RPS基本参数
  • 品牌
  • 晟鼎精密
  • 型号
  • SPR-08
  • 用途
  • 工业用
  • 清洗方式
  • 远程等离子
  • 外形尺寸
  • 467*241*270
  • 产地
  • 广东
  • 厂家
  • 晟鼎
  • 制程气体
  • NF3、O₂、CF4
  • 点火气体/流量/压力
  • 氩气(Ar)/1-6AR sIm/1-8 torr
  • 制程气体流量
  • 8NF3sLm
  • 工作气压
  • 1-10torr
  • 离化率
  • ≥95%
  • 进水温度
  • 30℃
RPS企业商机

远程等离子体源RPS腔体结构,包括进气口,点火口,回流腔连通电离腔顶端与进气腔靠近进气口一侧顶部,气体由进气口进入经过进气腔到达电离腔,点火发生电离反应生成氩离子然后通入工艺气体,通过出气口排出至反应室内,部分电离气体经回流腔流至进气腔内,提高腔体内部电离程度,以便于维持工艺气体的电离,同时可提高原子离化率;电离腔的口径大于进气腔,气体在进入电离腔内部时降低了压力,降低了F/O原子碰撞导致的原子淬灭问题,保证电离率,提高清洁效率。在未来新材料开发中实现原子级操控。河北远程等离子电源RPS射频电源

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在OLED和LCD显示面板的制造中,玻璃基板或聚酰亚胺薄膜基板的尺寸越来越大,对清洗和刻蚀工艺的均匀性提出了极高要求。RPS远程等离子源应用领域在这一场景下优势明显。由于其等离子体均匀性不受基板尺寸限制,活性自由基能够均匀地分布在整个大尺寸面板表面,实现无死角的彻底清洁。在OLED制造中,用于去除基板表面的微量有机物和颗粒,确保TFT背板和OLED发光层的质量;在柔性显示中,用于对PI基板进行表面活化,增强后续薄膜的附着力。此外,在显示面板的薄膜晶体管阵列制程中,RPS技术也用于氮化硅或非晶硅薄膜的低温、低损伤刻蚀,确保了数百万个TFT性能的高度一致,从而保障了显示画面的均匀性和低坏点率。山东远程等离子体源RPS联系方式用于光伏PERC电池的背钝化层沉积前表面活化。

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东莞市晟鼎精密仪器有限公司的RPS三维光学扫描设备,为模具修复提供了精细的数字化数据支撑,大幅提升修复效率与质量。模具在长期使用中易出现型腔磨损、裂纹等问题,传统修复依赖人工经验判断,精度难以保证,而RPS可快速扫描受损模具,生成高精度三维数据,与原始设计模型进行比对,自动识别损伤区域与损伤程度。RPS扫描的点云数据密度可达每平方毫米1000个点,能清晰呈现0.01mm级的细微磨损痕迹,为修复方案制定提供精确依据。在修复过程中,RPS可实时扫描修复区域,监控修复进度与尺寸精度,避免过度修复或修复不足。该RPS模具修复方案已应用于注塑模、压铸模等多种模具的修复场景,使模具修复周期缩短50%,修复后模具寿命恢复至新模的90%以上,成为模具维修领域的中心RPS工具。

东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 定位技术,为车辆导航提供了有效的增强解决方案,弥补了传统 GNSS 信号在复杂环境中的不足。在城市峡谷、隧道等 GNSS 信号受阻区域,RPS 通过构建城市道路的射频地图,结合 GNSS 信号提供连续、可靠的车辆位置信息,确保导航不中断。RPS 定位技术的抗干扰能力强,可有效避免多径效应对定位精度的影响,在复杂路况下仍能保持较高的定位准确性。晟鼎精密的 RPS 车辆导航增强系统可与车载导航设备无缝对接,无需额外改装即可使用,适配性强。通过 RPS 技术的应用,车辆导航的路径规划更精细,行驶指引更及时,大幅提升了驾驶体验,成为智能交通领域的重要 RPS 技术应用。为催化材料研究提供可控表面改性平台。

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RPS远程等离子源在热电材料制备中的创新应用在碲化铋热电材料图案化中,RPS远程等离子源通过Cl2/Ar远程等离子体实现各向异性刻蚀,将侧壁角度控制在88±1°。通过优化工艺参数,将材料ZT值提升至1.8,转换效率达12%。在器件集成中,RPS远程等离子源实现的界面热阻<10mm²·K/W,使温差发电功率密度达到1.2W/cm²。RPS远程等离子源在超表面制造中的精密加工在光学超表面制造中,RPS远程等离子源通过SF6/C4F8远程等离子体刻蚀氮化硅纳米柱,将尺寸偏差控制在±2nm以内。通过优化刻蚀选择比,将深宽比提升至20:1,使超表面工作效率达到80%。实验结果显示,经RPS远程等离子源加工的超透镜,数值孔径达0.9,衍射极限分辨率优于200nm。远程等离子的处理作用,是非常轻微的刻蚀,有一定的活性作用,主要与腔室内部的残余气体发生作用。河北国内RPS工厂直销

RPS远程等离子源在半导体晶圆清洗中实现纳米级无损清洁。河北远程等离子电源RPS射频电源

远程等离子体源RPS反应原理:氧气作为工艺气体通入等离子发生腔后,会电离成氧离子,氧离子会与腔室里面的水分子、氧分子、氢分子、氮分子发生碰撞和产生化学反应。物理碰撞会让这些腔室原有的分子,电离成离子态,电离后氧离子和氢离子,氧离子和氮离子,氧离子和氧离子都会由于碰撞或者发生化学反应生成新的物质或者功能基团。新形成的物质或者功能基团,会更容易被真空系统抽走,从而达到降低原有腔室的残余气体含量。当然,氧等离子进入到腔室所发生的反应,比以上分析的状况会更复杂,但其机理是相类似的。河北远程等离子电源RPS射频电源

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