。图9至图12示出了形成具有存储器电路的集成芯片的方法的一些实施例的截面图900至1200，该存储器电路包括存储单元(例如，mram单元)，各存储单元具有被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。虽然关于方法描述了图9至图12，但是应该理解，图9至图12中公开的结构不限于这种方法，而且可以作为于该方法的结构而单独存在。如图9的截面图900所示，在衬底402上方形成互连层406a。在一些实施例中，通过在衬底402上方形成层间介电(ild)层904来形成互连层406a。在一些实施例中，ild层904可以通过一个或多个附加介电层902与衬底402分隔开。图案化ild层904以限定沟槽906。在一些实施例中，可以通过在ild层904上方形成图案化的掩模层(未示出)并且实施蚀刻工艺来去除ild层904的未由图案化的掩模层覆盖的各部分来图案化ild层904。在沟槽906内形成导电材料，以及随后是平坦化工艺(例如。广东高价电子元器件回收平台
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