特殊工艺芯片的流片需要匹配专业的晶圆厂资源，中清航科凭借多年积累，构建起覆盖特殊工艺的流片代理网络。在MEMS芯片领域，与全球MEMS晶圆厂合作，可提供从晶圆键合、深硅刻蚀到释放工艺的全流程流片服务，支持压力传感器、微镜、射频MEMS等产品，流片后的器件性能参数偏差控制在5%以内。针对化合物半导体，如GaN、SiC等，中清航科的技术团队熟悉材料特性与工艺要求，能为客户提供衬底选择、外延生长参数优化等专业建议，已成功代理新能源汽车用SiC功率器件的流片项目，帮助客户将器件的导通电阻降低15%。在光电子芯片领域，与专业光电器件晶圆厂合作，支持VCSEL、DFB激光器等产品的流片，波长一致性控制在±1nm以内。中清航科IP授权代理，集成300+验证硅核缩短开发周期。泰州台积电 12nm流片代理
中清航科的流片代理服务注重行业合作，与产业链上下游企业建立了合作关系。与EDA工具厂商合作，为客户提供流片前的设计验证支持；与测试设备厂商合作，引入较新的测试技术与设备；与高校科研机构合作，共同研究前沿流片技术。通过行业合作，整合各方资源，为客户提供更多方面、更质优的服务，例如与某EDA厂商联合开发的流片设计规则检查工具，能提前发现90%的设计与工艺不兼容问题。针对微处理器（MCU）芯片的流片需求，中清航科提供MCU专项流片服务。其技术团队熟悉8位、16位、32位MCU的流片工艺，能为客户提供内核设计、外设接口布局、低功耗优化等专业服务。通过与MCU专业晶圆厂合作，共同解决MCU的时钟精度、中断响应速度、外设兼容性等关键问题，使MCU的性能提升15%，功耗降低20%。已成功代理多个工业控制MCU的流片项目，产品的可靠性与稳定性得到客户的高度认可。泰州台积电 12nm流片代理中清航科高校流片计划，教育机构专享MPW补贴30%。
在芯片设计企业的研发周期不断压缩的当下，快速流片成为抢占市场的关键。中清航科推出的“极速流片通道”，针对28nm及以上成熟制程，可将传统12周的流片周期缩短至8周，其中掩膜版制备环节通过与掩膜厂的联合调度，实现48小时快速出片。同时配备专属项目经理全程跟进，建立7×24小时进度通报机制，让客户实时掌握流片各阶段状态，确保研发项目按时推进。面对不同类型芯片的流片需求，中清航科提供定制化代理服务。针对车规级芯片，其建立了符合AEC-Q100标准的全流程管控体系，从晶圆厂选择、工艺参数锁定到可靠性测试，均严格遵循汽车电子质量管理规范，已成功代理超过50款车规MCU的流片项目。对于AI芯片等产品，则依托与先进制程晶圆厂的合作优势，提供CoWoS、InFO等先进封装流片一站式服务。
流片代理服务中的供应链金融支持是中清航科为客户提供的增值服务。与多家银行合作，为客户提供流片订单融资服务，客户可凭中清航科的流片订单获得较高70%的订单金额融资，解决流片过程中的资金周转问题。针对质优客户，还可提供应收账款保理服务，将应收账款的账期从90天缩短至30天，加速资金回笼。去年通过供应链金融服务，为客户提供融资支持超过2亿元，有效缓解了客户的资金压力。针对存储芯片的流片需求，中清航科组建了存储芯片团队。该团队熟悉DRAM、NANDFlash、NORFlash等存储器件的流片工艺，能为客户提供存储单元设计、冗余电路布局、测试方案设计等专业服务。通过与存储芯片专业晶圆厂合作，共同解决存储芯片的读写速度、功耗、可靠性等关键问题，使存储芯片的读写速度提升10%，功耗降低15%。已成功代理多个嵌入式存储芯片的流片项目，产品广泛应用于物联网、汽车电子等领域。选择中清航科RFIC流片代理，提供专属微波测试套件。
中清航科的流片代理服务注重可持续发展，在服务过程中推行绿色运营理念。鼓励客户采用可重复使用的晶圆包装盒，减少一次性包装材料的使用；与晶圆厂合作优化生产工艺，减少流片过程中的能源消耗与废水排放；在内部推行无纸化办公，每年减少纸张使用量10吨以上。通过这些措施，帮助客户降低流片过程的环境影响，同时获得绿色制造认证提供支持，已有30余家客户通过该服务满足了ESG报告的相关要求。对于需要进行小批量试产到大规模量产转换的客户，中清航科提供平滑过渡服务。其产能规划团队会根据客户的市场需求预测，制定阶梯式量产计划，从每月100片到每月10万片的产能提升过程中，确保工艺参数的稳定性与产品质量的一致性。通过与晶圆厂签订弹性产能协议，实现产能的快速调整，满足客户的市场需求波动，某消费电子芯片客户通过该服务，在3个月内完成了从试产到月产50万片的产能爬坡。中清航科硅光流片代理，耦合效率提升至92%。连云港中芯国际 180流片代理
中清航科封装测试联动服务，流片到封装周期缩短至15天。泰州台积电 12nm流片代理
芯片流片的制造过程一般包括以下步骤：1.制备晶圆。芯片的制造需要在一块圆形的硅基片上进行，这个基片一般称为晶圆。制备晶圆的过程包括清洗、抛光、化学蚀刻等步骤。这个步骤的目的是确保晶圆表面的平整度和纯度，为后续的工作打好基础。2.运用光刻技术打印电路图案。光刻是一种通过曝光和蚀刻来制造芯片的技术，它的原理是利用高清晰度的光刻胶和镭射光来进行芯片电路的图案制造。这个过程需要一个***来进行。3.沉积金属。制造芯片还需要沉积金属，这一步骤主要是在晶圆表面涂上一层金属，包括铜、钨等金属。这个过程可以用物相沉积等技术来实现。泰州台积电 12nm流片代理
