企业商机
YMS基本参数
  • 品牌
  • 上海伟诺
  • 型号
  • 伟诺
  • 适用行业
  • 半导体
  • 版本类型
  • 网络版
  • 语言版本
  • 简体中文版
YMS企业商机

晶圆制造环节的良率波动直接影响整体产出效率,YMS系统通过全流程数据治理提供有力支撑。系统自动采集并解析来自主流测试设备的多源异构数据,建立标准化数据库,实现对晶圆批次、区域乃至单点良率的精细化监控。结合WAT、CP、FT等关键测试数据的变化趋势,系统可快速锁定影响良率的关键因素,指导工艺参数调优。图表化界面直观展示良率热力图、趋势曲线等关键指标,辅助工程师高效决策。同时,系统支持按模板生成周期性报告,并导出为常用办公格式,满足生产与管理双重需求。上海伟诺信息科技有限公司以打造国产半导体软件生态为使命,其YMS产品正持续助力制造企业迈向高质量、高效率的发展新阶段。支持产品型号、测试时间等多维度检索,YMS轻松调取目标数据,响应需求更及时。内蒙古半导体工厂YMS开发方案

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国产芯片进入量产阶段后,对数据一致性、分析时效性和报告规范性提出更高要求。YMS自动汇聚来自SineTest、Juno、CTS8280等平台的测试结果,剔除重复与异常记录,形成高质量数据资产池。系统可实时识别某批次FT良率偏离趋势,并回溯其CP漏电参数与WAT栅氧特性,快速锁定问题环节。日报、周报按模板自动生成,内容涵盖良率趋势、区域缺陷对比、关键参数关联等,支持导出为标准格式用于客户审核或内部复盘。这种稳定、可追溯的数据支撑体系,为大规模量产提供决策底气。上海伟诺信息科技有限公司聚焦量产场景痛点,强化YMS在高负荷环境下的可靠性与输出规范性。浙江车间良率管理系统有哪些厂商YMS提供时间、区域、参数等多维度图表,良率监控从“看数字”变“看图形”。

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当封测厂同时部署ETS88、J750、93k、Chroma、STS8200等十余种Tester设备时,每台设备输出的stdf、log、jdf、spd、csv等格式差异常导致数据接入困难。YMS内置多协议解析引擎,可自动识别各类测试平台的数据结构与接口协议,无需定制开发即可完成数据采集与格式转换。系统同步执行重复性检测、缺失字段识别和异常值过滤,确保入库数据准确完整。标准化数据库对所有来源数据统一分类存储,为后续良率分析提供一致基础。这种“即插即用”的兼容能力,明显降低多设备环境下的集成复杂度与维护成本。上海伟诺信息科技有限公司基于半导体制造的实际设备生态,持续优化YMS的适配广度与稳定性。

国产良率管理系统的价值在于将碎片化测试数据转化为可执行的工艺洞察。YMS系统自动对接ASL1000、SineTest、MS7000、CTA8280、T861、Juno、AMIDA等主流设备,处理十余种格式原始数据,确保从晶圆到芯片级的数据链完整可靠。系统不仅清洗异常记录,还通过图表直观展示良率在不同时间段或晶圆象限的差异。这有助于工程师判断是否为光刻对准偏差或刻蚀不均所致。结合WAT、CP与FT参数联动分析,可区分设计缺陷与制造变异,缩短问题排查周期。这种从“看见异常”到“理解根因”的能力,推动质量改进从被动响应转向主动预防。上海伟诺信息科技有限公司凭借对半导体制造流程的深入理解,推动YMS成为国产替代的关键支撑。YMS自动识别不同Tester平台协议,无需人工干预,轻松完成多源测试数据接入。

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在半导体设计公司或封测厂面临多源测试数据难以统一管理的挑战时,YMS良率管理系统提供了一套端到端的解决方案。系统自动对接ETS88、93k、J750、Chroma、STS8200、TR6850等主流Tester平台,采集stdf、csv、xls、spd、jdf、log、zip、txt等多种格式原始数据,并完成重复性检测、缺失值识别与异常过滤,确保分析基础可靠。通过标准化数据库对数据统一分类,企业可从时间维度追踪良率趋势,或聚焦晶圆特定区域对比缺陷分布,快速定位工艺异常。结合WAT、CP与FT参数的联动分析,进一步揭示影响良率的根本原因。SYL与SBL的自动计算与卡控机制强化了过程质量防线,而灵活的报表工具支持按模板生成日报、周报、月报,并导出为PPT、Excel或PDF格式,满足跨层级决策需求。上海伟诺信息科技有限公司自2019年成立以来,持续打磨YMS系统,助力客户构建自主可控的良率管理能力。YMS高并发架构扛住百万级日数据,量产高压环境里依然稳如磐石。重庆国产YMS

时间维度的良率趋势,YMS自动归档每日数据,通过折线图可视化呈现长期波动。内蒙古半导体工厂YMS开发方案

晶圆边缘区域良率持续偏低却难以定位原因,是工艺工程师常见的痛点。YMS系统在完成stdf、log等原始数据清洗后,依据晶圆空间坐标对缺陷进行分类,生成色彩渐变的热力图,直观呈现中心、过渡区与边缘的缺陷密度差异。用户可对比不同批次在同一区域的表现,识别是否为光刻对焦偏差或刻蚀均匀性问题所致。叠加时间维度后,还能判断该现象是偶发异常还是系统性漂移。这种空间+时间的双维分析,使优化措施从“整体调整”转向“精确干预”,明显提升工艺调试效率。上海伟诺信息科技有限公司基于半导体制造的实际需求,将YMS打造为缺陷定位的可视化利器。内蒙古半导体工厂YMS开发方案

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