激光基本参数
  • 品牌
  • 爱特蒙特
  • 类型
  • 元素半导体材料,化合物半导体材料
  • 材质
  • 硅,陶瓷,电木
激光企业商机

超快激光可用于微加工多种材料:金属、聚合物、半导体、透明材料等。需选择合适的激光参数进行修改。

激光微加工系统用于力学、工程与技术科学基础学科领域的工艺试验仪器。

激光微加工系统的技术指标:测量范围径向3.0m,球测试精度±0.046mm、锥测试精度±0.052mm,激光扫描距离89~184mm、扫描精度0.05mm。

激光微加工系统的主要功能:该设备不仅具有精度测量、形位误差分析功能,而且具有激光扫描,生成被扫描件的三维点云造型功能。


激光开封机的使用环境;山东激光修复

激光开封的目的:开封后,我们能清晰看到芯片表面状态,观察芯片划片道是否有崩边、裂纹,观察芯片表面是否存在异常,观察芯片logo信息,测量芯片尺寸和键合线线径,观察键合线材质,观察钝化层的完整性等芯片内部信息。

芯片开封前用X射线透(tou)视(shi)仪观察晶圆在塑封中的位置并识别键合线类型,在激光开封机上对应芯片晶圆位置,选择合适开封区域(大于晶圆位置即可,开封后要保证有一个凹槽,防止下一步腐蚀液外溢,损伤引脚),选择合适的扫描速度和功率,激光开封机减薄至键合丝出现,待化学开封。 光掩膜版激光磨片在芯片制造中,光刻类似于胶片相机中利用底片进行洗制照片的过程。

激光钻孔加工常见的4种方法:

3.树脂表面的直接成孔技术:具体操作方式有以下4种:a.基板是用树脂铜箔在内层板上压涂,然后将铜箔全部蚀刻除去,便可用CO2激光直接在树脂表面打孔,再继续按镀覆工艺进行打孔。b.用FR-4半固化片材及铜箔代替涂树脂铜箔的工艺方法,与用铜箔制作相类似。C.涂覆感光树脂及后续层压铜箔的工艺方法。d.采用干膜作为介质层,与铜箔一起进行压贴工艺制备。

4.超薄铜箔直接烧蚀的工艺方法:在用树脂铜箔两面压覆内层芯板后,可以用“半腐蚀法”将铜箔厚度17m经腐蚀减薄至5微米,再经过黑氧化处理,即可获得CO2激光成孔。

激光技术是20世纪与原子能、半导体及计算机齐名的四项重大发明之一.四十多年来,随着小型电子产品和微电子元器件需求量的日益增长,对于加工材料(尤其是聚合物材料以及高熔点材料)的精密处理日渐成为激光在工业应用中发展快速的领域之一.

激光加工是激光产业的重要应用,与常规的机械加工相比,激光加工更精密、更准确、更迅速.该技术利用激光束与物质相互作用的特性对包括金属与非金属的各种材料进行加工,涉及到了焊接、切割、打标、打孔,热处理、成型等多种加工工艺。激光的特性使之成为微处理的理想工具,广泛应用于微电子、微机械和微光学加工三大领域。

激光加工技术是利用激光束与物质相互作用的特性对材料(包括金属与非金属)进行切割、焊接、表面处理、打孔及微加工等的一门加工技术. 激光应用之激光传感器;

激光工艺:

激光剖面芯片,替代传统费时费力的冷热制模固定,人工研磨方法。激光可剖面BGA焊球、玻纤PCB板、开封后裸露的晶圆(配合PICOEYE显微视觉,切缝宽度可控制低至5微米)。

激光开盖,主要针对陶瓷、可伐、铝合金等金属封装。超快激光在时间维度聚焦,配合辅助工艺能确保无污染无残留开盖。

Eco-Blue激光光化学法无损开封,利用激光聚焦活化ECO-BLUE溶解液,破坏塑封交联结构并溶解,无损晶圆层,应用于晶圆级失效机理分析,替代危险的强酸腐蚀工艺。

激光逐层剥离微加工,利用高稳定及均匀分布的激光能量,逐层去除PI隔离层、RDL金属路线重布层,多层晶圆。主要IC类型有陀螺仪、传感器、硅通孔IC等。 微纳加工-激光掩模版的作用;武汉New Wave激光

超快激光可用于微加工多种材料;山东激光修复

激光掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”,用于转移高精密电路设计,承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩模版用于芯片的批量生产,是下游生产流程衔接的关键部分,是芯片精度和质量的决定因素之一。

激光掩膜版的功能类似于传统照相机的底片。制造商通常根据客户所需要的图形,用光刻机在原材料上光刻出相应的图形,将不需要的金属层和胶层洗去,即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩膜图形的感光空白板。通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作用主要体现为利用已设计好的图案,通过透光与非透光方式进行图像(电路图形)复制,从而实现批量生产。 山东激光修复

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