德国公司Nanoscribe是高精度增材制造技术的排名在前的开发商，也是BICO集团（前身为Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印机，用于制造微纳米级的精细结构。据该公司称，新的QuantumX形状加入了该公司屡获殊荣的QuantumX产品线，其晶圆处理能力使“3D微型零件的批量处理和小批量生产变得容易”。它有望显着提高生命科学、材料工程、微流体、微光学、微机械和微机电系统(MEMS)应用的精度、输出和可用性。基于双光子聚合(2PP)，一种提供比较高精度和完整设计自由度的增材制造方法和Nanoscribe专有的双光子灰度光刻(2GL)技术，Nanoscribe认为直接激光写入系统是微加工的比较好选择几乎任何2.5D或3D形状的结构，在面积达25cm²的区域上都具有亚微米级精度。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司为您讲解3D打印增材制造技术。重庆超高速增材制造微纳光刻
随着各行各业的发展及科技的进步，人们可以用3D打印创建在人体内传导药物的载体，可以用3D打印来建造房子。人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计，甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe公司专注于微观3D打印技术，而全新推出的QuantumX平台新型高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的优异性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。湖北MEMS增材制造多少钱金属3D打印技术具有广阔的应用前景。
Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。光学和光电组件的小型化对于实现数据通信和电信以及传感和成像的应用至关重要。通过传统的微纳3D打印来制作自由曲面透镜等其他新颖设计会有分辨率不足和光学质量表面不达标的缺陷，但是利用双光子聚合原理则可以完美解决这些问题。该技术不仅可以用于在平面基板上打印微纳米部件，还可以直接在预先设计的图案和拓扑上精确地直接打印复杂结构，包括光子集成电路，光纤顶端和预制晶片等。世界上头一台双光子灰度光刻（2GL®）系统QuantumX实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。该无掩模光刻系统将灰度光刻的出色性能与Nanoscribe的双光子聚合技术的精度和灵活性相结合，从而达到亚微米分辨率并实现对体素大小的超快控制，自动化打印以及特别高的形状精度和光学质量表面。高精度的增材制造可打印出顶端的折射微纳光学元件。得益于Nanoscribe双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点
增材制造（AdditiveManufacturing，AM）俗称3D打印，融合了计算机辅助设计、材料加工与成型技术、以数字模型文件为基础，通过软件与数控系统将**的金属材料、非金属材料以及医用生物材料，按照挤压、烧结、熔融、光固化、喷射等方式逐层堆积，制造出实体物品的制造技术。相对于传统的、对原材料去除－切削、组装的加工模式不同，是一种“自下而上”通过材料累加的制造方法，从无到有。这使得过去受到传统制造方式的约束，而无法实现的复杂结构件制造变为可能。近二十年来，AM技术取得了快速的发展，“快速原型制造（RapidPrototyping）”、“三维打印(3DPrinting)”、“实体自由制造(SolidFree-formFabrication)”之类各异的叫法分别从不同侧面表达了这一技术的特点。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨3D打印和增材制造原理。
3D打印高性能增材制造技术摆脱了模具制造这一明显延长研发时间的关键技术环节，兼顾高精度、高性能、高柔性，可以快速制造结构十分复杂的零件，为先进科研事业速研发提供了有力的技术手段。在微光学领域，Nanoscribe表示，其3D打印解决方案“破坏和打破以前复杂的工作流程，克服了长期的设计限制，并实现了先进的微光驱动的前所未有的应用。换句话说，PhotonicProfessionalGT系列与您的平均3D打印机不同，因此可用于创建在其他机器上无法生产的功能性光学产品。该系列与正确的材料和工艺相结合，据称允许用户“直接制造具有比标准制造方法，高形状精度和光学平滑表面几何约束的聚合物微光学部件”。3D打印机还缩短了设计迭代阶段，允许用户在“短短几天”内将想法转化为功能原型Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨增材制造技术与产业的发展及前景分析。海南双光子增材制造
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QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的中心是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。另外，Nanoscribe双光子灰度光刻微纳打印系统技术要点，这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精细同步，这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小，并在不影响速度的情况下，使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。重庆超高速增材制造微纳光刻
