成都激光系统

使用超快激光脉冲的微加工技术被用于在透明材料中制造光子器件。通过在各种各样的玻璃中平移超快激光脉冲的焦点，这种技术已用在三维空间中集成光子器件，包括波导、耦合器和光栅。作为空隙形成在透明材料中的应用，已经报道了3D光学数据存储，其中空隙或纳米光栅的出现表示二进制值，而空隙的不存在表示二进制值。

超快激光玻璃微加工吸引人的应用之一是直接制造生物芯片，如微流体、光流体、微全分析系统，以执行生化样品的反应、检测、分析、分离和合成。为了在玻璃内部创建三维微流体结构，采用了两种方法，即液体辅助超快激光钻孔和超快激光辅助湿化学蚀刻。在液体辅助超快激光钻孔中超快激光3D烧蚀从与蒸馏水或其他液体接触的玻璃后表面开始。润湿液在其形成过程中渗入激光钻孔的通道中，并极大地促进了清理限制在所形成的狭窄微流体通道内的烧蚀碎屑，从而显着减轻了深钻时的碎屑堵塞问题。 大功率半导体激光器；成都激光系统

激光钻孔加工常见的4种方法：

3.树脂表面的直接成孔技术：具体操作方式有以下4种：a.基板是用树脂铜箔在内层板上压涂，然后将铜箔全部蚀刻除去，便可用CO2激光直接在树脂表面打孔，再继续按镀覆工艺进行打孔。b.用FR-4半固化片材及铜箔代替涂树脂铜箔的工艺方法，与用铜箔制作相类似。C.涂覆感光树脂及后续层压铜箔的工艺方法。d.采用干膜作为介质层，与铜箔一起进行压贴工艺制备。

4.超薄铜箔直接烧蚀的工艺方法：在用树脂铜箔两面压覆内层芯板后，可以用“半腐蚀法”将铜箔厚度17m经腐蚀减薄至5微米，再经过黑氧化处理，即可获得CO2激光成孔。 成都激光系统超快激光玻璃微加工。

半导体激光器失效机理与案例分析：

半导体激光器失效模式主要表现为工作期间无输出光强，或在恒定驱动电流下输出光功率退化失效，当输出功率退化至特定阈值，就会导致激光器失效。可靠性研究分析中心是国内专业从事电子元器件和各种电子产品失效分析技术研究和技术服务的机构。在对半导体激光器开展的失效分析工作中，经总结，半导体激光器的主要失效机理包括电极退化、欧姆接触、腔面退化、环境污染等因素。

失效机理介绍及相关案例如下文所示。

1）电极退化电极退化通常发生在金属与半导体材料的交界面，由于焊料材料扩散进半导体内部形成缺陷结构，大电流作用下导致缺陷位置热量积累，**终烧毁附近的金属化层[2]。

激光工艺：

激光剖面芯片，替代传统费时费力的冷热制模固定，人工研磨方法。激光可剖面BGA焊球、玻纤PCB板、开封后裸露的晶圆（配合PICOEYE显微视觉，切缝宽度可控制低至５微米)。

激光开盖，主要针对陶瓷、可伐、铝合金等金属封装。超快激光在时间维度聚焦，配合辅助工艺能确保无污染无残留开盖。

Eco-Blue激光光化学法无损开封，利用激光聚焦活化ECO-BLUE溶解液，破坏塑封交联结构并溶解，无损晶圆层，应用于晶圆级失效机理分析，替代危险的强酸腐蚀工艺。

激光逐层剥离微加工，利用高稳定及均匀分布的激光能量，逐层去除PI隔离层、RDL金属路线重布层，多层晶圆。主要IC类型有陀螺仪、传感器、硅通孔IC等。 超快激光微加工的技术应用；

常见、有代表性的激光应用之激光雷达：激光雷达用激光器作为辐射源，是激光技术与雷达技术相结合的产物 。由发射机 、天线 、接收机 、跟踪架及信息处理等部分组成。发射机是各种形式的激光器，如二氧化碳激光器、掺钕钇铝石榴石激光器、半导体激光器及波长可调谐的固体激光器等；天线是光学望远镜；接收机采用各种形式的光电探测器，如光电倍增管、半导体光电二极管、雪崩光电二极管、红外和可见光多元探测器件等。激光雷达采用脉冲或连续波2种工作方式，探测方法分直接探测与外差探测。 半导体激光器失效模式；南昌FA100S激光

激光应用之激光光谱；成都激光系统

半导体激光器具有输出波长范围广、结构简单和易于集成等优势，广泛应用于医疗、传感、光学通讯和航空航天等领域。本文主要介绍了半导体激光器的封装结构及失效机理与典型案例分析及半导体激光器的发展趋势。

封装结构半导体激光器，即采用半导体材料作为工作物质的激光器。其结构以半导体PN结为主要工作区，在正向偏压下，通过向激光器的PN结有源区注入载流子，引起有源区内的载流子数反转分布，位于导带的电子与价带的空穴在有源区进行复合，辐射出光子。半导体的两端的解理面构成光学谐振腔，提供光学反馈和控制输出光的方向与频率。

半导体激光器中的芯片主要通过薄膜沉积、匀胶显影、金属沉积、金属刻蚀及去胶等步骤完成芯片的制作。

半导体激光器的封装通常为全金属化焊接的气密性封装结构，保证器件良好的气密性及高可靠。半导体激光器的封装形式通常为TO（同轴）封装、插拔式同轴封装、窗口式同轴封装、尾纤式同轴封装、蝶式封装、气密小室封装、子载体封装等。 成都激光系统

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