激光基本参数
  • 品牌
  • 爱特蒙特
  • 类型
  • 元素半导体材料,化合物半导体材料
  • 材质
  • 硅,陶瓷,电木
激光企业商机

常见、有代表性的激光应用之激光成像医疗应用:近期,华科大某团队通过改变激光散斑成像的探测方式,极大提升了激光散斑成像对厚组织的成像能力,使得源于血管层的动态散斑信号强于静态散斑信息,从而提升了血流探测的信背比。

常见、有代表性的激光应用之激光测速:对被测物体进行两次有特定时间间隔的激光测距,取得在该时段内被测物体的移动距离,从而得到被测物体移动速度。

常见、有代表性的激光应用之激光测距:包括飞行时间法(TOF)、干涉法、三角法。三种方法由于测距原理不同,导致测距性能各不相同,如测量距离、精度等。飞行时间法常用于远距离测距,测量距离在20km以上;三角法和干涉法多用于近距离测距,由于干涉法的测距精度高,多用于精密仪器的检测。 在芯片制造中,光刻类似于胶片相机中利用底片进行洗制照片的过程。浙江光掩膜版激光

激光打标机常见的五种故障分析:

3.激光打标机的标识薄膜粘版产生原因:热压温度高于降解温度,涂料黏性加大就会造成粘版而使薄膜缠绕在全息压印辊上。解决方法:降低热压温度。

4.激光打标机的标识图案暗淡无光解决方法:检查加热温度是否太低,模压压力是否下降。工艺控制要点:模压压力的设定应综合考虑模压温度、全息材料的种类或涂料层软化点模压版的情况等。压力过高,模压版易损坏或将全息材料压坏;压力过低,模压图像不清楚、不完整;对于圆压圆方式,两边压力辊的初始压力一般在0.08MPa左右;模压开始后慢慢将压力辊的压力均匀加大至030~0.50MPa。模压速度可根据压印质量机器性能等综合调节。

5.激光打标机的标识图案一块清楚一块模糊产生原因:热压装置的温度分布不均匀或者模压版不平整。 Mask激光激光开封机的使用环境;

激光钻孔加工常见的4种方法:

3.树脂表面的直接成孔技术:具体操作方式有以下4种:a.基板是用树脂铜箔在内层板上压涂,然后将铜箔全部蚀刻除去,便可用CO2激光直接在树脂表面打孔,再继续按镀覆工艺进行打孔。b.用FR-4半固化片材及铜箔代替涂树脂铜箔的工艺方法,与用铜箔制作相类似。C.涂覆感光树脂及后续层压铜箔的工艺方法。d.采用干膜作为介质层,与铜箔一起进行压贴工艺制备。

4.超薄铜箔直接烧蚀的工艺方法:在用树脂铜箔两面压覆内层芯板后,可以用“半腐蚀法”将铜箔厚度17m经腐蚀减薄至5微米,再经过黑氧化处理,即可获得CO2激光成孔。

微纳加工-激光掩模版的作用:

光刻掩模版,别称“掩模版”、“光刻板”、“光罩”、“遮光罩”,一般使用玻璃或者石英表面覆盖带有图案的金属图形,实现对光线的遮挡或透过功能,是微电子光刻工艺中的一个工具或者板材。我们利用光罩可以实现微电子工艺中的图形传递。光刻掩模版的加工技术主要有两种:其一为激光直写技术;其二为电子束直写部分,两种技术区别在于光源不同,实现的精度有所区别。掩模版是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形,光线透过它,把设计图形透射在光刻胶上,掩膜版的功能类似于传统照相机的“底片”。我们可以通过把图形做在掩模版上通过下一步曝光工艺(下期讲解)转移到我们的基底上,基底上有对应的相关图形了,但是通过曝光基底上还没有刻上图形,只是光刻胶有了相关图形。光刻胶的是一种对光敏感的材料,通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化。有可能会变容易溶解也可能变得不容易,这时候再通过显影液,不稳定的部分将会被处理掉,剩下的就是我们想要的图形。 激光应用之激光成型;

常见、有代表性的激光应用之激光清洗:可看做是一种烧蚀工艺,通过将激光能量汇聚到材料表面并被吸收后使表层、涂层气化的工艺过程,同时对底层基材的影响小。该工艺可应用于多种材料,包括金属、塑料、复合材料和玻璃。

常见、有代表性的激光应用之激光熔覆:使用激光作为热源将金属涂层添加到部件表面上的过程。该工艺通常用于生成功能性更高的保护涂层及修复损坏或磨损的表面。激光熔覆可延长部件受到腐蚀、磨损或冲击的设备和机器的寿命。如,工程机械行业采用该技术提高其产品的耐磨性并延长设备的使用寿命。通常,利用激光来熔化金属粉末,以在基底上添加涂层,可在钢或不锈钢基材上应用保护涂层,例如碳化钨、镍合金或钴合金。该工艺可在涂层和基体材料之间形成高结合强度和低稀释率的冶金结合,从而增强金属的防腐蚀性与耐磨性。 激光打标机的故障分析;HSL-5500激光去层

激光应用之激光切割;浙江光掩膜版激光

激光光掩膜主要分两个组成部分,即基板和不透光材料,不同掩模版的不透光材料有所不同。基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。不同种类光掩膜使用的不透光材料不同。光掩膜分为铬版(苏打玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃)、干版、菲林、凸版(APR)。铬版的不透光层是通过溅射方法镀在玻璃下方厚约 0.1um 的铬层。铬的硬度比玻璃略小,不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶,硬度小且易吸附灰尘,不过干版还有包膜和超微颗粒干版,后者可应用于芯片制造。浙江光掩膜版激光

上海波铭科学仪器有限公司是一家集研发、制造、销售为一体的****,公司位于望园南路1288弄80号1904、1909室,成立于2013-06-03。公司秉承着技术研发、客户优先的原则,为国内拉曼光谱仪,电动位移台,激光器,光电探测器的产品发展添砖加瓦。在孜孜不倦的奋斗下,公司产品业务越来越广。目前主要经营有拉曼光谱仪,电动位移台,激光器,光电探测器等产品,并多次以仪器仪表行业标准、客户需求定制多款多元化的产品。上海波铭科学仪器有限公司每年将部分收入投入到拉曼光谱仪,电动位移台,激光器,光电探测器产品开发工作中,也为公司的技术创新和人材培养起到了很好的推动作用。公司在长期的生产运营中形成了一套完善的科技激励政策,以激励在技术研发、产品改进等。上海波铭科学仪器有限公司注重以人为本、团队合作的企业文化,通过保证拉曼光谱仪,电动位移台,激光器,光电探测器产品质量合格,以诚信经营、用户至上、价格合理来服务客户。建立一切以客户需求为前提的工作目标,真诚欢迎新老客户前来洽谈业务。

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常见、有代表性的激光应用之激光冷却:利用激光和原子的相互作用减速原子运动以获得低温原子的高新技术。这一重要技术早期主要目的是为了精确测量各种原子参数,用于高分辨率激光光谱和超高精度的量子频标(原子钟),后来成为实现原子玻色-爱因斯坦凝聚的关键实验方法。激光冷却有许多应用,如:原子光学、原子刻蚀、...

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