激光基本参数
  • 品牌
  • 爱特蒙特
  • 类型
  • 元素半导体材料,化合物半导体材料
  • 材质
  • 硅,陶瓷,电木
激光企业商机

激光钻孔加工常见的4种方法1.开铜窗法:先将RCC(涂上树脂的铜箔层)复压于内层板上,用光化方法制作窗口,然后用蚀刻露出树脂,再用激光烧除窗口内基材材料形成微盲孔。2.开大窗法:将铜窗直径增大到0.05mm左右,比底垫还大(通常根据孔径大小确定),当孔径为0.15mm时,底垫直径应在0.25mm左右,其大窗口直径为0.30mm。然后进行激光照射,即可烧出微盲孔,这样位置准确,可用于制作精确的铜窗底垫。它的主要特点是选择自由度大,进行激光照射时可选择另按内层底垫的程序打孔。这种方法有效地避免了由于铜窗直径与孔径相同所引起的偏置,从而使激光点不能对准正窗口,从而导致大量的大尺寸拼板表面有很多半孔或残孔。激光应用之激光雷达;成都激光修正

激光微加工特点介绍:

(1)范围广:几乎可以对任何材料进行雕刻切割。(2)安全可靠:采用非接触式加工,不会对材料产生机械挤压或机械应力.(3)精确细致;加工精度可达0.01mm.(4)效果一致:保证同一批次的加工效果一致.(5)高速快捷:可立即根据电脑输出的图样进行高速雕刻和切割,且激光切割的速度比线切割的速度要快很多.(6)成本低廉:不受加工数量的限制,对于小批量加工服务,激光加工更加便宜。(7)切割缝隙小:激光切割的割缝一般在0.02mm-0.05mm.(8)切割面光滑:激光切割的切割面无毛刺。(9)热变形小;激光加工的激光割缝细、速度快、能量集中,因此传到被切割材料上的热量小,引起材料的变形也非常小。

激光微加工形成方式:一是使用红外激光:将材料表面的物质加热并使其汽化(蒸发),以除去材料,这种方式通常被称为热加工.主要采用YAG激光(波长为1.06μm)。二是使用紫外激光:高能量的紫外光子直接破坏许多非金属材料表面的分子键,使分子脱离物体,这种方式不会产生高的热量,故被称为冷加工,主要采用紫外激光(波长为355nm). 成都激光修正激光开盖,主要针对陶瓷、可伐、铝合金等金属封装。

激光开封机是用来将元器件开封,即使用激光开封机去除元器件塑封料,近两年年铜线产品变多,客户对开封要求越来越高,导致激光开封机需求应运而生其安全方便,可靠性高等特点深受客户喜欢。

那么激光开封机使用范围有哪些呢?

1. 满足除金属陶瓷封装外,各种封装形式的IC器件。

2. 设备由控制系统、光学系统、升降工作台及冷却系统等组成

3. 开封为自动开封,工程人员设定好开封范围及光扫次数,系统自动执行开封动作。

4. 开封完毕器件上会留有少许胶体,需要用少量酸漂洗。

5. 可开封范围100mm*100mm。

6. 工控主机,液晶显示幕17″以上;

7. 单次开封是深度≤0.4mm;重复精度±0.003mm微能量精细镭射控制器。


激光工艺:

经过近20年的发展,目前比较成熟的工艺分为六种:Decap EMC 激光开封环氧树脂塑模封装Gel Removal 激光去除硅胶封装Cross section 激光剖面芯片De-lidding 激光开盖金属陶瓷封装Eco-Blue 激光光化学法无损晶圆开封De-layering 激光逐层剥离微加工。

激光开封是利用激光聚焦能量,汽化EMC(epoxy mould compound)塑封层的工艺。可替代传统的微型CNC机械磨除方法,结合GEL-BLUE工艺,可代替开封的后续滴酸工艺。

激光去除硅胶封装,是利用远红外激光器,汽化silicagel,结合GEL-BLUE溶液,完美除胶直达晶圆层。目前应用的IC主要类型有LED、IGBT、以及高压功率芯片。


PCB板0.1mm激光钻孔;

激光光掩膜主要分两个组成部分,即基板和不透光材料,不同掩模版的不透光材料有所不同。基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。不同种类光掩膜使用的不透光材料不同。光掩膜分为铬版(苏打玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃)、干版、菲林、凸版(APR)。铬版的不透光层是通过溅射方法镀在玻璃下方厚约 0.1um 的铬层。铬的硬度比玻璃略小,不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶,硬度小且易吸附灰尘,不过干版还有包膜和超微颗粒干版,后者可应用于芯片制造。超快激光微加工是超快激光应用;重庆FA100S激光

激光应用之激光冷却;成都激光修正

激光掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”,用于转移高精密电路设计,承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩模版用于芯片的批量生产,是下游生产流程衔接的关键部分,是芯片精度和质量的决定因素之一。

激光掩膜版的功能类似于传统照相机的底片。制造商通常根据客户所需要的图形,用光刻机在原材料上光刻出相应的图形,将不需要的金属层和胶层洗去,即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩膜图形的感光空白板。通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作用主要体现为利用已设计好的图案,通过透光与非透光方式进行图像(电路图形)复制,从而实现批量生产。 成都激光修正

上海波铭科学仪器有限公司致力于仪器仪表,是一家贸易型的公司。公司业务分为拉曼光谱仪,电动位移台,激光器,光电探测器等,目前不断进行创新和服务改进,为客户提供良好的产品和服务。公司从事仪器仪表多年,有着创新的设计、强大的技术,还有一批专业化的队伍,确保为客户提供良好的产品及服务。波铭科仪立足于全国市场,依托强大的研发实力,融合前沿的技术理念,及时响应客户的需求。

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