企业商机
减薄用清洗剂基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机碱
  • 产品性状
  • 液态
减薄用清洗剂企业商机

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    洁普士®zepoos致力于开发高效、环保的清洗剂产品,是幕阜科技公司旗下的清洗剂品牌。是全球的工业清洗剂产品生产商和服务商,公司通过zepoos®(洁普士)品牌提供了230多种清洗剂产品和清洗工艺解决方案。从推出工业清洗剂产品销售以来,“洁普士”产品在全世界所开展的清洗剂产品的研究和生产业务中取得了巨大的成功。为了更进一步服务好广大的客户,“洁普士清洗剂”在中国江苏、浙江和上海建立了生产基地和销售网络,以较低的成本向客户提供的产品和高效率的服务。“洁普士”清洗产品目前有:环保电子清洗剂、松香清洗剂、喷淋超声波清洗剂,松香锡膏助焊剂清洁剂、强油污清洗剂、锡膏清洗剂、助焊剂清洗剂、回流焊清洗剂、波峰焊清洗剂、钢网清洗剂、丝网印刷清洗剂、电子清洗剂、表面活性清洗剂、炉膛清洗剂、硅片清洗剂、夹具清洗剂、贴片元器件清洗剂、LED清洗剂、精密仪器清洗剂、水基清洗剂、半水基清洗剂、溶剂清洗剂、电子仪器清洗剂、电气设备清洗剂、IC清洗剂、多功能水基清洗、电容电阻清洗剂、二极管清洗剂、大功率封装器件清洗剂、植球BGA清洗剂、误印钢网/丝网清洗剂、半导体清洗剂机械零件清洗剂、电子元器件清洗剂、环保溶剂清洗剂、环保水基清洗。

    在本发明的一个实施例中,抛光液110的主要成分包括:碳化硅颗粒,颗粒直径为50nm~200nm,体积比为3%~5%;次氯酸盐,体积比为30%~40%;氢溴酸,体积比为5%~7%,di水,体积比50~60%。本发明的一个实施例中,如图3所示,磁转子12包括截面为半圆形的柱状磁性结构120和位于柱状磁性结构120的底部平面的研磨层121,以通过研磨层121对待加工部件20的待加工表面进行机械研磨。当然,本发明并不仅限于此,在其他实施例中,可以根据实际需求选择合适的磁转子形状。可选地,研磨层121为金属氧化物层,进一步可选地,金属氧化物层包括三氧化二铝层。可选地,研磨层121的厚度为10μm。本发明实施例中,如图4所示,磁转子12沿箭头所示方向旋转,如沿逆时针或顺时针方向旋转,并且,磁转子12的长度近似等于待加工部件20如inp基晶圆的直径,以对整个待加工表面进行研磨。本发明实施例中,抛光减薄装置还包括控制部件。控制部件与磁转子12和喷头11相连,用于控制喷头11和磁转子12交替工作,以对待加工表面交替进行抛光和减薄。其中,控制部件通过脉冲方式控制喷头11和磁转子12交替工作。可选地,控制部件控制磁转子12的转速为80rpm~200rpm。减薄用清洗剂的适用人群有哪些?

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减薄用清洗剂的的参考价格大概是多少?安徽中芯国际用减薄用清洗剂销售电话

    来对所述待加工表面进行减薄。可选地,还包括:在所述磁转子运行一段时间后,更换所述磁转子。可选地,将待加工部件固定在托盘上包括:采用光刻胶将所述待加工部件固定在所述托盘上。可选地,对所述待加工部件的待加工表面进行抛光和减薄之后,还包括:对所述待加工部件进行清洗;采用特定溶液对所述光刻胶进行腐蚀,以将所述待加工部件与所述托盘分离。与现有技术相比,本发明所提供的技术方案具有以下优点:本发明所提供的抛光减薄装置和抛光减薄方法,采用托盘固定待加工部件,采用喷头向待加工部件的待加工表面喷涂抛光液,来对所述待加工表面进行抛光,采用磁转子旋转对待加工表面进行机械研磨,来对所述待加工表面进行减薄,由于减薄过程中待加工部件如inp基晶圆本身不旋转,因此,可以降低抛光减薄过程中对待加工部件如inp基晶圆的挤压应力,降低待加工部件如inp基晶圆的机械加工损伤。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。安徽中芯国际用减薄用清洗剂销售电话

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