企业商机
MappingOverInk处理基本参数
  • 品牌
  • 上海伟诺
  • 型号
  • 伟诺
  • 适用行业
  • 半导体
  • 版本类型
  • 网络版
  • 语言版本
  • 简体中文版
MappingOverInk处理企业商机

面对国产半导体制造对自主可控软件的迫切需求,良率管理系统成为打通数据孤岛、实现质量闭环的关键工具。系统自动采集ETS88、93k、J750、Chroma等主流Tester平台输出的stdf、csv、xls、log、spd、jdf、zip、txt等多种格式测试数据,通过内置算法识别重复项、缺失值并过滤异常记录,确保后续分析基于高可信度数据源。在标准化数据库支撑下,企业可从时间维度追踪良率趋势,或聚焦晶圆特定区域对比缺陷分布,快速定位工艺波动点。结合WAT、CP与FT参数的联动分析,进一步揭示影响良率的深层原因。SYL与SBL的自动计算与卡控机制,强化了过程质量防线。灵活的报表工具支持按模板生成日报、周报、月报,并导出为PPT、Excel或PDF格式,提升跨部门协同效率。上海伟诺信息科技有限公司自2019年成立以来,专注打造适配本土需求的YMS系统,助力构建中国半导体软件生态。Mapping Over Ink处理提升产品市场竞争力,降低客户投诉率。河北晶圆PAT服务商

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传统良率卡控依赖人工设定固定阈值,难以适应产品迭代或工艺波动。YMS系统基于历史测试数据自动计算SYL(良率下限)与SBL(良率控制线),并根据统计规律动态调整控制边界。当某批次实际良率跌破SBL时,系统立即触发告警,通知质量人员介入;若连续多批接近SYL,则提示需启动工艺评审。该机制将质量防线前置,防止低良率晶圆流入昂贵的封装环节,有效控制报废成本。自动计算替代经验估算,确保卡控标准客观、一致且可追溯。上海伟诺信息科技有限公司将SYL、SBL自动卡控作为YMS的关键功能,支撑客户实现过程质量的主动管理。河北晶圆MappingOverInk处理系统定制Mapping Over Ink处理推动封测环节向预测性质量演进,实现主动风险管理。

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测试数据长期累积导致存储空间迅速膨胀,而大量重复或无效记录加剧资源浪费。YMS在数据入库前自动清洗,剔除重复提交、通信错误产生的冗余信息,并将stdf、csv、txt等异构格式统一压缩存储于标准化数据库。集中式管理不仅提升磁盘利用率,还简化备份与维护流程。企业无需为无效数据支付额外硬件成本,也降低了IT运维复杂度。这种“精简有效”的存储策略,在保障数据完整性的前提下实现资源优化。上海伟诺信息科技有限公司将高效数据治理融入YMS设计,助力客户在控制成本的同时构建可持续的数据资产体系。

分散在不同Excel表格或本地数据库中的测试数据,往往难以跨项目调用和对比。YMS通过构建标准化数据库,将来自ETS364、SineTest、MS7000、CTA8280等设备的异构数据,按产品型号、测试阶段、时间、区域等维度统一归档,形成结构清晰、索引完备的数据资产池。用户可通过多条件组合快速检索特定批次的历史良率记录,或横向比较不同封装线的表现。标准化存储不仅提升查询效率,更为WAT/CP/FT参数联动分析、SYL/SBL卡控等高级功能提供一致数据源。跨部门协作时,设计、工艺与质量团队可基于同一套数据开展讨论,减少信息偏差。上海伟诺信息科技有限公司依托行业经验,使YMS成为企业构建数据驱动文化的基础设施。客户可复用Mapping Over Ink处理结果进行跨批次对比分析,优化生产工艺。

每周一上午赶制良率周报曾是质量团队的固定负担:手动汇总Excel、调整图表、统一格式,耗时且易出错。YMS内置报表模板可按日、周、月自动生成结构化报告,内容涵盖SYL/SBL卡控状态、区域缺陷对比、时间趋势等关键指标,并支持一键导出为PPT、Excel或PDF。管理层用PPT版直接用于经营会议,客户审计接收标准化PDF文档,工程师则调取Excel原始数据深入挖掘。自动化流程确保全公司使用同一数据口径,避免信息互相影响。报表制作时间从数小时降至几分钟,释放人力资源投入更高价值工作。上海伟诺信息科技有限公司通过灵活报表功能,推动企业决策从“经验驱动”向“数据驱动”转型。上海伟诺信息科技GDBN功能,通过各种算法可以帮助客户快速剔除芯片上异常风险芯片。四川自动化MappingOverInk处理系统定制

Cluster方法有效定位区域性异常Die,通过相邻关联性分析识别连续性失效。河北晶圆PAT服务商

国产良率管理系统的价值在于将碎片化测试数据转化为可执行的工艺洞察。YMS系统自动对接ASL1000、SineTest、MS7000、CTA8280、T861、Juno、AMIDA等主流设备,处理十余种格式原始数据,确保从晶圆到芯片级的数据链完整可靠。系统不仅清洗异常记录,还通过图表直观展示良率在不同时间段或晶圆象限的差异。这有助于工程师判断是否为光刻对准偏差或刻蚀不均所致。结合WAT、CP与FT参数联动分析,可区分设计缺陷与制造变异,缩短问题排查周期。这种从“看见异常”到“理解根因”的能力,推动质量改进从被动响应转向主动预防。上海伟诺信息科技有限公司凭借对半导体制造流程的深入理解,推动YMS成为国产替代的关键支撑。河北晶圆PAT服务商

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